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Liquid deposition photolithography for submicrometer resolution three-dimensional index structuring with large throughput

引用

Light(Science & Applications) 2013年第1期2卷 209-214页

作者： Adam C Urness Eric D Moore keith k kamysiak Michael C Cole Robert R McLeod Department of Electrical Engineering University of Colorado at BoulderBoulderCO 80309USA.

Photonic devices increasingly require three-dimensional control of refractive index,but existing fabrication methods such as femtosecond micromachining,multilayer lithography and bulk diffusion can only address a select scale range,are often limited in complexity or thickness and have low *** introduce a new fabrication method and polymeric material that can efficiently create mm^(3) optical devices with programmable,gradient index of refraction with arbitrary feature *** contrast of 0.1 is demonstrated,which is 100 times larger than femtosecond micromachining,and 20 times larger than commercial holographic *** is achieved by repetitive microfluidic layering of a self-developing photopolymer structured by projection *** process has the unusual property that total fabrication time for a fixed thickness decreases with the number of layers,enabling fabrication 10^(5) faster than femtosecond *** demonstrate the process by sequentially writing 100 layers to fabricate a mm thick waveguide array.

关键词： holographic photopolymers lithography photonic device fabrication single photon polymerization three-dimensional structuring

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