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Thermal scanning probe lithography-a review

Microsystems & Nanoengineering 2020年第1期6卷 1117-1140页

作者： Samuel Tobias Howell Anya Grushina felix holzner Juergen Brugger Microsystems Laboratory Ecole Polytechnique Federale de Lausanne(EPFL)1015 LausanneSwitzerland Heidelberg Instruments Nano-SwissLitho AG Technoparkstrasse 18005 ZürichSwitzerland

Fundamental aspects and state-of-the-art results of thermal scanning probe lithography(t-SPL)are reviewed here.t-SPL is an emerging direct-write nanolithography method with many unique properties which enable original or improved nano-patterning in application fields ranging from quantum technologies to material *** particular,ultrafast and highly localized thermal processing of surfaces can be achieved through the sharp heated tip in t-SPL to generate high-resolution *** investigate t-SPL as a means of generating three types of material interaction:removal,conversion,and *** of these categories is illustrated with process parameters and application examples,as well as their respective opportunities and *** intention is to provide a knowledge base of t-SPL capabilities and current limitations and to guide nanoengineers to the best-fitting approach of t-SPL for their challenges in nanofabrication or material *** potential applications of nanoscale modifications with thermal probes still wait to be explored,in particular when one can utilize the inherently ultrahigh heating and cooling rates.

关键词： utilize heated limitations

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