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A New Method for Thin Film Deposition-Faced Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Sources Enhanced Direct-Current Magnetron Sputtering

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Chinese Physics Letters 2000年第8期17卷 586-588页

作者： XU Jun MA Teng-cai lu Wen-qi XIA Yuan-liang deng xin-lu State Key Laboratory for Materials Modification by Laser Ionand Electron BeamsDepartment of PhysicsDalian University of TechnologyDalian 116024

A new reactive magnetron sputtering system enhanced by the faced microwave electron cyclotron resonance plasma source was designed and amorphous CN_(x) films has been prepared by using this *** character ization of the films by interference microscopy,atomic force microscopy,and x-ray photoelectron spectroscopy shows that the deposition rate is strongly affected by the direct-current bias,and the films are composed by a single carbon nitride phase and the N/C ratio is 4:3.2,which is close to that of C_(3)N_(4)(4:3).

关键词： Electron Plasma microwave

Preparation of TiO_(x)/γ-Al_(2)O_(3) Catalyst on Powdery γ-Al_(2)O_(3) by Using Reactive Sputtering Deposition

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Chinese Physics Letters 1999年第6期16卷 426-427页

作者： lu Wen-qi XU Zhen-feng deng xin-lu XU Jun ZHANG Jia-liang ZHU Ai-min GONG Wei-min State Key Laboratory for Material Modification by Laser Ion and Electron BeamsDalian University of TechnologyDalian 116024 Dandong Textile College Dandong 118003

A layer of TiO_(x) was deposited on powdery γ-Al_(2)O_(3) by using Sat-target magnetron sputtering in microwave electron cyclotron resonance plasma.A vibrator was developed to coat the γ-Al_(2)O_(3) particles evenly by TiO_(x).The conversion efficiency of methane and both the yield and the selectivity of C_(2) hydrocarbons and C_(2)H_(2) were revealed to be superior to that by conventional chemical *** use of vibrator is effective.

关键词： method. (x) evenly

Chemical Structure of Carbon Nitride Films Prepared by MW-ECR Plasma Enhanced Magnetron Sputtering

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材料热处理学报 2004年第05B期25卷 818-820页

作者： XUJun,GAOPeng DINGWan-yu LIxin dengxin-lu DONGChuang StateKeyLab.forMaterialsModificationbyLaser IonandElectronBeamsDepartmentofPhysicsDalianUniversityofTechnologyDalian116024P.R.China

Amorphous carbon nitride thin films were prepared by plasma-enhanced DC magnetron sputtering using twinned microwave electron cyclotron resonance plasma sources. Chemical structure of deposited films was investigated using X-ray photoelectron spectroscopy and Fourier transform infrared spectroscopy. The results indicate that the deposition rate is strongly affected by direct current bias, and the films are mainly composed of a single amorphous carbon nitride phase with N/C ratio close to C3N4, and the bonding is predominantly of C^N type.

关键词：碳氮化物 MW-ECR 磁控管溅射等离子增强沉积化学结构

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类金刚石薄膜的表面性能研究

无机材料学报 2005年第3期20卷 720-726页

作者：刘成龙杨大智邓新绿齐民大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室大连理工大学材料系大连116024 大连理工大学材料系大连116024

利用微波-ECR等离子体源全方位离子注入设备,采用PSII与PSII+PECVD工艺在医用316L不锈钢上制备碳改性薄膜.Raman光谱分析表明,薄膜为典型的类金刚石(DLC) 薄膜.静态接触角测量技术研究表明:在酸碱溶液中,DLC薄膜表面价键遭到破坏,稳定... 详细信息

利用微波-ECR等离子体源全方位离子注入设备,采用PSII与PSII+PECVD工艺在医用316L不锈钢上制备碳改性薄膜.Raman光谱分析表明,薄膜为典型的类金刚石(DLC) 薄膜.静态接触角测量技术研究表明:在酸碱溶液中,DLC薄膜表面价键遭到破坏,稳定性降低.不同工艺制备的DLC薄膜表面能在40mN/m左右,极性分量大于色散分量,呈现出疏水性质.DLC薄膜表面能高低取决于表面碳碳键与粗糙度的变化.

关键词： DLC薄膜表面能 316L不锈钢接触角

微波ECR全方位离子注入制备类金刚石碳膜的结构及摩擦学性能研究

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物理学报 2005年第7期54卷 3241-3246页

作者：高鹏徐军邓新绿王德和董闯大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连116024

利用微波ECR全方位离子注入技术,在单晶硅(100)衬底上制备类金刚石薄膜.分析结果表明,所制备的类金刚石碳膜具有典型的类金刚石结构特征,薄膜均匀、致密,表面粗糙度小,摩擦系数小.其中,薄膜的结构和性能与氢流量比关系密切,随氢流量比... 详细信息

利用微波ECR全方位离子注入技术,在单晶硅(100)衬底上制备类金刚石薄膜.分析结果表明,所制备的类金刚石碳膜具有典型的类金刚石结构特征,薄膜均匀、致密,表面粗糙度小,摩擦系数小.其中,薄膜的结构和性能与氢流量比关系密切,随氢流量比的增加,薄膜的沉积速率减小,表面粗糙度降低,且生成sp3键更加趋向于金刚石结构,表面能更低,从而使摩擦系数大幅降低.

关键词：全方位离子注入类金刚石碳膜拉曼光谱摩擦磨损

Ru doping triggering reconstruction of cobalt phosphide for coupling glycerol electrooxidation with seawater electrolysis

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Journal of Energy Chemistry 2025年第1期100卷 317-326页

作者： Binglu deng Jie Shen Jinxing lu Chuqiang Huang Zhuoyuan Chen Feng Peng Yunpeng Liu School of Materials Science and Hydrogen Energy Foshan University School of Chemistry and Chemical Engineering Guangzhou University Guangdong Key Laboratory for Hydrogen Energy Technologies

Seawater electrolysis is a promising approach for sustainable energy without relying on precious ***,the large-scale seawater electrolysis is hindered by low catalytic efficiency and severe anode corrosion caused by the harmful *** contrast to the oxygen evolution reaction （OER）and chlorin ion oxidation reaction （ClOR）,glycerol oxidation reaction （GOR） is more thermodynamically and kinetically favorable ***,a Ru doping cobalt phosphide （Ru-CoP2） is proposed as a robust bifunctional electrocatalyst for seawater electrolysis and GOR,for the concurrent productions of hydrogen and value-added *** in situ and ex situ characterization analyses demonstrated that Ru doping featured in the dynamic reconstruction process from Ru-CoP2to Ru-CoOOH,accounting for the superior GOR *** coupling GOR with hydrogen evolution was realized by employing Ru-CoP2as both anode and cathode,requiring only a low voltage of 1.43 V at 100 mA cm-2,which was 250 m V lower than that in alkaline *** work guides the design of bifunctional electrocatalysts for energy-efficient seawater electrolysis coupled with biomass resource upcycling.

关键词： Glycerol electrooxidation Hydrogen evolution Ru doping Cobalt phosphide Bifunctional electrocatalysts

基片温度对SiNx薄膜结晶状态及机械性能的影响

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物理学报 2008年第8期57卷 5170-5175页

作者：丁万昱徐军陆文琪邓新绿董闯大连交通大学材料科学与工程学院光电材料与器件研究所大连116028 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连116024

利用微波电子回旋共振增强磁控反应溅射法在不同基片温度下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、透射电子显微镜、台阶仪、纳米硬度仪等表征技术,研究了基片温度对SiNx薄膜结晶状态、晶粒尺寸、晶体取向等结晶性能以及薄膜的生长... 详细信息

利用微波电子回旋共振增强磁控反应溅射法在不同基片温度下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、透射电子显微镜、台阶仪、纳米硬度仪等表征技术,研究了基片温度对SiNx薄膜结晶状态、晶粒尺寸、晶体取向等结晶性能以及薄膜的生长速率、硬度等机械性能的影响,并探讨了薄膜结晶性能与机械性能之间的关系.研究结果表明,在基片温度低于300℃时制备的SiNx薄膜以非晶状态存在,硬度值仅为18 GPa左右;基片温度在320—620℃范围内,SiNx薄膜中出现纳米晶粒,且晶粒尺寸随沉积温度的增加而增加,在沉积温度为620℃时达到最大,为20±1.5nm;当沉积温度为700℃时,SiNx薄膜的晶粒尺寸突然减小,但由于此时晶粒密度为最大,因此薄膜硬度达到最大值(36.7 GPa).

关键词： SiNx 磁控溅射微观结构硬度

微波ECR磁控溅射制备SiN_x薄膜的XPS结构研究

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物理学报 2009年第6期58卷 4109-4116页

作者：丁万昱徐军陆文琪邓新绿董闯大连交通大学光电材料与器件研究所大连116028 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连116024

利用微波电子回旋共振等离子体增强非平衡磁控溅射法在不同N2流量下制备无氢SiNx薄膜.通过X光电子能谱、纳米硬度仪等表征技术,研究了不同N2流量下制备的SiNx薄膜的化学键结构、化学键含量、元素配比及各元素沿深度分布.研究结果表明,N... 详细信息

利用微波电子回旋共振等离子体增强非平衡磁控溅射法在不同N2流量下制备无氢SiNx薄膜.通过X光电子能谱、纳米硬度仪等表征技术,研究了不同N2流量下制备的SiNx薄膜的化学键结构、化学键含量、元素配比及各元素沿深度分布.研究结果表明,N2流量是影响SiNx薄膜化学键结构、元素配比、元素延深度分布等性质的主要因素.在N2流量为1sccm的条件下制备的SiNx薄膜呈富Si态;在N2流量为2sccm的条件下制备的SiNx薄膜中Si—N键含量最高,可达到94.8%,化学吸附主要发生在薄膜表面,同时薄膜具有较好的机械性能,硬度值可达到22.9GPa;在N2流量为20sccm条件下制备的SiNx薄膜,薄膜表面含有46.8%的N—Si—O键及18.6%的Si—O键结构,薄膜内部含有36.8%的N—Si—O键及12.5%的Si—O键结构,表明薄膜结构疏松,在空气中易被氧化,化学吸附在薄膜表面及内部同时发生,因此薄膜具有较差的机械性能,硬度值仅为12GPa.

关键词： SiNx 磁控溅射 XPS 化学键结构

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铜上采用过渡层沉积类金刚石薄膜的研究

物理学报 2006年第7期55卷 3748-3755页

作者：王静刘贵昌汲大鹏徐军邓新禄大连理工大学化工学院大连116012 大连理工大学三束改性国家重点实验室大连116012

将等离子增强非平衡磁控溅射物理气相沉积(PEUMS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(MW-ECRPECVD)技术相结合,通过制备不同的过渡层,在铜基上成功地制备了类金刚石膜.拉曼光谱分析表明,所制备的碳膜具有典型的类金刚石... 详细信息

将等离子增强非平衡磁控溅射物理气相沉积(PEUMS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(MW-ECRPECVD)技术相结合,通过制备不同的过渡层,在铜基上成功地制备了类金刚石膜.拉曼光谱分析表明,所制备的碳膜具有典型的类金刚石结构特征.检测结果表明,随着沉积偏压的增大,D峰和G峰均向高波数漂移,ID/IG值增大,表面粗糙度减小,而平均硬度和弹性模量呈先增大后减小的趋势.

关键词：铜基体类金刚石膜过渡层拉曼光谱