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作者

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语言

  • 2,045 篇 中文
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检索条件"作者=YANG Si-Ze"
2243 条 记 录,以下是1-10 订阅
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High-Power-Density Plasma Deposition of Diamond-Like Carbons Films
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Chinese Physics Letters 1994年 第9期11卷 558-560页
作者: YAN Pengxun yang si-ze yang Jie LI Qing LI Bing LIU Chizi CHEN Xishen Institute of Physics Academia SinicaBeijing 100080
We present a new method utilizing a high-power-density plasma for depositing diamond-like carbon(DLC)*** main advantage of this technique is the possibility that films with good adhesion to the substrate can be prepar... 详细信息
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Mechanical Performances of Carbonitriding Films on Cast Iron by Plasma Electrolytic Carbonitriding
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Chinese Physics Letters 2011年 第11期28卷 243-245页
作者: PANG Hua ZHANG Gu-Ling WANG Xing-Quan LV Guo-Hua CHEN Huan yang si-ze Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics Institute of PhysicsChinese Academy of SciencesBeijing 100190 Fujian Key Laboratory for Plasma and Magnetic Resonance Department of AeronauticsSchool of Physics and Mechanical and Electrical EngineeringXiamen UniversityXiamen 361005 College of Science Minzu University of ChinaBeijing 100081
The plasma electrolytic carbonitriding(PEC/N)process is applied to cast iron using an aqueous solution of acetamide and glycerin as the *** properties of the carbonitriding layers on cast iron are *** the PEC/N treatm... 详细信息
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Deactivation of Enterococcus Faecalis Bacteria by an Atmospheric Cold Plasma Brush
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Chinese Physics Letters 2012年 第7期29卷 187-189页
作者: CHEN Wei HUANG Jun DU Ning LIU Xiao-Di LV Guo-Hua WANG Xing-Quan ZHANG Guo-Ping GUO Li-Hong yang si-ze Key Laboratory of Soft Matter Physics Beijing National Laboratory for Condensed Matter PhysicsInstitute of PhysicsChinese Academy of SciencesBeijing 100190 Department of Oral Biology Peking University School and Hospital of StomatologyBeijing 100080 Fujian Key Laboratory for Plasma and Magnetic Resonance Department of AeronauticsSchool of Physics and Mechanical&Electrical EngineeringXiamen UniversityXiamen 361005
An atmospheric cold plasma brush suitable for large area and low-temperature plasma-based sterilization is designed and used to treat enterococcus faecalis *** results show that the efficiency of the inactivation proc... 详细信息
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电源占空比对镁合金等离子体电解氧化陶瓷层腐蚀性能的影响
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功能材料 2013年 第1期44卷 14-16,21页
作者: 李立 吕国华 杨思泽 中国民航大学理学院 天津300300 中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室 北京100086
Na2siO3-NaF-NaOH混合电解液中,利用等离子体电解氧化技术在AZ91D镁合金表面制备了氧化陶瓷层。重点研究了电源占空比对氧化陶瓷层腐蚀性能的影响。用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对氧化陶瓷层表面形貌、微观结构和相组成进行了分析... 详细信息
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Balmer-alpha and Balmer-beta Stark line intensity profiles for high-power hydrogen inductively coupled plasmas
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Chinese Physics B 2014年 第7期23卷 499-504页
作者: 王松柏 雷光玖 刘东平 杨思泽 School of Physics and Mechanical&Electrical Engineering Xiamen University College of Physics and Information Engineering Fuzhou University Southwestern Institute of Physics School of Physics and Mechanical & Electrical Engineering Xiamen University
We compare Balmer-alpha (Ha) and Balmer-beta (Hβ) emissions from high-power (1.0-6.0 kW) hydrogen inductively coupled plasmas (ICPs), and propose region Ⅰ (0.0-2.0 kW), region Ⅱ (2.0-5.0 kW), and region... 详细信息
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高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析
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物理学报 2006年 第1期55卷 351-356页
作者: 杨武保 范松华 戈敏 张谷令 沈曾民 杨思泽 中国石油大学机电学院 北京102249 中国科学院物理研究所 北京100080 北京化工大学碳纤维研究所 北京100029
利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上,在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明,衬底材料对制备该新型... 详细信息
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脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究
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物理学报 2004年 第2期53卷 503-507页
作者: 刘元富 张谷令 王久丽 刘赤子 杨思泽 中国科学院物理研究所 北京100080
利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 4 5号钢基材上制备出了超硬耐磨TiN薄膜 .利用XRD ,XPS ,AES ,SEM等手段分析了薄膜的成分及显微组织结构 ,并测试了薄膜的硬度分布及摩擦磨损性能 .结果表明 :薄膜主要组成相为TiN ,薄膜... 详细信息
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大气压等离子体处理对生菜种子萌发和生长发育的影响
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华北农学报 2007年 第6期22卷 108-113页
作者: 王敏 陈青云 陈光良 杨思泽 中国农业大学农学与生物技术学院 北京100094 中国科学院物理研究所 北京100080
利用自制新型大气压等离子体装置对生菜种子进行处理,研究了不同电压的大气压等离子体处理对生菜种子萌发、幼苗生长及产量品质的影响。试验结果表明:不同电压的等离子体处理对生菜种子萌发的影响效果不同。其中,5610和5950V处理对... 详细信息
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FTIR监测金刚石薄膜生长的研究
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光谱学与光谱分析 2008年 第5期28卷 1049-1051页
作者: 张先徽 冯克成 孙岳 王兴权 孙秀平 杨思泽 长春理工大学理学院 吉林长春130022 中国科学院物理研究所 北京100080
用电子回旋共振等离子体(ECR)系统,在气压、衬底温度以及微波功率等外界条件不变的情况下,仅改变甲烷浓度制备金刚石薄膜,利用傅里叶红外吸收光谱仪(FTIR)对甲烷浓度为6%的ECR系统进行实时监测,分析研究了不同沉积时间条件下,甲烷和氢... 详细信息
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射频输入功率对类金刚石薄膜性能的影响
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表面技术 2009年 第3期38卷 41-43,60页
作者: 齐海成 冯克成 杨思泽 鞍山师范学院物理系 辽宁鞍山114007 长春理工大学理学院 吉林长春130022 中国科学院物理研究所 北京100080
为了得到类金刚石薄膜的性质和制备参数之间的对应关系,利用射频等离子体增强化学气相淀积在单晶硅的(100)面上制备了类金刚石薄膜,反应气体是甲烷和氢气的混合气。研究了射频源的输入功率对类金刚石薄膜性能的影响。采用Raman光谱、X... 详细信息
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