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检索条件"作者=Xilong zheng"
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2,5-二特辛基对苯二酚合成工艺研究
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化学试剂 2022年 第12期44卷 1838-1842页
作者: 沈京华 张念椿 薛冰凡 郑鹤立 西陇科学股份有限公司 广东广州510535 达高工业技术研究院(广州)有限公司 广东广州510535
2,5-二特辛基对苯二酚是一种性能优良的酚类抗氧化剂,选用三氟甲磺酸作为催化剂,催化二异丁烯与对苯二酚的傅克烷基化反应来进行合成。比较了三氟甲磺酸与硫酸、磷酸的催化性能,结果表明三氟甲磺酸在较低的催化剂浓度下即表现出较高的... 详细信息
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金平漏斗苣苔,云南苦苣苔科植物一新种(英文)
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植物分类与资源学报 2015年 第6期37卷 727-732页
作者: 陈文红 陈润征 喻智勇 朱欣田 税玉民 中国科学院东亚生物多样性与生物地理学重点实验室 昆明650201 云南省喀斯特地区生物多样性保护研究会 昆明650201 中国科学院大学 北京100049 金平分水岭国家级自然保护区管理局 云南金平651500
报道云南中越边境西隆山苦苣苔科一新种,即金平漏斗苣苔(Raphiocarpus jinpingensis *** & ***)。该新种在花冠形态和淡黄色花色特征上近似合萼漏斗苣苔(***(Pellegr.)Burtt),但是植株密被柔毛、萼筒与萼裂片近等长而与后者不同。对该... 详细信息
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柠檬酸铁铵中铁含量对外观和性质的影响
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广东化工 2018年 第15期45卷 104-105页
作者: 宋振 王宇 杨志锋 许振良 郑鹤立 郑安丽 张慕伸 西陇科学股份有限公司 广东汕头515064
探讨了铁(Ⅲ)和铁(Ⅱ)含量与柠檬酸铁铵颜色变化的关系和原因,通过实验寻找引起柠檬酸铁铵颜色转变的一般规律。分析了铁(Ⅱ)含量对柠檬酸铁铵光致还原性的影响。
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西龙河峄山断层带水源地开采井位确定中水质因素分析
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地球与环境 2007年 第2期35卷 171-175页
作者: 刘志峰 郭晓波 周莹 刘治政 吴晓东 林洪孝 山东农业大学水利土木工程学院 山东泰安271018 兖州矿业集团东华地质工程分公司 山东邹城273500
水质因素是地下水水源地开采井位确定中必须考虑的重要因素之一。该文根据西龙河峄山断层带水源地具体水文地质概况及备选开采井水质监测数据,进行了详细的备选开采井水质因素分析:不但利用模糊综合评判法,建立了地下岩溶水环境质量评... 详细信息
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多孔纳米纤维的制备与表征
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广东化工 2018年 第17期45卷 61-62,23页
作者: 马晓华 汤初阳 庄黎伟 许振良 魏永明 杨虎 李金荣 宋振 郑安丽 郑鹤立 西陇科学股份有限公司 广东汕头515000
纳米纤维广泛地应用于防护服,以及化工、医药产品的提纯和过滤等。本文通过在静电纺丝溶液中添加Na HCO3,用盐酸反应去除的方法在纳米纤维上制备纳米孔,增加其比表面积等,考察了Na HCO_3/PES溶液粘度等对其孔结构和比表面积的影响。研... 详细信息
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浸渍提拉法制备TiO2/不锈钢中空纤维复合膜及其应用
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膜科学与技术 2020年 第3期40卷 55-64页
作者: 高佳明 马晓华 汤初阳 许振良 庄黎伟 魏永明 杨虎 李金荣 宋振 郑鹤立 西陇科学股份有限公司 汕头515000 化学工程国家重点实验室 华东理工大学膜科学与工程研发中心上海200237
大孔无机膜基底的表面改性,一般采用溶胶凝胶法以求表面均匀性.但该法合成工艺复杂,控制因素较多,限制了其在工业领域的应用.利用悬浮液体系改性不锈钢中空纤维膜,采用浸渍提拉法在不锈钢膜表面涂覆25 nm的TiO2粒子,通过500℃的高温烧... 详细信息
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电子化学品分离纯化材料制备及其应用技术进展
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山东化工 2022年 第22期51卷 73-77,80页
作者: 张凯 张念椿 魏永明 马晓华 杨虎 庄黎伟 汤初阳 李金荣 郑鹤立 许振良 西陇科学股份有限公司 广东汕头515000
电子化学品又被称为电子化工材料,是集成电路(IC)、平板显示(FPD)、印刷电路板(PCB)行业的基础性材料。电子化学品大体上包括这四类:超净高纯化学试剂、光刻胶、封装材料、液晶材料。随着电子工业的快速发展,对电子化学品的纯度提出了... 详细信息
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泰勒—库特反应器流场演变的CFD研究
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广东化工 2022年 第12期49卷 5-8页
作者: 杨栋 张念椿 魏永明 马晓华 杨虎 庄黎伟 汤初阳 李金荣 郑鹤立 许振良 西陇科学股份有限公司 广东汕头515000
本文建立了泰勒—库特反应器流场的CFD模型,模拟研究了反应器内筒不同转速下,环隙流场结构的演变。结果显示,当转速为0.274 rad/s,环隙流场为库特泊肃叶流;当转速从0.315 rad/s升高至0.684 rad/s时,环隙流场从层流泰勒涡流转变为波流泰... 详细信息
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光刻胶树脂结构与性能技术进展
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山东化工 2022年 第22期51卷 117-120,124页
作者: 陈寿天宝 张念椿 魏永明 马晓华 杨虎 庄黎伟 汤初阳 李金荣 郑鹤立 许振良 西陇科学股份有限公司 广东汕头515000
光刻工艺随集成电路的发展成为核心环节,被誉为集成电路制造这顶皇冠上最耀眼的明珠。而光刻技术离不开其辅助材料光刻胶,每一代光刻技术得到的突破都将在相应光刻胶技术上得到体现,从436 nm光刻技术到248 nm KrF光刻技术、193 nm ArF... 详细信息
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静电喷雾制备NH_(2)-UIO-66(Zr)复合纳滤膜及其性能研究
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广东化工 2022年 第12期49卷 24-27页
作者: 龚信瑀 张念椿 谢非 庄黎伟 魏永明 杨虎 李金荣 宋振 郑鹤立 马晓华 汤初阳 许振良 西陇科学股份有限公司 广东汕头515000
利用静电喷雾方法成功制备了聚乙烯亚胺(PEI)/均苯三甲酰氯(TMC)荷正电纳滤膜,并在此基础上引入NH_(2)-UIO-66(Zr),进一步提升了复合纳滤膜的性能。通过FTIR、SEM、EDS、Zeta电位等表征手段研究了复合膜结构、形貌和表面电荷,并采用错... 详细信息
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