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Effect of oxygen content on the structural and optical properties of ZnO films grown by atmospheric pressure MOCVD

Progress in Natural Science:Materials International 2013年第1期23卷 44-50页

作者： Sajjad Hussain Yaqoob Khan volodymyr khranovskyy Riaz Muhammad Rositza Yakimova Department of Applied Physics Federal Urdu University of ArtsScience and TechnologyIslamabadPakistan Nanosciences and Catalysis Division National Centre for PhysicsQuaid-e-Azam University Campus45320 IslamabadPakistan Department of Physics Chemistryand Biology(IFM)Linkǒping UniversityLinkǒping SE-581 83Sweden

Atmospheric pressure MOCVD was used to deposit ZnO layers on sapphire and homoepitaxial template under different oxygen flow *** content affects the lattice constant value and texture coefficient of the films as evidenced by the θ-2θ peaks position and their *** deposited at lower oxygen flow rate possess higher value of strain and *** films deposited at high oxygen flow rates show intense UV emissions while samples prepared under oxygen deficient conditions exhibited defect related emission along with UV *** results are compared to the ZnO films deposited homoepitaxially on annealed ZnO *** data obtained suggest that ZnO stoichiometry is responsible for the structural and optical quality of ZnO films.

关键词： APMOCVD XRD PL Near-band-edge(NBE)

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