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离子束反应溅射沉积SiO_2薄膜的光学特性
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应用光学 2011年 第2期32卷 236-240页
作者： 米高园 朱昌 戚云娟 达斯坦科 格拉索夫 扎瓦斯基 西安工业大学 陕西西安710032 白俄罗斯国立信息与无线电大学 白俄罗斯明斯科220013
主要研究采用离子束反应溅射(RIBS)制备SiO2薄膜的折射率、消光系数、化学计量比与氧气在氩氧混合工作气体中含量及其沉积速率的关系。研究结果表明:RIBS制备的SiO2薄膜在0.63μm处折射率n=1.48,消光系数小于10-5;随着沉积速率的增加,... 详细信息
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菜单成本和菲利普斯曲线
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理论经济学 2008年 第8期
作者： Mikhail golosov Robert E.Lucas Jr.
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热蒸发沉积TiO_2薄膜的光学及激光损伤特性
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真空 2019年 第1期56卷 39-44页
作者： 徐均琪 李候俊 李绵 王建 苏俊宏 基玛·格拉索夫 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 西安710021 白俄罗斯国立信息与无线电电子大学 明斯克220013
采用电子束热蒸发技术,用不同沉积速率制备了TiO_2薄膜。根据透射率谱计算了薄膜的光学带隙,采用椭偏法测量了薄膜的折射率、消光系数及厚度,分析了薄膜内部的电场强度分布,对其激光损伤特性进行了研究。结果表明,在所研究的工艺参数范... 详细信息
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