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Densification of Thin Aluminum Oxide Films by Thermal Treatments
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Materials Sciences and Applications 2014年 第8期5卷 628-638页
作者： v. cimalla M. Baeumler L. Kirste M. Prescher B. Christian T. Passow F. Benkhelifa F. Bernhardt G. Eichapfel M. Himmerlich S. Krischok J. Pezoldt Fraunhofer Institute for Applied Solid State Physics Freiburg Germany Institute of Micro- and Nanoelectronics Ilmenau University of Technology Ilmenau Germany Institute of Physics Ilmenau University of Technology Ilmenau Germany
Thin AlOx films were grown on 4H-SiC by plasma-assisted atomic layer deposition (ALD) and plasma assisted electron-beam ev.poration at 300°C. After deposition, the films were annealed in nitrogen at temperatures betw... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 评论
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