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检索条件"作者=U.Kleineberg"
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Nonlinear ionization dynamics of hot dense plasma observed in a laser-plasma amplifier
收藏 引用
Light(Science & Applications) 2020年 第1期9卷 196-203页
作者: F.Tuitje P.Martinez Gil T.Helk J.Gautier F.Tissandier J.-P.Goddet A.Guggenmos u.kleineberg S.Sebban E.Oliva C.Spielmann M.Zurch Institute for Optics and Quantum Electronics Abbe Center of PhotonicsUniversity of JenaJenaGermany Helmholtz Institute Jena JenaGermany Departamento de Ingenieria Energetica and Instituto de Fusion Nuclear“Guillermo Velarde” ETSI IndustrialesUniversidad Politecnica de MadridMadridSpain Laboratoire d’Optique Appliquee ENSTA ParisEcole PolytechniqueCNRSInstitut Polytechnique de ParisPalaiseauFrance Department for Physics Ludwig-Maximilian-University MunichGarchingGermany ultra Fast Innovations GmbH GarchingGermany Fritz Haber Institute of the Max Planck Society BerlinGermany Department of Chemistry University of California at BerkeleyBerkeleyCAUSA Materials Sciences Division Lawrence Berkeley National LaboratoryBerkeleyCAUSA
understanding the behaviour of matter under conditions of extreme temperature,pressure,density and electromagnetic fields has profound effects on our understanding of cosmologic objects and the formation of the univer... 详细信息
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Application of Reactive Ion Etching to the Fabrication of Microstructure on Mo/Si Multilayer
收藏 引用
Chinese Physics Letters 1999年 第9期16卷 665-666页
作者: 乐孜纯 L.Dreeskornfeld S.Rahn R.Segler u.kleineberg u.Heinzmann Institute of Atomic and Molecular Physics Jilin UniversityChangchun 130012 Fakultät für Physik Universität BielefeldUniversitatsstraβe 25D-33615 BielefeldGermany
Mo/Si muitilayer mirrors(30 periods,doublelayer thickness 7nm)with the AZ-PF514 resist pattern whose smallest lines and spaces structure was 0.5pm were etched by reactive ion etching(RIE)in a fluorinated plasma.The et... 详细信息
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