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Study on UV Shielding TiO_2.Thin Film Prepared by Sol-Gel Method

稀有金属材料与工程 2006年第A3期35卷 508-510页

作者： shihai zhao {2. wang shaobo xin qiang jiang xiaoping liang School of Mechanical and Electronic Engineering Tianjin Polytechnic University Tianjin 300160 China School of Material Science and Chemical Engineering Tianjin Polytechnic University Tianjin 300160 China

Titanium dioxide (TiO_2. thin films were prepared on microscopes slides by sol-gel and dip-coating processes from specially formulated *** results show that there exists anatase and rutile structure of TiO_2.when heat treatment temperature is 450℃,and at 800℃,TiO_2.particle size is of below 100 nm and rutile structure is *** the range of 360 nm～400 nm the transmittance of TiO_2.sol increases with the increasing of the concentration of Ti(OC_4H_9)_4 in ethanol solution. The transmittance of TiO_2.films with various number of the layer is measured to be 0% below 32. nm,and the three-layer TiO_2.film is of the best UV resistance in the range of 32. nm～400 nm.

关键词： TiO2 thin film sol-gel UV absorption

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Study on UV Shielding TiO2.Thin Film Prepared by Sol-Gel Method

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稀有金属材料与工程 2006年第S3期 508-510页

作者： shihai zhao~1 {2. wang~2.shaobo xin~2.qiang jiang~2.xiaoping liang~2.(1.School of Mechanical and Electronic Engineering,Tianjin Polytechnic University,Tianjin 300160,China) (2.School of Material Science and Chemical Engineering,Tianjin Polytechnic University,Tianjin 300160,China)

Titanium dioxide （TiO2. thin films were prepared on microscopes slides by sol-gel and dip-coating processes from specially formulated *** results show that there exists anatase and rutile structure of TiO2.hen heat treatment temperature is 450℃,and at 800℃,TiO2.article size is of below 100 nm and rutile structure is *** the range of 360 nm～400 nm the transmittance of TiO2.ol increases with the increasing of the concentration of Ti（OC4H9）4in ethanol solution. The transmittance of TiO2.ilms with various number of the layer is measured to be 0% below 32. nm,and the three-layer TiO2.ilm is of the best UV resistance in the range of 32. nm～400 nm.

关键词： TiO2 thin film sol-gel UV absorption

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3Y-TZP陶瓷在水润滑条件下磨损特性的研究

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润滑与密封 2006年第5期31卷 103-104,107页

作者：赵世海梁小平王小会辛少波杨正方天津工业大学机械电子学院天津300160 天津工业大学材化学院天津300160 天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室天津300072

采用销-盘式摩擦磨损试验机在水润滑条件下对3Y-TZP/(Mg,Y)-PSZ陶瓷摩擦副的磨损性能进行了试验研究。结果表明,3Y-TZP陶瓷的磨损率随着载荷和滑行速度的增加而增大。在低载低速下3Y-TZP陶瓷发生的是微量磨损,其磨损过程相当于抛光;随... 详细信息

采用销-盘式摩擦磨损试验机在水润滑条件下对3Y-TZP/(Mg,Y)-PSZ陶瓷摩擦副的磨损性能进行了试验研究。结果表明,3Y-TZP陶瓷的磨损率随着载荷和滑行速度的增加而增大。在低载低速下3Y-TZP陶瓷发生的是微量磨损,其磨损过程相当于抛光;随着载荷与滑动速度的增加,发生的是轻微磨损,相应的磨损机制为塑性变形和微犁削。在高载荷条件下发生了严重磨损,磨损的主要机制是表面断裂。

关键词： 3Y-FZP陶瓷水润滑磨损机制

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