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真空科学与技术学报 2007年第2期27卷 155-158页

作者：巴德纯常学森闻立时刘坤东北大学真空与流体工程研究中心沈阳110004 中国科学院金属研究所沈阳110015

采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不规则起伏。薄膜的晶相主体均为锐钛矿型。TiO2薄膜的光透射谱变化不大。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO2薄膜表面... 详细信息

采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不规则起伏。薄膜的晶相主体均为锐钛矿型。TiO2薄膜的光透射谱变化不大。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO2薄膜表面之间的接触角。不同工艺条件下制备的TiO2薄膜接触角相差很大。在纯氧条件下,薄膜制备的真空度对薄膜的亲水性有着决定性的影响。

关键词： TiO2薄膜亲水特性反应溅射真空度

FMI-Ⅰ-600型钕铁硼真空速凝炉冷却强度对铸带组织的影响

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真空科学与技术学报 2010年第2期30卷 181-184页

作者：房也孙宝玉巴德纯王旭娄树普东北大学机械工程及自动化学院沈阳110004

采用Nd-Pr合金、工业硼铁、纯铁及海绵锆为原料,在不同的冷却速度下采用FMI-Ⅰ-600型真空速凝炉制备Re(Nd,Pr)FeB永磁合金铸带,分析了速凝薄带的厚度分布,采用扫描电子显微镜及能谱重点分析了铸锭的组织结构,从而确定了合理的冷却范围... 详细信息

采用Nd-Pr合金、工业硼铁、纯铁及海绵锆为原料,在不同的冷却速度下采用FMI-Ⅰ-600型真空速凝炉制备Re(Nd,Pr)FeB永磁合金铸带,分析了速凝薄带的厚度分布,采用扫描电子显微镜及能谱重点分析了铸锭的组织结构,从而确定了合理的冷却范围。本文在真空条件下加热1400～1450℃,氩气保护下在1.5～2.0m/s的冷却速度下获得的速凝薄片形成了完整的柱状晶,富稀土相均匀分散在主相周围,有效抑制α-Fe的生成。

关键词：真空速凝稀土永磁合金铸带组织结构

氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响

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中山大学学报（自然科学版） 2005年第6期44卷 36-40页

作者：王贺权沈辉巴德纯汪保卫闻立时沈阳航空工业学院机械与汽车学院辽宁沈阳110034 中山大学物理科学与工程技术学院广东广州510275 东北大学机械及自动化学院辽宁沈阳110004 中国科学院广州能源研究所广东广州510070

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在工作压强为2.0×10-1pa,氩气流量为42.6 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制氧流量改变TiO2薄膜的光学性质。应用n&k Analyzer 1200分析器测量,当氧流量增加时薄膜的平均反... 详细信息

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在工作压强为2.0×10-1pa,氩气流量为42.6 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制氧流量改变TiO2薄膜的光学性质。应用n&k Analyzer 1200分析器测量,当氧流量增加时薄膜的平均反射率降低,同时反射低谷向中心波长(550 nm)处移动,薄膜的消光系数k有增大的趋势,但对薄膜的折射率影响不大。通过XRD和SEM表征发现,随着氧流量的增加金红石相的TiO2增多,并且表面趋于致密平滑。

关键词：二氧化钛薄膜直流反应磁控溅射氧流量反射率

基于核心作者研究兴趣相似性网络的社群隶属研究*——以国内情报学领域为例

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图书情报工作 2018年第12期62卷 57-64页

作者：徐健毛进叶光辉巴志超李纲武汉大学信息资源研究中心武汉430072 华中师范大学信息管理学院武汉430079

[目的／意义]构建情报学领域核心作者研究兴趣相似性网络，研究该网络的社群结构与社群隶属问题。[方法／过程]在CSSCI数据库以中图分类号为检索条件，下载该学科1998—2015年所有的论文数据，通过普莱斯定律识别核心作者。将作者研究... 详细信息

[目的／意义]构建情报学领域核心作者研究兴趣相似性网络，研究该网络的社群结构与社群隶属问题。[方法／过程]在CSSCI数据库以中图分类号为检索条件，下载该学科1998—2015年所有的论文数据，通过普莱斯定律识别核心作者。将作者研究兴趣用词袋模型表示，并计算作者间研究兴趣的余弦相似性，进而构建核心作者研究兴趣相似性网络。在此基础上进行社群划分并识别各社群研究主题，计算作者对各社群的隶属度与模糊熵。[结果／结论]研究发现，当前我国情报学研究可分为信息组织与检索、文献计量与科学评价、竞争情报与知识管理、情报学学科整体研究4个领域，大部分作者研究并不局限于单个领域，竞争情报和文献计量领域界限明显，较少有作者将彼此作为次要隶属社群。

关键词：研究兴趣网络情报学社群隶属度相似性

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锂磷氧氮电解质薄膜制备与性能研究

功能材料 2005年第7期36卷 1050-1052,1055页

作者：赵胜利文九巴杨涤心傅正文河南科技大学材料学院河南洛阳471003 复旦大学激光所上海200433

首次采用355nm脉冲激光沉积(PlD)法在N2压强26.6pa、激光能量密度15J/cm2、靶-基片距离5cm、基片温度为室温条件下制备了室温离子电导率为1.6×10-6S/cm、厚度均匀、无针孔、无裂缝的非晶态liPON电解质薄膜。考察了反应气氛压强、激光... 详细信息

首次采用355nm脉冲激光沉积(PlD)法在N2压强26.6pa、激光能量密度15J/cm2、靶-基片距离5cm、基片温度为室温条件下制备了室温离子电导率为1.6×10-6S/cm、厚度均匀、无针孔、无裂缝的非晶态liPON电解质薄膜。考察了反应气氛压强、激光能量密度对liPON薄膜电化学性能的影响,并利用台阶仪、XPS、EDX、SEM等分析方法对薄膜进行表征。

关键词：电解质 liPON 薄膜锂电池 PlD

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^(85)Kr测厚源制备及焊接性能分析

同位素 2022年第6期35卷 519-524,I0004页

作者：梁斌斌彭怡刚王子默巴伟伟高翔刘超原子高科股份有限公司北京102413

为保证^(85)Kr测厚源的密封质量,通过^(85)Kr测厚源结构设计、焊接工艺参数优化,制备合格的^(85)Kr测厚源。铜管与壳体的连接采用真空钎焊工艺,钎焊温度约900℃,时间约30 min;源窗与壳体的连接采用电子束焊工艺,焊接电流7 mA,焊接转速13... 详细信息

为保证^(85)Kr测厚源的密封质量,通过^(85)Kr测厚源结构设计、焊接工艺参数优化,制备合格的^(85)Kr测厚源。铜管与壳体的连接采用真空钎焊工艺,钎焊温度约900℃,时间约30 min;源窗与壳体的连接采用电子束焊工艺,焊接电流7 mA,焊接转速13 mm/s;源后盖与壳体的连接采用激光焊工艺,焊接功率180~185 W,焊接速度2 mm/s。测厚源检验结果表明,所制备的^(85)Kr测厚源,氦质谱检漏结果小于1.0×10^(-9)pa·m^(3)·s^(-1),放射性气体检验不超过4 kBq/24 h,符合GB/T 15849—1995中“其他射气检验方法”要求。金相实验结果表明,采用优化参数试样的焊缝中未发现明显的裂纹、未焊透、未熔合等缺陷,最大焊接熔深约0.73 mm。

关键词：测厚源 ^(85)Kr 密封技术焊接

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消化内镜检查中患者焦虑和疼痛程度评估

中国疼痛医学杂志 2006年第2期12卷 79-83页

作者：李雪冯艺刘玉兰杨拔贤北京大学人民医院麻醉科北京100044 北京大学人民医院消化内科北京100044

目的:调查消化内镜检查患者的精神状况和疼痛、不适反应,分析其可能的影响因素,为选择性干预治疗提供临床依据。方法:连续收集1527例行消化内镜检查患者的资料,应用焦虑自评量表(SAS)、视觉模拟评分(VAS)对患者的焦虑和疼痛、不适程度... 详细信息

目的:调查消化内镜检查患者的精神状况和疼痛、不适反应,分析其可能的影响因素,为选择性干预治疗提供临床依据。方法:连续收集1527例行消化内镜检查患者的资料,应用焦虑自评量表(SAS)、视觉模拟评分(VAS)对患者的焦虑和疼痛、不适程度进行评估,并记录其围检查期的血压、脉搏。依据患者的性别、年龄、文化程度、既往检查史、焦虑程度、内镜医师的操作经验及检查项目进行分组研究。结果:内镜检查患者存在着不同程度的焦虑、疼痛和不适。SAS总粗分平均31.50±8.47分,高于国内常模(29.78±10.07分),女性比男性焦虑程度高(P<0.0001),高中文化程度的焦虑程度最高(P=0.026)。胃镜检查以不适为主,尤以插镜时为甚;肠镜检查则既有疼痛又有不适,尤以检查时为甚。女性比男性疼痛、不适程度高(P<0.01,P<0.05);年龄越小不适程度越高(P<0.01);焦虑程度高的患者疼痛、不适程度高(P<0.01,P<0.05);检查医师操作经验越少的患者疼痛、不适程度越高(P<0.01,P<0.01);肠镜检查比胃镜检查的疼痛、不适程度高(P<0.01,P<0.01)。结论:胃镜和肠镜检查中患者焦虑和疼痛、不适反应及心血管反应存在性别、年龄、文化程度等方面的差别,对于特殊患者或特殊检查应针对性实施麻醉干预。

关键词：消化内镜焦虑疼痛不适

直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响

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真空科学与技术学报 2008年第1期28卷 55-58页

作者：王贺权巴德纯沈辉闻立时沈阳航空工业学院沈阳110034 东北大学沈阳110004 中山大学广州510275 中国科学院金属研究所沈阳110016

应用直流反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,利用n&k仪对薄膜的反射率进行检测,结果表明TiO2薄膜可以作为太阳电池减反射薄膜应用,并且通过改变工艺条件可以调控薄膜的反射低谷。当总压强为2×10-1pa、O2流量为15 sccm、靶基距为1... 详细信息

应用直流反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,利用n&k仪对薄膜的反射率进行检测,结果表明TiO2薄膜可以作为太阳电池减反射薄膜应用,并且通过改变工艺条件可以调控薄膜的反射低谷。当总压强为2×10-1pa、O2流量为15 sccm、靶基距为190 mm、温度为60℃的条件下制备的TiO2薄膜的减反射效果最好。

关键词：直流反应磁控溅射二氧化钛薄膜太阳电池反射率