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学科分类号

  • 1 篇 工学
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主题

  • 1 篇 干法工艺
  • 1 篇 化学湿刻
  • 1 篇 enviro
  • 1 篇 等离子刻蚀
  • 1 篇 剥离工艺
  • 1 篇 光刻胶

机构

  • 1 篇 ulvac上海爱发科真...

作者

  • 1 篇 han xu
  • 1 篇 姜健
  • 1 篇 mohamed boumerzo...
  • 1 篇 douglas dopp
  • 1 篇 amanda horn
  • 1 篇 richard bersin

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"作者=Mohamed Boumerzoug"
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去除光刻胶的新干法工艺
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真空 2003年 第1期40卷 12-16页
作者： Richard Bersin Amanda Horn Han Xu mohamed boumerzoug Douglas Dopp 姜健 ULVAC上海爱发科真空技术有限公司 上海200131
除去干刻或高剂量等离子注入后的光刻胶 ,一般是采用化学溶剂和酸类等湿刻法 ,以前有时采用干燥氧的等离子灰化法。然而成本高 ,具有危险性和污染性的化学湿刻法直接造成了环境污染 ,使得全球气候变暖 ,能源的大量消耗 ,地下水受到污染... 详细信息
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