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Black Silicon nanostructures on silicon thin films prepared by reactive ion etching
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Chinese Optics Letters 2013年 第13期11卷 127-129页
作者： martin steglich Thomas Kasebier Ingmar Hoger Kevin Fuchsel Andreas Tiinnermann Ernst-Bernhard Kley Institute of Applied Physics A bbe Center of Photonics Friedrich Schiller University Jena Albert-Einstein-Str. 15 07745 Jena Germany Institute of Photonic Technology Albert-Einstein-Str. 9 07745 Jena Germany
In this letter, the application of dry etching to thin films on glass is described. The utilized （ICP-RIE） of SF6 and 02 is discussed and a demonstrated. prepare Black Silicon nanostructures on crystalline silicon r... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 评论
利用1D系统仿真法分析液力传动内燃动车组运行动力学
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国外内燃机车 2012年 第6期 16-21页
作者： martin Kache Uwe steglich 韩才元
利用1D模拟软件Imagine LabAMESim,开发出一种液力传动内燃动车组的模块化模型。该模型建立在动车组的特性曲线和不同车辆结构型式的基础上。所开发的车辆控制系统可以模拟包括节能操纵特性在内的不同操纵(驾驶)风格。这是通过预测车... 详细信息
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