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  • 1 篇 期刊文献

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日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 控制策略
  • 1 篇 内置
  • 1 篇 cdu
  • 1 篇 双沟道
  • 1 篇 均匀性
  • 1 篇 图形化
  • 1 篇 套刻

机构

  • 1 篇 applied material...

作者

  • 1 篇 ilan englard
  • 1 篇 rich piech
  • 1 篇 ofer adan
  • 1 篇 liraz gershtein
  • 1 篇 ram peltinov

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"作者=Liraz Gershtein"
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新型CD-SEM套刻法改进双沟道图形化CDU
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引用
集成电路应用 2008年 第4期25卷 31-33页
作者： Ilan Englard Rich Piech liraz gershtein Ram Peltinov Ofer Adan Applied Materials Inc.Santa Clara Calif.
采用一种沟道内置沟道的套刻标记和自动工艺控制策略,双沟道图形化相关的CD均匀性问题可保持在具有量产价值的范围内。
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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