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检索条件"作者=Lü ShiCheng1,2. YIN Jiang1,2. XIA YiDong2.3, GAO LiGang2.3 & LIU ZhiGuo2.3 1 Department of Physics, nanjing university, nanjing 2.0093, china"
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Study on the thermal stability and electrical properties of the high-k dielectrics (ZrO_2. _x(SiO_2._(1-x)
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Science china(Technological Sciences) 2009年 第8期52卷 2222-2226页
作者： lü shicheng1,2. yin jiang1,{2., gao ligang2.3 & liu zhiguo2.3 1 department of physics, nanjing university, nanjing 2.0093, china 2.National laboratory of Solid Sate Microstructures, nanjing university, nanjing 2.0093, china 3 department of Materials Science and Engineering, nanjing university, nanjing 2.0093, china 1. department of physics Nanjing University Nanjing 210093 China 2. National laboratory of Solid Sate Microstructures Nanjing University Nanjing 210093 China 3. department of Materials Science and Engineering Nanjing University Nanjing 210093 China
(ZrO2.x(SiO2.1-x (Zr-Si-O) films with different compositions were deposited on p-Si(100) substrates by using pulsed laser deposition technique. X-ray photoelectron spectra (XPS) showed that these films remained amorph... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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