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作者

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20 条 记 录,以下是1-10 订阅
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Tribonacci Partition Formulas Modulo m
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Acta Mathematica sinica,English series 2010年 第3期26卷 465-476页
作者: Ji■í kla■KA Institute of Mathematics Brno University of Technology
Each Tribonacci sequence starting with an arbitrary triple of integers is periodic modulo m for any modulus m 〉 1. For a given m, the mapping between the set s of all m^3 triples of initial values and the set of thei... 详细信息
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一个水青冈生态系统的土壤化学强度的研究(英文)
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植物生态学报 2001年 第2期25卷 218-224页
作者: Jan KU kla 斯洛伐克科学院森林生态研究所
应用扁平溶度计考察了一个水青冈林 (Fageta paupera)的重力土壤溶液 ,该森林位于克里尼奇克·沃奇山脉 (斯洛伐克中部 )的生态实验站 (EEs)。逐月采集土壤表层以及 10 cm和 15 cm土壤矿质层的土壤渗透液化学特征的样品。同时 ,采集各... 详细信息
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stabilization of Clay soil for the Durability of structures: Case study of the soils of the Locality of Zalimé, Commune of Zogbodomey in the Republic of Benin
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Open Journal of Civil Engineering 2023年 第1期13卷 103-112页
作者: Koffi Judicaël Agbelele Ernesto Cabral Houehanou Abalo P’kla Isaac Ai Dossou Houngan Comlan Aristide Higher Normal school of Technical Education (ENsET) National University of Sciences Technologies Engineering and Mathematics (UNSTIM) Abomey Benin laboroty of Energy and Applied Mechanics (LEMA) Polytechnic School of Abomey-Calavi (EPAC) Abomey-Calavi Benin National Higher Institute of Industrial Technology (INsTI) National University of Science Technology Engineering and Mathematics (UNSTIM) Abomey Benin Polytechnic school of Lomé University of Lomé (UL) Lomé Togo Verechaguine AK Civil Engineering school (EsGC-VAK) Gbegamey Benin
structures erected on swelling clay soils are subjected to several stresses which are at the origin of the premature deterioration of the infrastructures. The soils being supports for the works, the improvement of the... 详细信息
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study of Durability of siliceous sand Based Mortars in Togo, and of Binder of Plastic Bags of the Kind “Voltic”: Hydrocarbons’ Effect
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Journal of Minerals and Materials Characterization and Engineering 2018年 第1期6卷 25-37页
作者: Kossi Bollanigni Amey Ouro-Djobo samah Kouma Neglo Abalo P’kla Komi Mawutodzi sounsah Komlan Amoussou A. Vianou Ecole Nationale supérieure d’Ingénieurs (ENsI) Université de Lomé (UL) Lomé Togo Centre de la Construction et du Logement (CCL) Lomé Togo Equipe de Recherche et Développement (ERDF) FORMATEC Lomé Togo laboratory of study and Research Industrial Technologies University of Abomey Cotonou Benin
The present study aims at environmental protection through the use of plastic wastes in the production of mortar. The behavior of siliceous sand-based mortars from Togo and binders of plastic bags of the kind “voltic... 详细信息
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套刻成像技术中波长可调性的准确度优化
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中国集成电路 2019年 第3期28卷 48-53页
作者: sK现代有限公司 kla公司 sK现代有限公司 kla公司
随着半导体制造技术的发展和集成电路元件尺寸的缩减,套刻预算也相应被削减。由于测量系统自身的光学瑕疵,以及光束与测量目标的几何不对称之间的相互作用,套刻预算已经接近测量误差的范围。测量误差对元件良率的影响显著,因而不能将其... 详细信息
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Boosting the kinetics of PF_(6)^(-) into graphitic layers for the optimal cathode of dual-ion batteries:The rehearsal of pre-intercalating Li^(+)
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Journal of Energy Chemistry 2022年 第8期31卷 392-399,I0011页
作者: He Yang Tingting Qin Xinyan Zhou Yu Feng Zizhun wang Xin ge Nailin Yue Dabing Li wei Zhang weitao Zheng Key laboratory of Automobile Materials MOE School of Materials Science&EngineeringJilin Provincial International Cooperation Key Laboratory of High-Efficiency Clean Energy MaterialsElectron Microscopy Centerand International Center of Future ScienceJilin UniversityChangchun 130012JilinChina state Key laboratory of Luminescence and Applications Changchun Institute of OpticsFine Mechanics and PhysicsChinese Academy of SciencesChangchun 130033JilinChina
large anions exhibit slow diffusion kinetics in graphite cathode of dual-ion batteries(DIBs);particularly at high current density,it suffers severely from the largely-reduced interlayer utilization of graphite cathode... 详细信息
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对DRAM结构中影响良率的缺陷进行监控
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集成电路应用 2006年 第9期23卷 38-41页
作者: Uwestreller CarlosMata QimondaAG MartinTuckermann kla-TencorGmbH Martin Tuckermann KLA-Tencor GmbH
使用新型高分辨率暗视场检测概念可以成功地对高深-宽比结构中的残余物和浅沟槽隔离氧化物孔洞进行监控。通过与精确工艺步骤的紧密结合,可实现对潜在误差的快速响应并缩短学习周期。
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消除隐藏的良率杀手——电子束检查是铜逻辑和晶圆代工厂^1的最佳方法
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电子工业专用设备 2005年 第F3期34卷 65-68,62页
作者: kla-TencorCorp Davidw.Price ToddHenry RobertFiordalice
监控和消除隐藏的电路缺陷已成为130nm和130nm以下器件的关键。这使得电子束检查正在广泛应用于开发、试生产和量产的监控过程。本文中我们将描述当前铜逻辑和晶圆代工厂电子束检查技术的执行情况,其中包括详细的案例研究,它说明了从... 详细信息
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应对45nm缺陷挑战
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集成电路应用 2008年 第1期25卷 43-47页
作者: Becky Pinto 加藤昌彦 kla-Tencor kla-Tencor
在半导体行业的早期,在实施缺陷检查时,会将晶圆置于光线明亮之处,查看表面上的灰尘和其它微粒,并计算散射中心的数量。上世纪90年代初,业界领先企业开始引入在线缺陷检查,以提高良率,增加盈利并加快其产品上市步伐。如今,全球... 详细信息
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对uLoop进行电压对比测试,及时有效对接触层进行在线缺陷分析
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集成电路应用 2006年 第7期23卷 35-38页
作者: oliver D.Patterson Horatio wildman AIexAche.IBM KevinT.wu kla-Tencor
本文介绍了在在线电压比较检测中可采用未接地链测试结构对诱发通孔和接触孔开路缺陷的机制进行监控和调试。它为如何利用在线电压对比检测技术的优点带来众多新的机会。同时,本文还提出一种有关开路链的 VC信号表现的解释理论,并进行... 详细信息
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