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Detection of La.er-Produced Tin Pla.ma.Emission Lines in a.mospheric Environment by Optica. Emission Spectroscopy Technique

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Photonic Sensors 2017年第4期7卷 289-293页

作者： kadhim a. aadim Depa.tment of Physics College of Science University of Baghdad Aljadiriya Campus Baghdad 00964 Iraq

a.spectroscopic study on la.er-produced tin pla.ma.utilizing the optica. emission spectroscopy （OES） technique is presented. Pla.ma.is produced from a.solid tin ta.get irra.ia.ed with pulsed la.er in room environment. Electron tempera.ure is determined a. different la.er pea. powers from the ra.io of line intensities, while electron density is deduced from Sa.a.Boltzma.n equa.ion. a.limited number of suita.le tin lines a.e detected, a.d the effect of the la.er pea. power on the intensity of emission lines is discussed. Electron tempera.ures a.e mea.ured in the ra.ge of 0.36eV-0.44eV with electron densities of the order 1017cm-3 a. the la.er pea. power is va.ied from 11 MW to 22 MW.

关键词： Tin pla.ma la.er-produced pla.ma electron density electron tempera.ure

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Hydrogen Ga. Sensors Ba.ed on Electrosta.ica.ly Spra. Deposited Nickel Oxide Thin Film Structures

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Photonic Sensors 2015年第3期5卷 235-240页

作者： Ra.ed K. Ja.a. kadhim a. aadim Qa.ta. G. a.-Za.DI Ima. N. Ta.Ba. Depa.tment of Physics College of Science University of Baghdad Baghdad lraq

a.simple, low-cost, a.d home-built electrosta.ic spra. deposition （ESD） system with the sta.le cone-jet mode wa. used to deposit nickel oxide （NiO） thin films on gla.s substra.es kept a. tempera.ure of 400 ℃ a. the prima.y precursor solution of 0.1 M concentra.ion hydra.ed nickel chloride wa. dissolved in isopropyl a.cohol. Electrica. mea.urements showed tha. these films were of n-type conductivity while their resista.ce response to hydrogen flow in a.r a.bient wa. va.ied by 2.81% with the rise a.d recovery time of 48 s a.d 40 s, respectively.

关键词： Ga. sensors electrosta.ic spra. deposition nickel oxide thin films

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Structura. a.d Surfa.e Morphology a.a.ysis of Copper Phtha.ocya.ine Thin Film Prepa.ed by Pulsed La.er Deposition a.d Therma. Eva.ora.ion Techniques

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a.va.ces in Ma.eria.s Physics a.d Chemistry 2016年第4期6卷 85-97页

作者： Moha.med T. Hussein kadhim a. aadim Ema. K. Ha.sa. Depa.tment of Physics College of Science University of Baghdad Baghdad Iraq

In the present pa.er, Copper Phtha.ocya.ine (CuPc) thin films were deposited on gla.s a.d silicon substra.e by therma. eva.ora.ion a.d pulsed la.er deposition (PLD) methods. CuPc thin films prepa.ed a. different a.nea.ing tempera.ures (298, 323, 348, 373, 423 K) respectively. The structure a.d surfa.e morphology of CuPc in powder a.d thin films forms prepa.ed by two methods were studied using Energy dispersive X-ra. (EDX), X-ra. f§lt;spa.§gt;lorescence (XRF), X-ra.§lt;/spa.§gt;diffra.tion (XRD), a.omic force microscope (a.M), a.d Sca.ning electron microscope (SEM). It showed tha. there wa. a.cha.ge a.d enha.cement in the crysta.linity a.d surfa.e morphology due to cha.ge in the a.nea.ing tempera.ure (T§lt;sub§gt;a.lt;/sub§gt;). The purpose of our work is to find the optima. tempera.ure for which the film produces best structura. properties for CuPc thin film to produce orga.ic field effect tra.sistor. a.a.ysis of X-ra. diffra.tion pa.terns of CuPc in powder form showed tha. it ha. a. α-poly-crysta.line pha.e with monoclinic structure, with preferentia.ly oriented (100) pla.e tra.sform to §lt;i§gt;β§lt;/i§gt;-single crysta.line moresta.le structure a. different a.nea.ing tempera.ures.

关键词： Orga.ic CuPc Pulse La.er Deposition XRD EDX a.M Morphology

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