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主题

  • 1 篇 微拉深成形
  • 1 篇 alloy
  • 1 篇 bias
  • 1 篇 磁控溅射
  • 1 篇 成形极限
  • 1 篇 al-zr薄膜
  • 1 篇 thin
  • 1 篇 voltage
  • 1 篇 films
  • 1 篇 freestanding
  • 1 篇 sputtering
  • 1 篇 aluminum-scandiu...
  • 1 篇 magnetron

机构

  • 1 篇 bias-bremer inst...
  • 1 篇 oberflaechentech...
  • 1 篇 iwt-stiftung ins...

作者

  • 2 篇 julien kovac
  • 2 篇 heinz-rolf stock
  • 1 篇 bernd khler
  • 1 篇 frank vollertsen
  • 1 篇 gerrit behrens
  • 1 篇 hans-werner zoch

语言

  • 1 篇 英文
  • 1 篇 中文
检索条件"作者=Julien KOVAC"
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磁控溅射Al-Zr薄膜在微拉深成形中的拉深性能(英文)
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中国有色金属学会会刊：英文版 2012年 第S2期22卷 268-274页
作者： Gerrit BEHRENS julien kovac Bernd KHLER Frank VOLLERTSEN Heinz-Rolf STOCK BIAS-Bremer Institut für Angewandte Strahltechnik GmbH Klagenfurter Str. 2 D-28359 Bremen Germany IWT-Stiftung Institut für Werkstofftechnik Badgasteiner Str. 3 D-28359 Bremen Germany
拉深成形可以用来制备形状复杂的零部件,甚至可达微加工水平。采用磁控溅射方法,在基底温度分别为310K和433K下,制备了厚度约为15μm的两种不同的AlZr薄膜。将这两种薄膜做为坯料,采用冲头直径为0.75mm的微拉深设备研究其拉深性能。虽... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
Influence of Substrate Bias Voltage on the Properties of Sputtered Aluminum-Scandium Thin Sheets
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Journal of Surface Engineered Materials and Advanced Technology 2012年 第2期2卷 115-119页
作者： julien kovac Heinz-Rolf Stock Hans-Werner Zoch Oberflaechentechnik Stiftung Institut für Werkstofftechnik (IWT) Bremen Germany.
Thin sheets (20 μm - 30 μm) of an aluminum-scandium alloy were manufactured by magnetron sputtering with a homogeneous thickness distribution. The influence of bias voltage on the sheet properties was investigated. ... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 评论
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