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A thin-layer spectroelectrochemical study of 3,3',5,5'-tetramethylbenzidine at SnO_2:F film optically transparent electrode

引用

science{1. chemistry 2004年第4期47卷 267-275页

作者： jiao kui1. yang tao2 & niu shuyan1.2 1. college of chemistry and molecular engineering, Qingdao university of science and technology, Qingdao 266042, china 2. college of chemistry and Chemical engineering, Ocean university of china, Qingdao 266003, china Correspondence should be addressed to jiao kui 1. college of {1. and molecular engineering Qingdao University of Science and Technology 266042 Qingdao China 2. college of {1. and Chemical engineering Ocean University of China 266003 Qingdao China

The electrooxidation of 3,3′,5,5′-tetramethylbenzidine (TMB) is dependent on the pH value of Britton-Robinson (B-R) buffer solution. In this work, the electrooxidation behavior of TMB was investigated with a SnO2:F film optically transparent thin-layer spectroelectrochemical cell. TMB underwent one two-electron electrooxidation process in the pH range from 2.0 to < 4.0, and two successive one-electron electrooxidation processes in the pH range from 4.0 to < 7.0 in the B-R buffer solution. At pH 6.5, the electrooxidative product of TMB generated a subsequent chemical reaction to yield an azo compound. Several spectroelectrochemical techniques, such as thin-layer cyclic voltammetry, thin-layer cyclic voltabsorptometry, thin-layer potential-controlled electrolysis absorptometry, thin-layer single-potential-step chronoabsorptometry, thin-layer dou-ble-potential-step chronoabsorptometry, thin-layer single-potential-step open-circuit relaxation chronoabsorptometry, were applied to this investigation. The formal potential E0’ and the electron transfer number corresponding to the electrooxidation of TMB in B-R buffer solution, and the reaction rate constant of the subsequent chemical reaction were determined.

关键词： 3,3′,5,5′-tetramethylbenzidine tin oxide film optically transparent electrode thin-layer spectroelectro-chemistry electrooxidation

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2,3-二氨基吩嗪的薄层光谱电化学研究

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化学学报 2003年第4期61卷 514-519页

作者：焦奎崔光磊杨涛牛淑妍青岛科技大学化学与分子工程学院青岛266042

研究了 2 ,3 二氨基吩嗪 (DAP)在金圆盘电极、金超微电极上的循环伏安行为和在金网栅电极上的薄层循环伏安行为 .在pH 2 .0的B R缓冲溶液中的 2 ,3 二氨基吩嗪在金圆盘电极上为准可逆氧还过程 ;以超微电极法求得了 2 ,3 二氨基吩嗪在... 详细信息

研究了 2 ,3 二氨基吩嗪 (DAP)在金圆盘电极、金超微电极上的循环伏安行为和在金网栅电极上的薄层循环伏安行为 .在pH 2 .0的B R缓冲溶液中的 2 ,3 二氨基吩嗪在金圆盘电极上为准可逆氧还过程 ;以超微电极法求得了 2 ,3 二氨基吩嗪在pH 2 .0的B R缓冲溶液中的扩散系数 ,由耗竭性库仑电解和循环伏安法求得其电极反应电子转移数和H+ 反应级数均为 2 ,实验说明参与电极反应的H+ 也为 2 ,并用循环伏安法求得其标准电极反应速率常数 .采用紫外 -可见薄层光谱电化学方法测得 2 ,3 二氨基吩嗪的克式量电位和电子转移数 ,与电化学实验结果一致 ;双电位阶跃 -计时吸收紫外 -可见薄层光谱电化学实验说明 ,2 ,3 二氨基吩嗪电还原无随后化学反应 ,其在电极上经历了H+ eH+ e的两步一电子过程 ,生成产物 2 ,3 二氨基 5 ,1. 二氢吩嗪 .

关键词： 2,3—二氨基吩嗪薄层光谱电化学循环伏安有机染料

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