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主题

  • 2 篇 热分解
  • 1 篇 so2
  • 1 篇 plasma
  • 1 篇 六氟乙烷
  • 1 篇 oxidation rate
  • 1 篇 特性
  • 1 篇 nox
  • 1 篇 动力学
  • 1 篇 additive
  • 1 篇 catalyst
  • 1 篇 hcfc-22

机构

  • 2 篇 武汉科技大学
  • 1 篇 华中科技大学
  • 1 篇 日本丰桥技术科学...
  • 1 篇 department of ec...
  • 1 篇 department of ec...
  • 1 篇 hnbei province k...
  • 1 篇 toyohashi univer...

作者

  • 4 篇 heejoon kim
  • 3 篇 韩军
  • 2 篇 王光辉
  • 2 篇 wataru minami
  • 1 篇 姚洪
  • 1 篇 yuhei sakaguchi
  • 1 篇 ikuo kawaguchi
  • 1 篇 何林
  • 1 篇 鲁擎擎
  • 1 篇 吕早生
  • 1 篇 shinya hayashi

语言

  • 2 篇 英文
  • 2 篇 中文
检索条件"作者=HeeJoon Kim"
4 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
Simultaneous Oxidization of NO_x and SO_2 by a New Non-thermal Plasma Reactor Enhanced by Catalyst and Additive
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Plasma Science and Technology 2008年 第1期10卷 53-56页
作者: heejoon kim 韩军 Yuhei SAKAGUCHI Wataru MINAMI Department of Ecological Engineering Toyohashi University of Technology Hnbei Province Key Laboratory of Coal Conversion and New Carbon Materials Wuhan University of Science and Technology
The non-thermal plasma as one of the most promising technologies for removing NOx and SO2 has attrm^ted much attention. In this study, a new plasma reactor combined with catalyst and additive was developed to effectiv... 详细信息
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
六氟乙烷的热分解特性
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高等学校化学学报 2009年 第1期30卷 125-128页
作者: 何林 韩军 王光辉 heejoon kim 姚洪 武汉科技大学湖北省煤转化与新型碳材料重点实验室 武汉430081 日本丰桥技术科学大学生态工程系 丰桥441-8580 华中科技大学煤燃烧国家重点实验室 武汉430074
采用管式炉研究了950~1100℃温度区间C2F6的分解特性,并研究了C2F6的初始浓度、反应温度、停留时间对C2F6分解率的影响.实验结果表明,C2F6初始浓度越低、温度越高、反应时间越长,C2F6分解率就越高.同时,热解反应的反应级数应该介于0和... 详细信息
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HCFC-22热分解动力学的研究
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工程热物理学报 2009年 第2期30卷 350-352页
作者: 韩军 鲁擎擎 吕早生 王光辉 heejoon kim 武汉科技大学湖北省煤转化与新型炭材料重点实验室 Department of Ecological Engineering Toyohashi University of Technology Toyohashi 4418580 Japan
本文讨论了HCFC-22热分解特性,并研究了HCFC-22初始浓度和反应温度对HCFC-22分解率的影响。实验结果表明,HCFC-22初浓度越低,反应温度越高,HCFC-22分解率越高。根据Arrhenius方程计算,500~800℃范围内,HCFC-22在氮气和空气气氛下热分... 详细信息
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High Decomposition Method of PFC
High Decomposition Method of PFC
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第四届中美化学工程会议和第三届中日化工研讨会合并的三边化学工程大会
作者: heejoon kim Wataru Minami Ikuo Kawaguchi Shinya Hayashi Toyohashi University of Technology Japan
PFCs(Perfluoro compounds) is used as cleaning gas and etching gas at semiconductor industry. Exhausted PFC have strong effect to global worming. For example, exhausted CF4 have very long life at atmosphere (50,000 yea...
来源: cnki会议 评论