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Electrochemical investigation on the formations of Dy-Ni alloy films in dimethylformamide

Rare Metals 2002年第2期21卷 85-89页

作者： he fengrong, wang yu,{2., and sa lichangschool of chemistry and chemical Engineering, zhongshan university. guangzhou 5102.5, china School of chemistry and chemical Engineering Zhongshan University Guangzhou 510275

The elexctrochemical properties of Dy (III), Ni(II) + Ni(II) indimethylformamide were studied by cyclic voltammetry on Pt or Cuelectrode. Black, metallic lustered, compact and well adhesive Dy-Nialloy films can be co-deposited on Cu electrode bysweeping-potential-deposition method within some potentials. SEM,EDAX and XRD were used to analyze the alloy films. The Dy content inthe Dy-Ni alloy film is up to 56.91/100 (mass fraction) and the Dy-Ni alloy films are amorphous.

关键词： Dy-Ni alloy film dimethylformamide (DMF) Sweeping-potential-deposition-method induced coi-deposition

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