咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

限定检索结果

文献类型

  • 1 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 1 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 成像
  • 1 篇 关键尺寸一致性
  • 1 篇 55纳米逻辑器件
  • 1 篇 浸没式光刻
  • 1 篇 套刻

机构

  • 1 篇 asml de run 6501...
  • 1 篇 nec electronics ...
  • 1 篇 asml japan 2-15-...
  • 1 篇 carl zeiss semic...

作者

  • 1 篇 hans bakker
  • 1 篇 takayuki uchiyam...
  • 1 篇 eelco van setten
  • 1 篇 paul graupner
  • 1 篇 kazuyuki yoshimo...
  • 1 篇 kenji morisaki
  • 1 篇 takao tamura

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"作者=Eelco van Setten"
共 1 条 记 录，以下是1-10 订阅
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到"检索档案"
详细 简洁
排序：
ArF浸没式光刻在55nm逻辑器件制造中的优势(英文)
收藏
分享
引用
电子工业专用设备 2007年 第11期36卷 8-15页
作者： Takayuki Uchiyama Takao Tamura Kazuyuki Yoshimochi Paul Graupner Hans Bakker eelco van setten Kenji Morisaki NEC Electronics Corporation 1120 ShimokuzawaSagamiharaKanagawaJapan229-1198 NEC Electronics Corporation 1120 ShimokuzawaSagamihara KanagawaJapan229-1198 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology AG73447 OberkochenGermany ASML De Run 6501DR VeldhovenThe Netherlands ASML Japan 2-15-1 KonanMinato-kuTokyo 108-6022Japan
通过比较干法和浸没光刻技术在超越焦深(DOF)提高方面的一些主要特点,举例说明了采用浸没式光刻技术的许多优势。浸没式光刻技术同干法光刻技术比较起来改善了关键尺寸一致性(CDU)又避开了必需而强硬的分辨率提高技术(RET)。因此利用浸... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到“检索档案”
共1页 <<  < 1 >  >>
回到顶部
执行限定条件