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The Fundamental Mechanisms of the Absorption Process of Si During Rapid Thermal Process
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材料科学与工程（中英文B版） 2012年 第10期2卷 517-522页
作者： Ivaldo Torres cristobal voz Ramon Alcubilla Grupo LOGOS Departamento EETS Facultad de Ingenierlas y Arquitecturas Universidad de Pamplona Km 1 Via a Bucaramanga Pamplona Norte de Santander Colombia Departament d'Engenyeria Electronica Universitat Politecnica de Catalunya C/ Gran Capita s/n Campus Nord 08074 Barcelona Espana
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