检索结果-南通市图书馆

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c.arac.erization of organic.thin films by atomic.forc. mic.osc.py based tec.niques

Characterization of organic thin films by atomic force micro...

引用

第18届国际真空大会

作者： A. Pavitsc.itz G. Hlawac.k M. Kratzer A. Lex G. Trimmel H.-G. Flesc. T. Potoc.r T. Griesser R. Resel A. Winkler W. Kern c. teichert Institute of Physic. University of Leoben Institute of c.emistry and Tec.nology of Organic.Materials Graz University of Technology Institute of Solid State Physic. Graz University of Technology Institute of c.emistry of Polymeric.Materials University of Leoben

This c.ntribution will be dedic.ted to the mec.anic.l and elec.ric.l c.arac.erization of organic.thin films by fric.ion forc. mic.osc.py （FFM）, c.nduc.ive atomic.forc. mic.osc.py （c.AFM） and transverse shear mic.osc.py （TSM）. Firstly, we report on the investigation of ultrathin layers （self-assembled monolayers （SAMs）） of organic.photosensitive molec.les, whic. c.n be photoisomerized upon illumination with UV light and further modified through a c.ntac. mask （equidistant lines and spac.s） to ac.ieve photoc.emic.lly patterned surfac.s. We apply ex situ AFM to study the surfac. morphology of organosilane SAMs by quantitative roughness analysis inc.uding analysis of lateral c.rrelation lengths and roughness exponents [1], whic. allows the evaluation and optimization of different film preparation c.nditions. FFM is used to distinguish the c.emic.l differenc. in the patterned surfac.. Indeed, signific.nt fric.ion c.ntrast between up to four different surfac. terminations c.n be observed simultaneously on the same sample [2]. Utilizing the Varenberg method [3], c.rresponding quantitative fric.ion forc. measurements are performed to determine the differenc. of nanotribology in the patterns. Further it will be demonstrated that c.AFM c.n detec. the different elec.ric.l properties in the patterns.

关键词： AFM Organic.thin films FFM c.AFM TSM

来源： cnki会议评论

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