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Building a domain-specific compiler for emerging processors with a reusable approach

Science China(Information Sciences) 2024年第1期67卷 20-38页

作者： Mingzhen LI Yi LIU bangduo chen Hailong YANG Zhongzhi LUAN Depei QIAN State Key Laboratory of Software Development Environment School of Computer Science and Engineering Beihang University

High-performance computing and deep learning domains have been motivating the design of domain-specific *** these processors can provide promising computation capability,they are notorious for exotic programming *** improve programming productivity and fully exploit the performance potential of these processors,domain-specific compilers(DSCs) have been ***,building DSCs for emerging processors requires tremendous engineering efforts because the commonly used compilation stack is difficult to be *** to the advent of multilevel intermediate representation(MLIR),DSC developers can leverage reusable infrastructure to extend their customized functionalities without rebuilding the entire compilation *** this paper,we further demonstrate the effectiveness of MLIR by extending its reusable infrastructure to embrace a heterogeneous many-core processor(Sunway processor).In particular,we design a new Sunway dialect and corresponding backend for the Sunway processor,fully exploiting its architectural advantage and hiding its programming *** show the ease of building a DSC,we leverage the Sunway dialect and existing MLIR dialects to build a stencil compiler for the Sunway *** experimental results show that our stencil compiler,built with a reusable approach,can even perform better than state-of-the-art stencil compilers.

关键词： domain-specific compiler emerging processor reusable dialect performance optimization MLIR

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六种粘接剂的牙本质粘接界面纳米渗漏比较

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中华口腔医学杂志 2005年第6期40卷 500-503页

作者：赵三军陈吉华吴玮熊宇第四军医大学口腔医学院修复科西安710032

目的检测6种粘接剂粘接处理后牙本质粘接界面的纳米渗漏情况。方法选取12颗无龋人磨牙,用600目碳化硅砂纸在流水冲洗下预备出统一的牙本质粘接面玷污层。分别用6种粘接剂按使用说明进行粘接处理,切割成0.9mm厚试件,避光贮存于氨化硝酸... 详细信息

目的检测6种粘接剂粘接处理后牙本质粘接界面的纳米渗漏情况。方法选取12颗无龋人磨牙,用600目碳化硅砂纸在流水冲洗下预备出统一的牙本质粘接面玷污层。分别用6种粘接剂按使用说明进行粘接处理,切割成0.9mm厚试件,避光贮存于氨化硝酸银溶液中24h。透射电子显微镜下观察牙本质粘接界面的纳米渗漏情况,单因素方差分析比较各组银染颗粒分布面积比的均值。结果6种粘接剂的牙本质粘接界面在电子显微镜下均观察到明显的纳米渗漏,其中材料A[邦多,(16.09±2.08)%]、材料B[Single Bond,(13.39±1.81)%]和材料C[Prime&Bond NT,(11.27±1.94)%]之间的差异均有统计学意义(P<0.05);材料D[B1自酸蚀底涂剂,(12.13±2.11)%]与材料E[ClearfilTMSE Bond,(12.35±2.60)%]的差异无统计学意义,但两者的纳米渗漏均小于材料F[AdperTMPromptTM,(14.93±2.67)%],差异有统计学意义(P<0.05)。结论6种牙科粘接剂的牙本质粘接界面均存在不同程度的纳米渗漏。

关键词：牙本质粘结剂牙本质显微镜检查电子

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