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Journal of Computational Mathematics 2013年第2期31卷 154-174页

作者： Zhiyong Si Jian su Yinnian He School of Mathematics and Information Science Henan Polytechnic University Jiaozuo 454003 China Center for Computational Geosciences School of Mathematics and Statistics Xi 'an Jiaotong University Xi'an 710049 China

In this paper, by combining the second order characteristics time discretization with the variational multiscale finite element method in space we get a second order modified characteristics variational multiscale finite element method for the time dependent Navier- Stokes problem. The theoretical analysis shows that the proposed method has a good convergence property. To show the efficiency of the proposed finite element method, we first present some numerical results for analytical solution problems. We then give some numerical results for the lid-driven cavity flow with Re = 5000, 7500 and 10000. We present the numerical results as the time are sufficient long, so that the steady state numerical solutions can be obtained.

关键词： Modified method of characteristics Defect-correction finite element method Navier-Stokes problems Characteristics-based method Lid-driven problem.

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永定庄煤业甲烷监控系统优化设计与应用

山东煤炭科技 2023年第2期41卷 200-203页

作者：苏建秀晋能控股煤业集团永定庄煤业有限责任公司山西大同037003

针对永定庄煤矿KJ88S型甲烷安全监控系统存在的传感器防护等级低、信号传输精度差、无多系统融合功能等问题进行优化设计,主干传输网络优化为工业以太网,多台综合型监控分站采用星型网络架构采集数字型传感器数据,在前端数据采集与控制... 详细信息

针对永定庄煤矿KJ88S型甲烷安全监控系统存在的传感器防护等级低、信号传输精度差、无多系统融合功能等问题进行优化设计,主干传输网络优化为工业以太网,多台综合型监控分站采用星型网络架构采集数字型传感器数据,在前端数据采集与控制系统和地面监控系统配合下,通过多系统融合服务器完成甲烷浓度实时监测、数据综合管理分析、多系统应急联动等功能。

关键词：甲烷监测以太网多系统融合联动

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铜布线化学机械抛光技术分析

中国机械工程 2005年第10期16卷 896-901页

作者：李秀娟金洙吉苏建修康仁科郭东明大连理工大学

对用于甚大规模集成电路(ULSI)制造的关键平坦化工艺———铜化学机械抛光(CMP)技术进行了讨论。着重分析了铜化学机械抛光的抛光过程和相关的影响因素;根据现有的研究成果主要介绍了铜化学机械抛光的化学材料去除机理;在分析抛光液组... 详细信息

对用于甚大规模集成电路(ULSI)制造的关键平坦化工艺———铜化学机械抛光(CMP)技术进行了讨论。着重分析了铜化学机械抛光的抛光过程和相关的影响因素;根据现有的研究成果主要介绍了铜化学机械抛光的化学材料去除机理;在分析抛光液组成成分的基础上,总结了现有的以H2O2 为氧化剂的抛光液和其他酸性、碱性抛光液以及抛光液中腐蚀抑制剂的研究情况;指出了铜化学机械抛光今后的研究重点。

关键词：技术分析化学机械抛光(CMP) 铜布线甚大规模集成电路材料去除机理腐蚀抑制剂碱性抛光液研究成果组成成分 H2O2 研究情况研究重点平坦化重分析氧化剂

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高含氮木质废弃物热解气化特性研究

农业工程学报 2019年第7期35卷 217-223页

作者：冯宜鹏付成果田宜水苏建修马孝琴胡楠河南科技学院机电学院新乡453003 农业部规划设计研究院农村能源与环保研究所农业部农业废弃物能源化利用重点实验室北京100125

为了考察高含氮木质废弃物的气化特性,在热重-质谱-红外联用装置与固定床装置上进行了Ar和Ar+O2气氛下高含氮木质废弃物和木粉的热解气化试验,研究了2种原料热解气化过程和产物的异同。结果表明:2种原料的热解气化失质量和失质量速率曲... 详细信息

为了考察高含氮木质废弃物的气化特性,在热重-质谱-红外联用装置与固定床装置上进行了Ar和Ar+O2气氛下高含氮木质废弃物和木粉的热解气化试验,研究了2种原料热解气化过程和产物的异同。结果表明:2种原料的热解气化失质量和失质量速率曲线整体一致,阶段划分较为类似,但高含氮木质废弃物挥发分析出峰值出现的温度低于木粉15～20℃,失质量速率峰值为木粉的70%左右;2种原料热解气化产物主要成分整体上较为类似,但高含氮木质废弃物热解气化产物中CH4浓度明显高于木粉;高含氮木质废弃物气化产生含氮气体污染物高于木粉,固定床试验中产生的NH3浓度为木粉的147倍。该文结果可为高含氮木质废弃物的处理和高效资源化利用提供参考依据。

关键词：废弃物热解气化高含氮木质废弃物人造板

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装配尺寸链中修配法装配的公式推导

机械研究与应用 1999年第1期12卷 25-28页

作者：苏建修河南职业技术师范学院

通过对修配法装配过程的分析，推导出一套确定修配尺寸及修配量的通用公式，使复杂的分析计算得以简化。

关键词：修配环尺寸修配量极值装配概率装配尺寸链

硅片化学机械抛光时运动形式对片内非均匀性的影响分析

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中国机械工程 2005年第9期16卷 815-818页

作者：苏建修郭东明康仁科金洙吉李秀娟大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室

分析了目前几种常见的化学机械抛光机中抛光头与抛光垫的运动关系,针对不同的硅片运动形式,计算了磨粒在硅片表面的运动轨迹;通过对磨粒在硅片表面上的运动轨迹分布的统计分析,得出了硅片在不同运动形式下的片内材料去除非均匀性。从硅... 详细信息

分析了目前几种常见的化学机械抛光机中抛光头与抛光垫的运动关系,针对不同的硅片运动形式,计算了磨粒在硅片表面的运动轨迹;通过对磨粒在硅片表面上的运动轨迹分布的统计分析,得出了硅片在不同运动形式下的片内材料去除非均匀性。从硅片表面材料去除非均匀性方面,对几种抛光机的运动形式进行了比较,结果表明,抛光头摆动式抛光机所产生的硅片内非均匀性最小。该研究为化学机械抛光机床的设计和使用中选择和优化运动参数提供了理论依据。

关键词：化学机械抛光运动形式硅片内非均匀性磨粒轨迹

ULSI制造中铜化学机械抛光的腐蚀磨损机理分析

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润滑与密封 2005年第4期30卷 77-80页

作者：李秀娟金洙吉康仁科郭东明苏建修大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室辽宁大连116024

以超大规模集成电路(ULSI)芯片多层互连结构制造中的关键平坦化工艺———铜化学机械抛光(CuCMP)为研究对象,针对CuCMP中存在的抛光液的化学腐蚀作用和磨料的机械磨损现象,采用腐蚀磨损理论分析了CuCMP材料去除机理。提出铜CMP的材料去... 详细信息

以超大规模集成电路(ULSI)芯片多层互连结构制造中的关键平坦化工艺———铜化学机械抛光(CuCMP)为研究对象,针对CuCMP中存在的抛光液的化学腐蚀作用和磨料的机械磨损现象,采用腐蚀磨损理论分析了CuCMP材料去除机理。提出铜CMP的材料去除中存在着机械增强的化学腐蚀和化学增强的机械磨损,并分析了CuCMP的静态腐蚀材料去除、机械增强的腐蚀去除与化学增强的机械去除机理。

关键词： ULSI 铜化学机械抛光材料去除机理腐蚀磨损

一例犬免疫介导性血小板减少症的诊断与中西医治疗

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黑龙江畜牧兽医 2024年第4期 76-80页

作者：张敏尚迎辉解军亮苏玉贤王深红焦作市动物疫病防控与畜牧发展中心河南焦作454003 洛阳市孟津区动物疫病预防控制中心河南洛阳471100 济源产城融合示范区农业农村局河南济源459000 河南牧业经济学院动物医药学院郑州450000 郑州嘉利康宠物医院郑州450000

3岁红色博美犬,食欲减退,精神萎靡,不愿走动;腹部、后肢内侧等部位出现出血点、瘀斑,指压不褪色;大便颜色稍黑;尿液量少、呈红色。体格检查可见背部、腹部、四肢等部位皮肤有轻重不等的紫色瘀斑,牙龈有出血点,眼结膜苍白。血常规检查结... 详细信息

3岁红色博美犬,食欲减退,精神萎靡,不愿走动;腹部、后肢内侧等部位出现出血点、瘀斑,指压不褪色;大便颜色稍黑;尿液量少、呈红色。体格检查可见背部、腹部、四肢等部位皮肤有轻重不等的紫色瘀斑,牙龈有出血点,眼结膜苍白。血常规检查结果显示,该犬血小板数目为0,白细胞、单核细胞、中性粒细胞均高于参考值;血涂片镜检可见少量多染红细胞,形态未见明显异常,也未见血液寄生虫体;尿常规检查结果显示有潜血,提示有炎症;血液生化指标结果显示,碱性磷酸酶活性、丙氨酸氨基转移酶高于参考值,肌酐质量浓度低于参考值;凝血功能检查未见异常;犬片状边虫抗体/嗜吞噬细胞无形体、心丝虫抗原、莱姆病抗体、埃里希体/伊文氏埃里希体抗体筛查结果均为阴性。综合病史及上述各项检查结果,诊断患犬为原发性免疫介导性血小板减少症(immune-mediated thrombocytopenia,ITP)。经过为期47 d的对症治疗(补液、消炎、止血、护肝、输血)、免疫抑制治疗(口服泼尼松龙)和中兽医辩证治疗,患犬各项指标得到了恢复,停药30 d后回访,未见复发。说明采用中西医结合疗法治疗犬ITP可取得良好的效果。

关键词：犬免疫介导性血小板减少症中西医结合疗法血常规检查

集成电路制造中的固结磨料化学机械抛光技术研究

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润滑与密封 2005年第3期30卷 1-4,8页

作者：苏建修康仁科郭东明金洙吉李秀娟大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室辽宁大连116024

经过对传统化学机械抛光技术的研究与分析,指出了目前ULSI制造中使用的传统化学机械抛光技术的缺点,通过对固结磨料化学机械抛光中的抛光垫结构、抛光机原理及抛光液的分析,得出了固结磨料化学机械抛光技术的优点,同时还对硅片固结磨料... 详细信息

经过对传统化学机械抛光技术的研究与分析,指出了目前ULSI制造中使用的传统化学机械抛光技术的缺点,通过对固结磨料化学机械抛光中的抛光垫结构、抛光机原理及抛光液的分析,得出了固结磨料化学机械抛光技术的优点,同时还对硅片固结磨料化学机械抛光的缺陷进行了研究。

关键词：抛光技术集成电路制造磨料固结化学机械抛光 ULSI 抛光垫抛光液抛光机传统

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铜化学机械抛光中电化学理论的应用研究

润滑与密封 2005年第1期30卷 106-108,121页

作者：李秀娟金洙吉苏建修康仁科郭东明大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室辽宁大连116024

概述了电位 pH图、极化曲线、交流阻抗谱和开路电压测试等电化学方法在铜化学机械抛光 (Cu- CMP) 中的应用, 并分析了采用电化学方法进行CMP分析存在的问题, 指出采用以上电化学方法进行Cu -CMP分析有利于对Cu- CMP的过程的理解, 并可... 详细信息

概述了电位 pH图、极化曲线、交流阻抗谱和开路电压测试等电化学方法在铜化学机械抛光 (Cu- CMP) 中的应用, 并分析了采用电化学方法进行CMP分析存在的问题, 指出采用以上电化学方法进行Cu -CMP分析有利于对Cu- CMP的过程的理解, 并可以为抛光液组分的选配提供依据。

关键词：化学机械抛光电化学抛光液铜 CMP分析