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基底偏压对电弧离子镀制备AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响

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表面技术 2023年第3期52卷 181-188页

作者：田灿鑫邹长伟王泽松项燕雄谢伟李助军刘怡飞岭南师范学院广东湛江524048 广州铁路职业技术学院广州510430

目的研究基底偏压对AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响。方法采用电弧离子镀技术,使用合金靶AlCrV,纯N2作为引弧介质和氮源,在不同的基底偏压下制备AlCrVN涂层,对AlCrVN涂层的物相结构、微观形貌、硬度、摩擦因数及磨损率进行测试分析,... 详细信息

目的研究基底偏压对AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响。方法采用电弧离子镀技术,使用合金靶AlCrV,纯N2作为引弧介质和氮源,在不同的基底偏压下制备AlCrVN涂层,对AlCrVN涂层的物相结构、微观形貌、硬度、摩擦因数及磨损率进行测试分析,作为对比制备了AlCrN涂层。结果AlCrVN涂层为柱状晶结构,由面心立方CrN为基础的(CrV)N置换固溶体相和Cr2N六方相2种晶相组成,随着基底偏压的增大,涂层衍射峰强度及位置变化不明显;涂层表面的大颗粒数量减少,凹坑增多;涂层硬度由50V时的22 GPa增大到150 V时的24.2 GPa,200 V时硬度值减小到22 GPa;摩擦因数由0.42增大到0.71;磨损率由6.4×10^(-7)mm^(3)/(N·m)逐渐增大到13.2×10^(-7)mm^(3)/(N·m)。结论基底偏压对AlCrVN涂层性能影响较大,低偏压(50V)时,涂层的摩擦因数、磨损率最低,耐磨性能最好。含V元素的AlCrVN涂层的力学和摩擦学性能都优于AlCrN涂层。

关键词：阴极电弧离子镀 AlCrVN涂层偏压硬度耐磨性能

304不锈钢表面单层/多层TiN基涂层制备及耐磨蚀性能研究

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表面技术 2022年第5期51卷 121-128页

作者：项燕雄王泽松刘贵昂梁枫邹长伟于云江田灿鑫岭南师范学院物理科学与技术学院广东湛江524048

目的探究钢基表面TiN基涂层在海洋环境中的耐磨蚀性能。方法采用电弧离子镀技术,在304不锈钢和单晶硅表面分别沉积TiN、TiBN、TiBN/TiN涂层,并对3种涂层样品的表面–截面形貌、摩擦系数、在人工海水中的电化学性能和摩擦腐蚀行为进行测... 详细信息

目的探究钢基表面TiN基涂层在海洋环境中的耐磨蚀性能。方法采用电弧离子镀技术,在304不锈钢和单晶硅表面分别沉积TiN、TiBN、TiBN/TiN涂层,并对3种涂层样品的表面–截面形貌、摩擦系数、在人工海水中的电化学性能和摩擦腐蚀行为进行测试。结果形貌表征和干摩擦测试结果显示,TiBN和TiBN/TiN涂层有着比TiN柱状晶更加致密的微观结构,3种涂层的摩擦系数相差不大,比304SS的摩擦系数低。在人工海水环境中的电化学测试结果表明,TiBN/TiN涂层的耐腐蚀性能最佳,TiBN涂层次之,TiN涂层则表现出比304不锈钢基底更差的耐腐蚀特性。在发生摩擦腐蚀的过程中,3种涂层的电位(OCP)均发生了下降。结论利用电弧离子镀技术在304不锈钢表面沉积的单层/多层TiN基涂层,在人工海水环境下,发生的摩擦会增加涂层发生腐蚀的趋势,结构致密,表面易形成钝化膜的涂层,其耐磨蚀性较好。

关键词：电弧离子镀 TiN基涂层耐腐蚀性能摩擦腐蚀单层/多层

双尺度Fe_(3)Si相调控对Cu-2.5Fe-0.2Si合金组织和性能的影响

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中国有色金属学报 2024年第1期34卷 100-110页

作者：于翔宇邱文婷郑良玉王永如项燕龙龚深中南大学材料科学与工程学院长沙410083 宁波金田铜业(集团)股份有限公司宁波315304 中南大学粉末冶金国家重点实验室长沙410083

通过在铜铁合金中添加微量Si元素,并利用组合形变热处理工艺对亚微米级Fe_(3)Si相和纳米级Fe_(3)Si相的析出行为进行调控。结果表明:处理后的Cu-2.5Fe-0.2Si合金中形成了大量细小的再结晶晶粒,其抗拉强度、电导率和伸长率分别为401MPa、... 详细信息

通过在铜铁合金中添加微量Si元素,并利用组合形变热处理工艺对亚微米级Fe_(3)Si相和纳米级Fe_(3)Si相的析出行为进行调控。结果表明:处理后的Cu-2.5Fe-0.2Si合金中形成了大量细小的再结晶晶粒,其抗拉强度、电导率和伸长率分别为401MPa、69.25%IACS和12.50%。合金中纳米级Fe_(3)Si析出相与铜基体的位向关系为[011ˉ]Cu//[11ˉ1]Fe_(3)Si。双尺度Fe_(3)Si相对合金屈服强度的提高均有贡献。其中,纳米级析出相对屈服强度的贡献值更大,约为亚微米级第二相的6倍。相比于Cu-2.5Fe合金,Si的添加促进了合金基体中铁相的析出及细化,降低了动态再结晶温度,进而实现了合金强度、电导率和塑性的协同提高。

关键词： Cu-Fe-Si合金力学性能电导率 Fe_(3)Si相双尺度相

“新工科”背景下电弧离子镀教学实验设计及混合式教学研究

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创新教育研究 2022年第10期10卷 2621-2628页

作者：项燕雄邓炜怡邹长伟王晴宇岭南师范学院物理科学与技术学院广东湛江

随着科学的发展与进步,新工科应运而生。新工科的推行直接关乎到了国家未来的战略布局。作为基础技术之一的真空技术已被广泛运用到半导体、电子等新兴领域中,已成为对理工科大学生进行基础教学中不可或缺的一部分。真空阴极电弧离子镀... 详细信息

随着科学的发展与进步,新工科应运而生。新工科的推行直接关乎到了国家未来的战略布局。作为基础技术之一的真空技术已被广泛运用到半导体、电子等新兴领域中,已成为对理工科大学生进行基础教学中不可或缺的一部分。真空阴极电弧离子镀膜实验是一门可以帮助理工科学生认识真空现象、掌握真空组成、了解真空获得、利用真空优势的专业实验。为了能更好地完成实验教学任务,更好地契合新工科背景下的教学实验要求,本文从教学内容、教学方法等方面开展了真空阴极电弧离子镀膜课程教学改革探索。在实验教学方案设计方面,根据新工科教学需求,在教学内容和教学过程中重点细化了电弧离子镀设备的真空系统构成、真空获得。在教学方面,引入了“混合式教学”的教学模式,结合“翻转课堂”理念,变传统的以教师为中心的教学模式为以学生为中心,教师为引导者的工程教学模式,提高了学生课堂的参与度。合理优化了成绩评价机制,拓展了学生的发散思维,提升了学生的创新能力。

关键词：新工科混合式教学教学实验设计电弧离子镀

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运用练笔策略提升读写能力

小学阅读指南（高年级版） 2024年第2期 67-69页

作者：项燕华无锡市八士实验小学

阅读与写作是小学语文教学的重要组成部分,阅读可为写作提供素材,写作则能表达阅读情感,二者相互促进,具有密不可分的关系。因此,在小学语文教学中进行写作训练时,教师应首先培养学生对写作的兴趣,通过多样化的学习活动吸引学生的注意力... 详细信息

阅读与写作是小学语文教学的重要组成部分,阅读可为写作提供素材,写作则能表达阅读情感,二者相互促进,具有密不可分的关系。因此,在小学语文教学中进行写作训练时,教师应首先培养学生对写作的兴趣,通过多样化的学习活动吸引学生的注意力,使他们感受到阅读的魅力,激发他们强烈的表达欲望,提升他们的读写能力。本文针对小学语文教学中具体的练笔策略进行如下探析:一、趣味阅读,培养练笔兴趣在小学语文教学中,阅读和写作同样重要。

关键词：趣味阅读阅读情感练笔表达欲望写作训练小学语文教学读写能力提供素材

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必须把推进中国式现代化作为最大的政治

新西藏(汉文版) 2024年第1期 29-30页

作者：项燕浙江省台州市老干部局

日前召开的中央经济工作会议指出：“必须把推进中国式现代化作为最大的政治，在党的统一领导下，团结最广大人民，聚焦经济建设这一中心工作和高质量发展这一首要任务，把中国式现代化宏伟蓝图一步步变成美好现实。”这既是对2023年经...

日前召开的中央经济工作会议指出：“必须把推进中国式现代化作为最大的政治，在党的统一领导下，团结最广大人民，聚焦经济建设这一中心工作和高质量发展这一首要任务，把中国式现代化宏伟蓝图一步步变成美好现实。”这既是对2023年经济工作的规律性认识，也是新时代新征程做好经济工作的重要遵循，为做好当前和今后一个时期经济工作指明了前进方向、提供了行动指南。

关键词：

经阴道多普勒超声参数与CA125 ADP水平的相关性及对子宫腺肌病的诊断价值

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中国妇幼保健 2024年第14期 2763-2766页

作者：项燕妮胡冰倩台州市第一人民医院超声科

目的分析经阴道多普勒超声参数与癌抗原125(CA125)、二磷酸腺苷(ADP)水平的相关性及对子宫腺肌病的诊断价值。方法选取2019年6月—2020年6月在台州市第一人民医院检查疑似子宫腺肌病的患者126例，以病理学检查为金标准，所有患者均行... 详细信息

目的分析经阴道多普勒超声参数与癌抗原125(CA125)、二磷酸腺苷(ADP)水平的相关性及对子宫腺肌病的诊断价值。方法选取2019年6月—2020年6月在台州市第一人民医院检查疑似子宫腺肌病的患者126例，以病理学检查为金标准，所有患者均行子宫切除，术后确诊为子宫腺肌病的患者66例作为研究组，另外选取同期住院的60例子宫肌瘤患者为对照组。对比两组腺肌病患者超声参数RI、PI、Vd水平；不同时期腺肌病患者超声参数RI、PI、Vd水平；不同时期腺肌病CA125、ADP水平；RI、PI、Vd、CA125、ADP与研究组不同时期腺肌病的关系；RI、PI、Vd与CA125、ADP的相关性；分析RI、PI、Vd对子宫腺肌病患者的诊断价值。结果与对照组RI(0.26±0.03)、PI(0.86±0.08)、Vd(5.32±0.52)相比，研究组RI(0.56±0.05)、PI(1.35±0.12)、Vd(12.35±1.23)参数升高，差异均有统计学意义(P<0.05)。与腺肌病增生期RI(0.45±0.04)、PI(1.26±0.12)、Vd(11.36±1.23)相比，腺肌病分泌期RI(0.52±0.15)、PI(1.33±0.13)、Vd(12.51±1.25)、腺肌病病灶期RI(0.63±0.06)、PI(1.46±1.45)、Vd(13.24±1.33)参数升高，差异有统计学意义(P<0.05)。与腺肌病分泌期相比，腺肌病病灶期RI、PI、Vd参数升高，差异有统计学意义(P<0.05)。与腺肌病增生期CA125(85.66±8.56)、ADP(8.26±0.85)相比，腺肌病分泌期CA125(91.28±9.21)、ADP(7.25±0.72)、腺肌病病灶期CA125水平(103.58±10.33)升高，ADP水平(6.33±0.62)下降，差异有统计学意义(P<0.05)。与腺肌病分泌期相比，腺肌病病灶期CA125水平升高，ADP水平下降，差异有统计学意义(P<0.05)。超声参数RI、PI、Vd与研究组病情严重程度呈正相关[RI(r值：0.412;P值：0.001)、PI(r值：0.336;P值：0.001)、Vd(r值：0.265;P值：0.001)],血清CA125与病情严重程度呈正相关(r值：0.358;P值：0.001),ADP与研究组病情类型呈负相关(r值：-0.366;P值：0.001)。超声参数RI、PI、Vd与血清CA125水平呈正相关，差异有统计学意义[RI(r值：0.354;P值：0.001)、PI(r值：0.321;P值：0.001)、Vd(r值：0.447;P值：0.001)],超声参数RI、PI、Vd与血清ADP水平呈负相关[RI(r值：-0.362;P值：0.001)、PI(r值：-0.415;P值：0.001)、Vd(r值：-0.436;P值：0.001)]。与RI、PI、Vd单项诊断相比，三项联合对子宫腺肌病的诊断价值较高，差异有统计学意义(P<0.05)。结论经阴道多普勒超声参数RI、PI、Vd可用于子宫腺肌病，三项联合诊断价值较高，并与患者血清CA125、ADP水平具有相关性。

关键词：经阴道多普勒超声参数癌抗原125 二磷酸腺苷子宫腺肌病诊断价值

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石黑一雄小说中的记忆探寻与身份认同构建

佳木斯大学社会科学学报 2024年第1期42卷 104-107页

作者：马燕项燕邹莹安徽机电职业技术学院公共基础教学部安徽芜湖241002

2017年诺贝尔文学奖得主石黑一雄是当代著名日裔英籍小说家。作为移民作家,记忆书写与身份认同一直是石黑一雄作品中对外表达的重要主题。以《被掩埋的巨人》和《别让我走》两部作品为研究对象,深入探讨石黑一雄小说中主人公对记忆的探... 详细信息

2017年诺贝尔文学奖得主石黑一雄是当代著名日裔英籍小说家。作为移民作家,记忆书写与身份认同一直是石黑一雄作品中对外表达的重要主题。以《被掩埋的巨人》和《别让我走》两部作品为研究对象,深入探讨石黑一雄小说中主人公对记忆的探寻与身份认同的构建。

关键词：石黑一雄记忆探寻身份认同构建

基于等离子体光发射技术的磁控溅射状态监测研究

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基于等离子体光发射技术的磁控溅射状态监测研究

作者：项燕雄东北大学

学位级别：硕士

随着现代工艺的发展,各种功能薄膜越来越多地运用到了各个领域当中。作为现在较为先进的磁控溅射更是以其在所需温度低、镀膜重复性好、操作简便、膜层的附着性好、引入的杂质少、莫得厚度可控等诸多优点,备受青睐,并被广泛应用。但是,... 详细信息

随着现代工艺的发展,各种功能薄膜越来越多地运用到了各个领域当中。作为现在较为先进的磁控溅射更是以其在所需温度低、镀膜重复性好、操作简便、膜层的附着性好、引入的杂质少、莫得厚度可控等诸多优点,备受青睐,并被广泛应用。但是,磁控溅射镀膜工艺一直要高度依赖镀膜工艺员的工艺,缺乏必要的监测手段。为了提高对磁控溅射镀膜的工艺优化,本文采用了光谱仪代替人类的肉眼对真空室中的等离子体发射光谱进行诊断,对镀膜过程中的等离子体光谱进行研究。本文以等离子体光发射技术为基础,以光谱仪作为监测设备,开发了一套对磁控溅射发射光谱进行监测的系统,并编写了相应的界面。实现了对磁控溅射的发射光谱进行实时监测的。通过对磁控溅射制备氧化铝时各个成分代表波长处光谱强度的监测,得到了等离子体强度随参数变化的规律曲线。通过对预溅射阶段的光谱监测发现,铝的特征谱线在预溅射刚开始阶段,铝的特征谱线很弱;随着预溅射时间的增加,铝的特征谱线开始增加,增加的趋势由快变慢,直到最后稳定在了一个较为稳定的区域内。将从开始预溅射到铝的特征谱线达到稳定的这个过程定义为预溅射时间。通过研究发现,增加靶功率增减少预溅射的时间;压强在0.5-4Pa时,增加工作压强能减少预溅射时间;在压强大于4Pa时,增大压强会增加会增加预溅射时间。在运用光发射技术对磁控溅射的漏气的监测中,发现此方法灵敏有效,能够及时监测出当量为0.1sccm漏气量时的漏气现象。并找到了漏气时谱线变化最为明显且没有干扰的两个波峰,波峰值分别为395.5nm和531nm。在射频磁控溅射制备氧化铝的过程中,运用光谱仪对制备过程的光谱进行分析,制备了射频溅射下铝的谱线与氧气气体流量的关系曲线,得到了射频磁控溅射条件下的靶中毒的点。并通过此曲线,对制备氧化铝的过程进行了指导,并成功将镀膜过程控制在了工作点上,并获得了良好的氧化铝涂层。

关键词：磁控溅射光谱监测等离子体发射光谱预溅射漏气