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作者

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检索条件"作者=陈耀峰"
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二乙基锌促进CO2的硅氢化反应以及CO2为C1合成子的有机胺甲酰化或脲化反应
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化学学报 2020年 第9期78卷 938-944页
作者: 杜重阳 陈耀峰 中国科学院中国科学院大学上海有机化学研究所金属有机化学国家重点实验室 上海200032
CO2的固定和转化具有重要研究意义,特别是采用廉价且良好生物相容性的金属催化剂将其转化为有用的有机化合物.本工作报道采用商品化ZnEt2 (1.0 mol%)可促进CO2的硅氢化反应生成甲氧基硅醚,以及CO2为C1合成子的有机胺甲酰化或脲化反应生... 详细信息
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稀土金属有机化学的最新进展
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有机化学 2001年 第11期21卷 997-1008页
作者: 钱长涛 陈耀峰 高飞 中国科学院上海有机化学研究所
综述了我们近年来在稀土金属有机化合物的合成,结构以及它们在有机合成和极性单体聚合中的应用的新进展.
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稀土金属有机化学的一个前沿领域:稀土卡宾化学
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中国科学:化学 2011年 第2期41卷 304-313页
作者: 刘智潇 陈耀峰 金属有机化学国家重点实验室中国科学院上海有机化学研究所 上海200032
在过渡金属有机化学中,含过渡金属-主族元素(C,N,P)双键的卡宾配合物化学具有重要地位.它不仅对人们理解过渡金属和主族元素的成键理论很重要,而且这类配合物具有一些很好的、以及特征性的反应和催化性能.在过去的30年中,人们在含稀土金... 详细信息
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烯烃聚合中金属化合物间的链转移反应
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有机化学 2009年 第8期29卷 1200-1208页
作者: 甘伟 聂万丽 陈耀峰 西北大学化学与材料学院 西安710069 中国科学院上海有机化学研究所金属有机化学国家重点实验室 上海200032
烯烃聚合过程中,金属化合物之间快速可逆的链转移反应是一个重要和有用的反应,它不仅影响催化剂的活性和实现对聚合物分子量的控制,还可以得到长链烷基金属化合物,进而通过后续转化得到特种聚烯烃材料,如官能团化聚烯烃和多嵌段聚烯烃... 详细信息
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基于连续双脉冲测试的GaN HEMT动态导通电阻变化及测量方法
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半导体技术 2024年 第10期49卷 920-925页
作者: 陈耀峰 国家电投集团河北电力有限公司 石家庄050000
实际应用中,GaN HEMT的动态导通电阻会随着工作电压、工作温度等因素的变化而改变,相同温度下的实际值常与静态测量结果有所差异。由于实验条件及测量方法不同,同一型号的器件往往会出现不一致的测试结果,对应用工况的设计与监测带来了... 详细信息
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稀土金属有机配合物化学60年
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化学学报 2014年 第8期72卷 883-905页
作者: 钱长涛 王春红 陈耀峰 中国科学院上海有机化学研究所金属有机国家重点实验室 上海200032
60年来稀土金属有机配合物化学取得重要发展.辅助配体从环戊二烯基,五甲基环戊二烯基,茚基发展到各种非茂配体,如双酚,β-二亚胺,胍基,脒基等.配合物的种类从简单的三茂稀土配合物发展到各种形式的二茂稀土配合物和单茂稀土配合物.非茂... 详细信息
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小型抑压式安全壳抑压特性及流动传热研究
小型抑压式安全壳抑压特性及流动传热研究
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作者: 陈耀峰 华北电力大学(北京)
学位级别:硕士
由于模块化建造、安全性能高、适应性强、多用途等优点,小型堆的发展逐渐引起世界各国重视。安全壳作为反应堆的最后一道保护屏障,对防止放射性产物泄漏起到重要作用。抑压式安全壳可通过抑压系统将事故下堆内余热导出。当发生LOCA事故... 详细信息
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汽车发动机缸盖切削数据库系统的开发与应用
汽车发动机缸盖切削数据库系统的开发与应用
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作者: 陈耀峰 上海交通大学
学位级别:硕士
二十一世纪以来,中国装备制造业的发展是显而易见的,尤其是在高端装备制造业上取得了许多成果。但是,我国的制造业仍与发达国家有着一定的差距,主要体现在信息化、数字化的整体水平较低。面对这一系列问题,传统制造业逐渐向数字化、网... 详细信息
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50MW汽轮发电机励磁系统故障分析及改造方案研究
50MW汽轮发电机励磁系统故障分析及改造方案研究
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作者: 陈耀峰 华北电力大学(北京)
学位级别:硕士
本文对平顶山鸿翔公司50MW热电联产汽轮发电机励磁系统的故障进行系统分析,发现直流励磁机励磁系统和模拟自并励励磁系统存在的各种问题。针对励磁控制系统存在的主要问题,制订了励磁系统初步改造方案,并对其进行研究和论证,明确了对励... 详细信息
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三(二乙胺基)氯化硅烷的合成
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化学世界 2003年 第10期44卷 532-534页
作者: 刘学建 陈耀峰 黄莉萍 中国科学院上海硅酸盐研究所 上海200050 中国科学院上海有机化学研究所 上海200032
随着半导体集成电路技术的发展,器件表面钝化保护膜的重要性日益显著。氮化硅薄膜是半导体集成电路中最具应用前景的表面钝化材料之一,发展低温的热化学气相沉积(CVD)工艺来沉积氮化硅表面钝化膜是集成电路发展的趋势,而开发新的硅源、... 详细信息
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