检索结果-南通市图书馆

电子工业专用设备 2023年第3期52卷 15-18,36页

作者：何永平杨金文正陈特超陈庆广余洋中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111

建立氮化铝高温隧道烧结炉体截面加热单元仿真模型,针对加热器不同分布情况对温度场的影响进行分析计算,结果表明,在基片载盘两侧与上部布置发热体时基片载盘截面具有更好的加热均匀性。该加热器分布方式在实际研制设备上也取得了较好... 详细信息

建立氮化铝高温隧道烧结炉体截面加热单元仿真模型,针对加热器不同分布情况对温度场的影响进行分析计算,结果表明,在基片载盘两侧与上部布置发热体时基片载盘截面具有更好的加热均匀性。该加热器分布方式在实际研制设备上也取得了较好的截面温度均匀性。

关键词：氮化铝高温隧道烧结仿真模型截面加热单元温度均匀性

An investigation on improving the homogeneity of plasma generated by linear microwave plasma source with a length of 1550 mm

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Plasma Science and Technology 2021年第2期23卷 7-16页

作者：周继承徐伟陈特超 School of Energy Science and Engineering Central South UniversityChangsha 410083People's Republic of China Hunan Red Solar Photoelectricity Science and Technology Co. LtdChangsha 410083People's Republic of China

To develop a larger in-line plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)device,the length of the linear microwave plasma source needs to be increased to 1550 mm.This paper proposes a solution to the problem of plasma inhomogeneity caused by increasing device length.Based on the COMSOL Multiphysics,a multi-physics field coupling model for in-line PECVD device is developed and validated.The effects of microwave power,chamber pressure,and magnetic flux density on the plasma distribution are investigated,respectively,and their corresponding optimized values are obtained.This paper also presents a new strategy to optimize the wafer position to achieve the balance between deposition rate and film quality.Numerical results have indicated that increasing microwave power and magnetic flux density or decreasing chamber pressure all play positive roles in improving plasma homogeneity,and among them,the microwave power is the most decisive influencing factor.It is found that the plasma homogeneity is optimal under the condition of microwave power at 2000 W,chamber pressure at 15 Pa,and magnetic field strength at 45 mT.The relative deviation is within−3.7%to 3.9%,which fully satisfies the process requirements of the equipment.The best position for the wafer is 88 mm from the copper antenna.The results are very valuable for improving the quality of the in-line PECVD device.

关键词： in-line PECVD linear microwave plasma source multi-physics field COMSOL simulation homogeneity

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太阳能电池用高温烧结炉传动系统的设计计算

电子工业专用设备 2008年第4期37卷 10-13页

作者：陈特超中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111

介绍了太阳能电池生产线用高温烧结的特点、传动原理,提出了网带驱动力及其传递功率的理论计算方法,利用该方法进行设计计算,可在保证传动可靠的前提下,选择最合适的电机、减速机,减少安装位置,节约设备制造成本。作者根据计算结果应用... 详细信息

介绍了太阳能电池生产线用高温烧结的特点、传动原理,提出了网带驱动力及其传递功率的理论计算方法,利用该方法进行设计计算,可在保证传动可靠的前提下,选择最合适的电机、减速机,减少安装位置,节约设备制造成本。作者根据计算结果应用到实际的生产中,较好的指导了生产。

关键词：太阳能电池带传动驱动特点计算应用

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离子束溅射制备的氧化钽层的绝缘特性

微细加工技术 2002年第4期 58-60页

作者：禹庆荣陈特超中国电子科技集团公司第四十八研究所长沙410111

介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2 O5 介质膜 ,它由离子束溅射镀膜工艺制备而成。检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性。结果表明 :在其余条件相同的情况下 ,氧气流量越大所制备的薄膜绝缘程度越高。但当氧气流... 详细信息

介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2 O5 介质膜 ,它由离子束溅射镀膜工艺制备而成。检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性。结果表明 :在其余条件相同的情况下 ,氧气流量越大所制备的薄膜绝缘程度越高。但当氧气流量达到一定的程度时 ,其绝缘程度不再有所变化。

关键词：离子束溅射制备氧化钽层绝缘特性半导体

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一种新型离子束刻蚀装置的研制

电子工业专用设备 2010年第1期39卷 34-36页

作者：张冬艳陈特超中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111

介绍了一种新型离子束刻蚀装置。该装置具有如下特点:工件台可进行二维运动,带有自动挡板机构和独立的测束装置,中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的平行束离子源,以及分子泵加机械泵的真空系统。工艺试验结果表明,该设备是一台... 详细信息

介绍了一种新型离子束刻蚀装置。该装置具有如下特点:工件台可进行二维运动,带有自动挡板机构和独立的测束装置,中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的平行束离子源,以及分子泵加机械泵的真空系统。工艺试验结果表明,该设备是一台先进的半导体工艺设备,性能稳定,刻蚀均匀性可达±4%。

关键词：离子束刻蚀均匀性

GaN-MOCVD设备MO源注入摩尔流量的精确控制

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电子工业专用设备 2015年第6期44卷 31-35页

作者：刘欣魏唯陈特超中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111

分析了GaN-MOCVD设备中MO源注入摩尔流量控制的基本原理,给出了决定MO源注入摩尔流量的三个重要条件,然后针对于Ga N-MOCVD中5种常用的金属有机源,根据工艺生长的需要,分别给出了MO源注入摩尔流量精确控制的解决方案。

关键词：半导体设备 GaN-金属有机化学气相沉积金属有机化合物源注入摩尔流量

太阳能电池生产线中的新型等离子体刻蚀机的研制

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电子工业专用设备 2010年第8期39卷 41-44页

作者：陈特超谢利华中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111

介绍了用于太阳能电池片生产工艺中的新型等离子体刻蚀机及设备的工作原理、构造、简单的工艺试验结果。与现在生产线上普遍使用的老式等离子体刻蚀机相比,它大大提高了生产产能,减少了设备维护工作量。该设备操作简单,是一种实用、高... 详细信息

介绍了用于太阳能电池片生产工艺中的新型等离子体刻蚀机及设备的工作原理、构造、简单的工艺试验结果。与现在生产线上普遍使用的老式等离子体刻蚀机相比,它大大提高了生产产能,减少了设备维护工作量。该设备操作简单,是一种实用、高效的生产型工艺设备。

关键词：等离子体反应离子刻蚀原理工艺实验

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用于MEMS器件制造的深反应离子刻蚀设备

传感技术学报 2006年第5A期19卷 1415-1418页

作者：陈特超禹庆荣龚杰洪张冬艳伍波李键志中国电子科技集团公司第四十八研究所长沙410111

深反应离子刻蚀(DRIE)设备,主要应用于MEMS器件制造中Si材料的深槽刻蚀[1].介绍了一种用于硅材料的高深宽比反应离子刻蚀设备,采用ICP技术,刻蚀深宽比≥25∶1.着重阐述了该设备的结构组成、设计方法及控制方法.

关键词：微电子机械系统深反应离子刻蚀控制设备

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扩散炉反应管压力自平衡系统的设计

电子工业专用设备 2012年第7期41卷 32-35页

作者：李克郭立毛朝斌陈特超李健志中国电子科技集团公司第四十八研究所国家光伏装备工程技术研究中心长沙410111

对晶体硅太阳能电池片生产用扩散炉反应管压力平衡系统的要求及原理进行了阐述,由于反应管内气流变化对扩散效果影响很大,本系统根据实际使用经验,对工艺管内压力进行检测,在外围尾气排放不稳定的条件下,对反应管内气体排放进行调节,从... 详细信息

对晶体硅太阳能电池片生产用扩散炉反应管压力平衡系统的要求及原理进行了阐述,由于反应管内气流变化对扩散效果影响很大,本系统根据实际使用经验,对工艺管内压力进行检测,在外围尾气排放不稳定的条件下,对反应管内气体排放进行调节,从而控制管内压力,使管内流速均匀,达到好的扩散效果。

关键词：扩散反应管压力自平衡尾气控制

晶体硅太阳能电池生产线外围设施建设经验漫谈

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电子工业专用设备 2012年第5期41卷 1-3,18页

作者：陈特超谢建国李克毛朝斌中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111

中国电子科技集团公司第四十八研究所是国内最早从事晶体硅太阳能电池整线交钥匙工程的单位,在国内已完成了几十家太阳能整线的建设。整线建设包括生产线设备的配置、安装,外围设施建设(厂房设计,净化间施工,水、电、气的设计施工),工... 详细信息

中国电子科技集团公司第四十八研究所是国内最早从事晶体硅太阳能电池整线交钥匙工程的单位,在国内已完成了几十家太阳能整线的建设。整线建设包括生产线设备的配置、安装,外围设施建设(厂房设计,净化间施工,水、电、气的设计施工),工艺调试,投产。其中外围设施建设的重要性往往被人们忽视。作者通过承担几条生产线的整线设计,参与了外围设施设计并在现场跟踪施工全过程,直至整线交付。在外围设施建设过程中发现了一些可修改的设计问题,在此提出来与大家分享。

关键词：晶体硅太阳能电池整线外围设施建设