检索结果-南通市图书馆

国外医学（耳鼻咽喉科学分册） 2002年第6期26卷 365-365页

作者：阎志毓 200032

组织工程学心血管修复材料是采用组织工程学原理和技术,在体外设计构建的生物相容性材料,包括补片及人造血管等,是多学科相交叉的前沿领域.本文就近几年来组织工程学心血管修复材料在种子细胞、支架以及应用研究等方面进行综述.

关键词：贫民婴儿听力损害

上颌窦囊性纤维变性透膜调节基因-相关腺病毒载体的安全性和生物学功能

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国际耳鼻咽喉头颈外科杂志 2000年第2期 123-123页

作者：阎志毓叶星

环状软骨上部分喉切除术与喉全切除术后生存质量的比较

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国际耳鼻咽喉头颈外科杂志 2002年第1期26卷 46-46页

作者：阎志毓 100070

医院内感染不仅增加病人的住院费用，直接影响病人的预后，而且也阻碍病床周转，浪费医疗资源，因此做好院内感染的预防和监测特别重要。详细论述了院内感染发生的原因，及其预防措施。

关键词：喉全切除生存质量造瘘 TL 食管吻合术舌根会厌吸门喉声门癌控制率

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术后意外甲状腺乳头状癌处理方法的探讨

中国耳鼻咽喉头颈外科 2020年第10期27卷 553-555页

作者：胡丽敏张静阎志毓黄江成邓芳芳崔子赟刘新涛边学解放军总医院第七医学中心耳鼻咽喉头颈外科解放军总医院耳鼻咽喉头颈外科医学部北京100700

目的探讨术后意外甲状腺乳头状癌的发生原因及处理方法。方法回顾性分析2013年1月~2016年12月解放军总医院第七医学中心耳鼻咽喉头颈外科29例双侧单灶及单侧单灶术后意外甲状腺乳头状癌的病例资料,患者术中行双侧或单侧甲状腺腺叶部分... 详细信息

目的探讨术后意外甲状腺乳头状癌的发生原因及处理方法。方法回顾性分析2013年1月~2016年12月解放军总医院第七医学中心耳鼻咽喉头颈外科29例双侧单灶及单侧单灶术后意外甲状腺乳头状癌的病例资料,患者术中行双侧或单侧甲状腺腺叶部分切除术,术后给予促甲状腺激素(thyroid stimulating hormone,TSH)抑制治疗、定期的甲状腺彩超检查和随访。结果 29例术后病理均为甲状腺微小乳头状癌,最大径为0.7~5.0(3.8±1.3)mm,术后无喉返神经损伤或甲状旁腺功能低下等并发症,随访(66.5±15.05)个月未见肿瘤复发及中央区淋巴结转移。结论轻度的TSH抑制治疗、定期的甲状腺彩超检查、严格的密切随访可以作为术后意外甲状腺乳头状癌患者一种处理方法。

关键词：甲状腺肿瘤促甲状腺素外科手术术后意外甲状腺乳头状癌

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婴幼儿异位胸腺2例

疑难病杂志 2013年第9期12卷 726-726页

作者：王晓宇阎志毓叶星北京军区总医院耳鼻咽喉头颈外科 100700

例1.男,3岁,因发现左颈部包块1个月,于2008年5月来我院就诊。查体：左侧颈部皮肤隆起,无红肿,颈上部一颌下三角处可触及大小约5.0 cm×3.0 cm肿块,质软,边界不清,无压痛。B型超声示：左侧颈部紧邻颌下腺可见一实性肿物,大小3.9 cm×2.0 ... 详细信息

例1.男,3岁,因发现左颈部包块1个月,于2008年5月来我院就诊。查体：左侧颈部皮肤隆起,无红肿,颈上部一颌下三角处可触及大小约5.0 cm×3.0 cm肿块,质软,边界不清,无压痛。B型超声示：左侧颈部紧邻颌下腺可见一实性肿物,大小3.9 cm×2.0 cm,有包膜,呈三角形,边界清晰,轮廓规整。内部回声为中等稍低回声,分布均匀。CDFI未见血流信号。

关键词：异位胸腺颈部包块婴幼儿

带蒂全额皮瓣在晚期头颈肿瘤术后修复中的应用

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临床耳鼻咽喉科杂志 1999年第6期13卷 254-256页

作者：阎志毓樊扬诗纪维纲叶星尚建平解放军北京军区总医院耳鼻咽喉科

目的：探讨带蒂全额皮瓣整复头颈部肿瘤术后组织缺损的可行性。方法：对１４例晚期头颈部肿瘤术后鼻面部、鼻咽部、软腭等部分组织缺损，取全额皮瓣予以整复，取瓣面积（５ｃｍ×１１ｃｍ）～（７ｃｍ×１６ｃｍ）。结果：皮瓣完全存活... 详细信息

目的：探讨带蒂全额皮瓣整复头颈部肿瘤术后组织缺损的可行性。方法：对１４例晚期头颈部肿瘤术后鼻面部、鼻咽部、软腭等部分组织缺损，取全额皮瓣予以整复，取瓣面积（５ｃｍ×１１ｃｍ）～（７ｃｍ×１６ｃｍ）。结果：皮瓣完全存活１２例，部分坏死２例，患者３年和５年生存率分别为７６．９％（１０／１３）和６３．６％（７／１１）。经鼻腔和口腔呼吸好，进食功能良好。结论：晚期头颈部肿瘤术后组织缺损应用全额皮瓣整复是一种较好的取材方法，修复面积大。

关键词：全额皮瓣头颈部肿瘤组织缺损修复

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疑似颈静脉球瘤的耳部胆脂瘤2例报告

临床耳鼻咽喉科杂志 1997年第5期11卷 229-229页

作者：姜小兵阎志毓纪维纲叶星彭勇新北京军区总医院耳鼻喉科 100700

抛光垫使用期对300mm Si片Haze值影响研究

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半导体技术 2008年第12期33卷 1084-1087页

作者：索思卓库黎明黄军辉葛钟陈海滨张国栋盛方毓阎志瑞北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司北京100088

抛光垫是化学机械抛光(CMP)过程中重要的消耗材料之一。由于抛光垫与Si片直接接触,所以抛光垫的物理特性会直接影响到所加工Si片品质的优劣。通过研究不同使用时间的抛光垫结构以及所抛光Si片表面haze值,发现抛光Si片表面haze值在抛光... 详细信息

抛光垫是化学机械抛光(CMP)过程中重要的消耗材料之一。由于抛光垫与Si片直接接触,所以抛光垫的物理特性会直接影响到所加工Si片品质的优劣。通过研究不同使用时间的抛光垫结构以及所抛光Si片表面haze值,发现抛光Si片表面haze值在抛光垫使用前期逐渐减小,中期稳定缓慢升高,后期快速升高。从理论上系统地对结果进行了分析,充分证实了在CMP过程中,保持抛光垫特性的稳定对Si片表面质量具有非常重要的意义。

关键词：精抛光抛光垫化学机械抛光 haze