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四川九龙山自然保护区林麝种群复壮措施初探

四川林勘设计 2013年第1期 55-57页

作者：闵泓翔王洪军四川省林业调查规划院四川省若尔盖县林业局

在综合分析四川九龙山自然保护区林麝种群历史变化趋势和现有自然条件的基础上,讨论恢复其林麝种群的措施,为提升保护区生态环境质量提供新思路。

关键词：林麝种群复壮四川九龙山自然保护区

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浅议若尔盖县退化草场及湿地生态修复

四川林勘设计 2012年第4期 47-48页

作者：闵泓翔王洪军四川省林业调查规划院若尔盖县林业局

文章概述了若尔盖县境内退化草场及湿地的基本情况,分析了草场及湿地退化原因,以及因草场、湿地退化而带来的一系列问题,并针对其现状提出生态恢复措施建议。

关键词：湿地若尔盖湿地问题湿地恢复

绵茂公路对九顶山、宝顶沟自然保护区阻隔效应分析

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四川林勘设计 2010年第3期 33-36页

作者：闵泓翔四川省林业调查规划院

在综合分析九顶山、宝顶沟自然保护区和绵茂公路特征的基础上,阐述公路运行在两个保护区内所造成的阻隔效应,以及对两个保护区内野生动物种群交流所造成的影响,并提出降低阻隔效应的方法建议。

关键词：绵茂公路阻隔效应野生动物保护区

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栗子坪国家级自然保护区大熊猫种群恢复探讨

四川林勘设计 2018年第2期 31-33页

作者：闵泓翔何世伟四川省林业调查规划院汶川县环境保护和林业局

文章在实际调查和资料分析的基础上,探讨了栗子坪国家级自然保护区野生大熊猫面临的种群脆弱、迁移廊道不稳定、栖息地质量不高和干扰频繁等主要问题。有针对性地提出了栖息地人工改造、廊道交流功能提升、大熊猫野化培训和放归、生态... 详细信息

文章在实际调查和资料分析的基础上,探讨了栗子坪国家级自然保护区野生大熊猫面临的种群脆弱、迁移廊道不稳定、栖息地质量不高和干扰频繁等主要问题。有针对性地提出了栖息地人工改造、廊道交流功能提升、大熊猫野化培训和放归、生态移民等对策措施,以期能逐步提升该区野生大熊猫的种群数量和遗传多样性,扩大栖息地面积,为当地和相似区域大熊猫保护工作积累经验。

关键词：栗子坪自然保护区大熊猫种群恢复栖息地

四川阿坝曼则塘湿地自然保护区可持续发展对策

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四川林勘设计 2009年第4期 39-42页

作者：代立东闵泓翔四川省林业调查规划院

四川阿坝曼则塘湿地自然保护区是以湿地和野生动物资源为主要保护对象的综合性保护区,具有丰富的生物多样性与重要的湿地生态意义。文章主要介绍保护区建设管理现状和存在的问题,初步提出解决问题的思路和可持续发展的对策。

关键词：湿地自然保护区可持续发展对策

一种阴离子浸出策略合成金属羟基氧化物用于电催化甘油氧化

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物理化学学报 2024年第7期40卷 43-46页

作者：王烨葛瑞翔刘翔李敬段昊泓清华大学化学系北京100084 清华大学化学系稀土新材料教育部工程研究中心北京100084

亲核氧化反应在可持续生产增值化学品中扮演着重要角色。电催化甘油氧化反应作为亲核氧化反应的一种重要类型,可以制得包括甲酸在内的C_(1)至C_(3)衍生产物。非贵金属氢氧化物/羟基氧化物被广泛应用于甘油氧化反应,但在中等电位下难以... 详细信息

亲核氧化反应在可持续生产增值化学品中扮演着重要角色。电催化甘油氧化反应作为亲核氧化反应的一种重要类型,可以制得包括甲酸在内的C_(1)至C_(3)衍生产物。非贵金属氢氧化物/羟基氧化物被广泛应用于甘油氧化反应,但在中等电位下难以达到工业级电流密度(大于300 mA·cm^(-2))。研究表明,氢氧化物/羟基氧化物催化的甘油氧化反应通过间接氧化机理进行,即通过电生成的含有亲电吸附氧的羟基氧化物氧化亲核试剂(甘油)。因此,理解甘油氧化反应中电催化剂的演变至关重要。在本文中,通过循环伏安法活化钼酸镍(NiMoO_(4)),开发了一种钼掺杂的羟基氧化镍(Mo-NiOOH)催化剂。通过多种表征方法对Mo-NiOOH进行了系统表征,结果显示,Mo-NiOOH继承了NiMoO_(4)前驱体的纳米片阵列形貌,但Mo含量降低,证明循环伏安法活化后实现了从氧化物到羟基氧化物的相重构。此外,Mo-NiOOH中Ni^(3+)/Ni^(2+)的比例高于循环伏安法活化制备的NiOOH。在活化过程中,Mo物种从NiMoO_(4)中浸出,制备得到的Mo-NiOOH保留了NiMoO_(4)前驱体的纳米片阵列形貌。与氢氧化镍(Ni(OH)_(2))经循环伏安法活化合成的NiOOH相比,Mo-NiOOH具有更高的Ni^(3+)/Ni^(2+)比例以及更高的电化学比表面积(ECSAs),且促进了Ni^(2+)氧化为Ni^(3+)。因此,Mo-NiOOH达到高电流密度(400mA·cm^(-2))的电位(1.51V ***)低于NiOOH(1.84 V ***)。此外,Mo-NiOOH表现出高于NiOOH的甲酸盐法拉第效率(84.7%vs.59.6%),表明钼掺杂加速了碳-碳键断裂。多电位阶跃实验显示,NiOOH和Mo-NiOOH催化的甘油电氧化通过类似的羟基氧化物介导的间接氧化机理进行。原位电化学阻抗谱和原位拉曼光谱证实,Mo掺杂促进了甘油氧化反应动力学以及Ni^(2+)氧化为Ni^(3+)的过程,导致Mo-NiOOH比NiOOH具有更高的活性和甲酸选择性。本研究通过可溶性阴离子浸出策略来调节羟基氧化物表面结构,为设计高性能亲核氧化反应电催化剂提供了指导。

关键词：循环伏安法活化电催化甘油电氧化羟基氧化物重构

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基于改进YOLOv5的X光违禁品检测算法

计算机工程与应用 2024年第16期60卷 217-227页

作者：曾泓翔文志诚湖南工业大学计算机学院湖南株洲412007

针对安检X光图像的违禁品检测效率问题以及小尺寸违禁品的漏检误检问题,提出了一种基于改进YOLOv5的X光违禁品检测算法。该算法引入了ProFPN的结构,能够在FPN+PAN的基础上增加原始特征信息,提高检测精度;相比于原始YOLOv5增加了一层160... 详细信息

针对安检X光图像的违禁品检测效率问题以及小尺寸违禁品的漏检误检问题,提出了一种基于改进YOLOv5的X光违禁品检测算法。该算法引入了ProFPN的结构,能够在FPN+PAN的基础上增加原始特征信息,提高检测精度;相比于原始YOLOv5增加了一层160×160的小目标检测层,使之拥有四尺度的特征融合,提高对小尺寸目标的学习能力;使用k-means++算法重新生成锚框尺寸,使之更加适合自制数据集的目标框大小,提高检测效率;采用了EIOU Loss作为回归损失函数,使目标框和锚框的宽高差异最小化,进一步提高检测框的定位精度和收敛速度。实验结果表明,改进后的算法在公开X光安检数据集上相比于原始YOLOv5算法mAP@0.5提高了4.7个百分点;相比于其他主流的目标检测算法,在参数量和运算量最小的情况下mAP@0.5最多提高了28.6个百分点,同样具有一定的优越性。

关键词：深度学习 YOLOv5算法 X光违禁品检测 ProFPN k-means++ EIOU Loss

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界面微环境调控策略用于电催化转化的研究进展

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科学通报 2024年第14期69卷 1821-1833页

作者：孔克俭段昊泓清华大学化学系北京100084 清源创新实验室泉州362801

近年来,由可再生电力作为驱动力的电催化反应体系的研究取得了长足的发展.而除了传统的电催化剂设计策略,催化剂(纳米级别)界面微环境的调节也同样被证明对反应性能有着深刻的影响.本文综述了界面微环境调控策略在电催化转化(如二氧化... 详细信息

近年来,由可再生电力作为驱动力的电催化反应体系的研究取得了长足的发展.而除了传统的电催化剂设计策略,催化剂(纳米级别)界面微环境的调节也同样被证明对反应性能有着深刻的影响.本文综述了界面微环境调控策略在电催化转化(如二氧化碳和生物质分子转化)领域取得的重要进展.在介绍电极-电解液界面双电层结构的基础上,阐述了界面电场调控、pH调控、底物浓度调控和物种相互作用调控4种界面调控策略.此外,我们在双电层结构水平上讨论了以上界面调控策略在离子聚合物反应体系中的综合应用.最后,对4种调控策略之间的潜在联系进行了简要的讨论,并且总结并讨论了当前微环境调控研究的局限性,展望了类酶体系设计以及对产物立体选择性调控的广阔前景.

关键词：电催化电极-电解液界面界面微环境调控策略双电层

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喷墨打印量子点薄膜制备的影响因素研究

包装工程 2024年第7期45卷 23-30页

作者：张婉黄琳泓胡馨元吴优闵思源黄蓓青北京印刷学院印刷与包装工程学院北京102600

目的为了通过喷墨打印技术很好地实现量子点薄膜图案化,需要调节量子点薄膜制备工艺的各项参数以获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。方法基板和退火是影响量子点薄膜成膜性能的2个重要参数,分别研究基板的清洗、材料... 详细信息

目的为了通过喷墨打印技术很好地实现量子点薄膜图案化,需要调节量子点薄膜制备工艺的各项参数以获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。方法基板和退火是影响量子点薄膜成膜性能的2个重要参数,分别研究基板的清洗、材料和温度以及退火的温度和时间对喷墨打印量子点薄膜成膜性能的影响。结果选择3种不同类型的溶剂依次清洗可提高基板表面能,有利于墨水的铺展;PVK基板的量子点面薄膜形貌相较于Pedot:Pss更均匀;当基板温度为50℃、退火温度为80℃或90℃、退火时间为15 min时,咖啡环效应最弱,可获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。结论基板的清洗、自身材料以及温度都会影响墨水的铺展性能,从而影响量子点薄膜的成膜性能;控制退火温度与退火时间,以使马兰戈尼流起作用,咖啡环效应被明显抑制,可以获得表面均匀的量子点薄膜。

关键词：喷墨打印量子点薄膜基板退火

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