检索结果-南通市图书馆

光学学报 1992年第11期12卷 1024-1027页

作者：江朝川范诚郭履容四川大学信息光学研究所成都610064

提出一种新的三维漫反射物体真彩色彩虹全息术,在普通一步法真彩色彩虹全息术的基础上,用单波长激光逆光路再现,可在同一种记录介质上一次曝光记录三维物体的真彩色全息图.因而特别适合于制作光致抗蚀剂模压全息母板.

关键词：彩虹全息术真彩色全息照相术

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卤化银明胶全息图的空间频率响应

中国激光 1995年第10期22卷 788-792页

作者：汪国平朱建华郭履容武汉大学物理系四川联合大学信息光学研究所

对用国产（天津Ⅰ型）卤化银全息干板制作明胶全息图时的空间频率响应特性进行了实验研究。当空间频率在５００～８００ｌｉｎｅｓ／ｍｍ之间时，获得了峰值衍射效率大于７０％的明胶全息图．此外，将通常的三步脱水法简化为一步脱水，... 详细信息

对用国产（天津Ⅰ型）卤化银全息干板制作明胶全息图时的空间频率响应特性进行了实验研究。当空间频率在５００～８００ｌｉｎｅｓ／ｍｍ之间时，获得了峰值衍射效率大于７０％的明胶全息图．此外，将通常的三步脱水法简化为一步脱水，同样可获得高衍射效率的明胶全息图。给出了这种全息图的制作过程及实验结果，并从微观机制上说明了一次性脱水的理由．

关键词：卤化银明交全息图空间频率响应

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光刻全息图的蚀刻条件研究

光学学报 1992年第3期12卷 252-255页

作者：郭永康郭履容张晓春四川大学信息光学研究所成都610064

本文提出发展蚀刻二元元件的工艺,其中最重要的是选择适当的蚀速比,它是制作具有连续厚度分布的浮雕型光刻全息图的关键,文中给出了反应功率一定时腐蚀气体流量和蚀刻速率的关系曲线,找到了合适的工作点,根据这些结果,制作成功性能优良... 详细信息

本文提出发展蚀刻二元元件的工艺,其中最重要的是选择适当的蚀速比,它是制作具有连续厚度分布的浮雕型光刻全息图的关键,文中给出了反应功率一定时腐蚀气体流量和蚀刻速率的关系曲线,找到了合适的工作点,根据这些结果,制作成功性能优良的全息光学元件.

关键词：光刻术等离子蚀刻全息光学元件

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单凹面镜一步周视彩虹全息术

中国激光 1993年第8期20卷 597-601页

作者：江朝川郭履容四川大学信息光学研究所成都610064

提出一种简便实用的一步周视彩虹全息方法,只需用单个凹面镜成像,便能一步记录可360°观察的平板彩虹全息图。给出了获得重现正像的条件,讨论了全息像差的影响,并提出了减小甚至消除全息像差的方法。

关键词：彩虹全息术周视正像全息像差

重铬酸盐明胶(DCG)全息图退化的机理分析及抗潮方法之一

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光学技术 1998年第6期24卷 48-51页

作者：王科太郭履容唐继跃四川联合大学(四川大学)信息光学研究所

ＤＣＧ全息图的环境不稳定问题阻碍了它的广泛应用。本文从ＤＣＧ全息图成像的主要材料明胶的分子结构入手，分析它的主要功能基团对全息图的成像机制和环境稳定性的影响，发现在明胶分子中大量的强极性基团氨基和羧基在ＤＣＧ成膜、光... 详细信息

ＤＣＧ全息图的环境不稳定问题阻碍了它的广泛应用。本文从ＤＣＧ全息图成像的主要材料明胶的分子结构入手，分析它的主要功能基团对全息图的成像机制和环境稳定性的影响，发现在明胶分子中大量的强极性基团氨基和羧基在ＤＣＧ成膜、光化学反应中起着重要作用。但也正是这些基团是强吸潮基团，在９０％环境湿度中，使明胶吸潮率可达到４０％。本文分析了Ｎａｉｋ用聚合物溶液涂层试图隔离潮气进入ＤＣＧ全息图的方法效果不佳的原因，采用能获得致密涂层的苯乙烯本体直接聚合成膜的方法，获得了在高湿度环境中，高衍射效率ＤＣＧ全息图长达三个月稳定的抗潮方法。

关键词： DCG 全息图环境稳定性重铬酸盐明胶退化抗潮

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并行共焦三维检测方法的理论分析

光学学报 1999年第10期19卷 1381-1385页

作者：田维坚陈波郭履容庞霖浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州310027 四川大学信息光学研究中心成都610064

从一般共焦系统的原理出发，重点围绕并行共焦方法的三维检测原理，通过引用三维点扩散函数和矩阵形式，研究了并行共焦检测方法的理论问题，确立了点阵并行共焦检测方法的检测过程。其结果表明，并行共焦检测过程总的光场分布， ... 详细信息

从一般共焦系统的原理出发，重点围绕并行共焦方法的三维检测原理，通过引用三维点扩散函数和矩阵形式，研究了并行共焦检测方法的理论问题，确立了点阵并行共焦检测方法的检测过程。其结果表明，并行共焦检测过程总的光场分布，是各条共焦检测光路的求和，

关键词：并行共焦三维检测点扩散函数矩阵形式

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基于微结构制作的溶胶凝胶浸渍成膜特性

中国激光 2001年第2期28卷 151-154页

作者：庞霖严瑛白金国藩韦辉郭履容清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084 四川大学物理系信息光学研究中心成都610064

针对制作溶胶凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离... 详细信息

针对制作溶胶凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离以上关系 ,且随速度的增大 ,膜厚增加缓慢。对成膜过程的分析表明 ,挥发过程对溶胶

关键词：微光学元件溶胶-凝胶浸渍提拉微结构薄膜