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冲击波平面性、稳定性实验用双边多台阶Al靶制备

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原子能科学技术 2010年第1期44卷 95-99页

作者：谢军邢丕峰易泰民杨蒙生孙涛袁光辉郑凤成中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900 哈尔滨工业大学精密工程研究所黑龙江哈尔滨150001

多台阶靶是冲击波稳定性、平面性实验的重要实验用靶。本工作采用单点金刚石切削技术,优化工艺过程设计,完成了铝双边多台阶靶的制备。应用Veeco NT1100白光干涉仪对表面轮廓及粗糙度进行了测量。通过SPDT技术制备的具有微细双边结构的... 详细信息

多台阶靶是冲击波稳定性、平面性实验的重要实验用靶。本工作采用单点金刚石切削技术,优化工艺过程设计,完成了铝双边多台阶靶的制备。应用Veeco NT1100白光干涉仪对表面轮廓及粗糙度进行了测量。通过SPDT技术制备的具有微细双边结构的多台阶靶可满足实验要求。各台阶表面几何厚度误差小于1%,均方根粗糙度Rq小于50 nm,轮廓最大高度Tir仅在底部台阶处最大,约200 nm,其余台阶处均小于100 nm,台阶垂直度在90°±1°内。

关键词：双边多台阶靶金刚石车削冲击波稳定性平面性

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纯钛微台阶精密连接技术

稀有金属材料与工程 2014年第11期43卷 2758-2762页

作者：杨蒙生邢丕峰赵利平李朝阳高莎莎郑凤成易泰民马小军中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

纯Ti微台阶为ICF研究中重要的基础靶型,由于物理实验的高度精密性,传统加工方法不能满足靶制备需求。研究了纯Ti微台阶的精密扩散焊接技术,获得高质量的标准台阶,其表面粗糙度Rq<100 nm、厚度一致性<100 nm、界面连续无显微缺陷、晶体... 详细信息

纯Ti微台阶为ICF研究中重要的基础靶型,由于物理实验的高度精密性,传统加工方法不能满足靶制备需求。研究了纯Ti微台阶的精密扩散焊接技术,获得高质量的标准台阶,其表面粗糙度Rq<100 nm、厚度一致性<100 nm、界面连续无显微缺陷、晶体结构均匀,未检测出杂质。

关键词：钛微台阶精密连接

磁控溅射沉积铝/贫铀与金/贫铀镀层的界面研究

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物理学报 2013年第10期62卷 392-398页

作者：易泰民邢丕峰郑凤成梅鲁生杨蒙生赵利平李朝阳谢军杜凯马坤全中国工程物理研究院激光聚变研究中心绵阳621900

采用磁控溅射技术沉积制铝/贫铀/铝(Al/DU/Al)、金/贫铀/金(Au/DU/Au)"三明治"薄膜样品.利用高分辨扫描电镜、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、扫描俄歇微探针对Al/DU/Al,Au/DU/Au样品的Al/DU,Au/DU界面行为进行表征与研究.结果表明:... 详细信息

采用磁控溅射技术沉积制铝/贫铀/铝(Al/DU/Al)、金/贫铀/金(Au/DU/Au)"三明治"薄膜样品.利用高分辨扫描电镜、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、扫描俄歇微探针对Al/DU/Al,Au/DU/Au样品的Al/DU,Au/DU界面行为进行表征与研究.结果表明:沉积态DU层以柱状晶生长;Al/DU界面扩散明显,物理扩散过程中伴随着Al,DU化学反应形成Al2U,Al3U金属化合物;金属化合物的形成导致界面处Al2p电子结合能向高能端移动,U4f电子向低能端移动;微量O在Al/DU界面处以Al2O3及铀氧化物形式存在;DU镀层中以铀氧化形式存在;沉积态的Au/DU界面扩散为简单的物理扩散,团簇效应导致Au/DU界面处Al2p,U4f电子结合能均向高能端移动;在Au/DU界面及DU镀层中,微量O以铀氧化物形式存在;Al/DU界面扩散强于Au/DU;相同厚度的Al,Au保护镀层,Al镀层保护效果优于Au镀层.

关键词： Al DU界面 Au DU界面磁控溅射界面扩散

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DU/Au复合平面膜大气寿命研究

原子能科学技术 2014年第7期48卷 1331-1335页

作者：杨蒙生邢丕峰易泰民赵利平郑凤成中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

黑腔材料的大气寿命是点火黑腔的重要指标之一，寿命实验是黑腔研制中的必要环节。本文通过X射线光电子能谱方法分析了DU/Au平面膜储存于大气环境中O含量及其分布随时间的变化规律，利用X射线衍射仪测试了相同情况下薄膜的结晶状态。实... 详细信息

黑腔材料的大气寿命是点火黑腔的重要指标之一，寿命实验是黑腔研制中的必要环节。本文通过X射线光电子能谱方法分析了DU/Au平面膜储存于大气环境中O含量及其分布随时间的变化规律，利用X射线衍射仪测试了相同情况下薄膜的结晶状态。实验证明，这种平面膜大气寿命（O原子百分数低于5％）在18-21 d之间，此期间内薄膜晶体结构无明显变化，未检测到氧化物结晶信号。

关键词： DU Au 平面膜大气寿命

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磁控溅射制备纳米厚度连续金膜

原子能科学技术 2010年第4期44卷 479-483页

作者：易泰民邢丕峰郑凤成谢军李朝阳杨蒙生中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

研究了磁控溅射工艺参数对Au膜生长速率、表面粗糙度和微观结构的影响。结果表明:当溅射功率低于200W时,溅射功率对薄膜表面粗糙度、微观结构的影响不明显。标定了溅射功率为20W条件下的Au膜生长速率,观察了Au的生长过程,在Si基底沉积... 详细信息

研究了磁控溅射工艺参数对Au膜生长速率、表面粗糙度和微观结构的影响。结果表明:当溅射功率低于200W时,溅射功率对薄膜表面粗糙度、微观结构的影响不明显。标定了溅射功率为20W条件下的Au膜生长速率,观察了Au的生长过程,在Si基底沉积的Au为岛状(Volver-Weber)生长模式,Au膜厚度为8nm时,薄膜开始连续。晶粒尺寸与薄膜厚度的关系研究结果表明:在生长初期,晶粒尺寸随厚度线性增大;随后,晶粒尺寸增速变缓,直至停滞;趋于70nm时,新晶粒形成取代晶粒长大。

关键词：磁控溅射表面粗糙度纳米Au膜

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公立医院国有资产管理绩效评价研究

会计之友 2024年第1期 64-72页

作者：陈阳郑凤春中国医科大学附属盛京医院辽宁省卫生经济学会

文章从资产管理能力、资产保障水平、资产运行效率、资产管理效果、资产持续发展、满意度评价六个方面构建公立医院国有资产管理绩效评价指标体系,运用层次分析法确定指标权重,并运用模糊综合评价法对SJ医院国有资产管理水平进行实证分... 详细信息

文章从资产管理能力、资产保障水平、资产运行效率、资产管理效果、资产持续发展、满意度评价六个方面构建公立医院国有资产管理绩效评价指标体系,运用层次分析法确定指标权重,并运用模糊综合评价法对SJ医院国有资产管理水平进行实证分析。结果表明,SJ医院通过开展国有资产管理绩效评价,在提高资产使用效率,降低医院运营成本,提升医疗服务质量等方面取得了显著成效。文章结论对于健全公立医院国有资产管理绩效考核评价指标体系,探索全方位国有资产管理绩效考评格局具有重要意义。

关键词：公立医院国有资产管理绩效评价层析分析法模糊综合评价法

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真空热压技术制备EOS实验用LiH薄膜

稀有金属材料与工程 2013年第2期42卷 424-428页

作者：谢军邢丕峰易泰民赵利平李朝阳杨蒙生郑凤成张林中国工程物理研究院四川绵阳621900

氢化锂(LiH)是重要的热核材料,其状态方程参数是惯性约束聚变研究的重要内容。本工作采用真空热压技术制备氢化锂薄膜,在真空度小于5.0×10-4Pa,温度450℃,升温速率10℃/min,采取分段加压、退火,获得了厚度小于100μm、厚度一致性约98%... 详细信息

氢化锂(LiH)是重要的热核材料,其状态方程参数是惯性约束聚变研究的重要内容。本工作采用真空热压技术制备氢化锂薄膜,在真空度小于5.0×10-4Pa,温度450℃,升温速率10℃/min,采取分段加压、退火,获得了厚度小于100μm、厚度一致性约98%的氢化锂薄膜,表面粗糙度小于100nm,热压后密度增加,达到0.780g/cm3。X射线衍射分析结果表明:薄膜的主要成分为氢化锂,薄膜存在择优取向、内应力、晶粒细化等特征。

关键词：氢化锂薄膜热压状态方程

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纳米厚度贫铀/Au多层膜的制备及特性研究

物理学报 2012年第8期61卷 461-466页

作者：易泰民邢丕峰杜凯郑凤成杨蒙生谢军李朝阳中国工程物理研究院激光聚变研究中心绵阳621900

理论和实验研究表明,纳米厚度周期调制的贫铀(DU)/Au多层膜材料具有高效的激光X射线转换效率.采用交替磁控溅射制备纳米厚度的DU/Au平面多层周期结构,通过白光干涉仪、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱对DU/Au多层膜的几何参数、表面形... 详细信息

理论和实验研究表明,纳米厚度周期调制的贫铀(DU)/Au多层膜材料具有高效的激光X射线转换效率.采用交替磁控溅射制备纳米厚度的DU/Au平面多层周期结构,通过白光干涉仪、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱对DU/Au多层膜的几何参数、表面形貌、成分以及界面形貌进行表征.实验结果表明:8 nm为Au连续成膜的厚度阈值,结合理论计算最优化原子配比,选取DU层厚度为30 nm、Au层厚度为8 nm的调制周期结构;实测周期厚度为37 nm;扫描电子显微镜照片显示DU/Au分层明显;X射线光电子能谱深度刻蚀分析表明DU/Au界面处存在扩散,DU,Au,O三者原子比为73:26:1;由于团簇效应,Au原子4f电子结合能向高能端移动,没有观察到DU相应的电子结合能移动现象.

关键词：贫铀/Au多层膜激光X射线转换效率原子比团簇效应

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金属铀膜的制备及应用现状

核技术 2009年第12期32卷 905-910页

作者：易泰民邢丕峰李朝阳谢军郑凤成李国荣中国工程物理研究院激光聚变研究中心绵阳621900

介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其... 详细信息

介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其表征方法。以及薄膜沉积过程中生长速率和厚度监控的常用方法。

关键词：金属铀膜蒸镀磁控溅射