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检索条件"作者=邢廷文"
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红外焦平面阵列非均匀性校正的精度分析
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光子学报 2005年 第11期34卷 1681-1684页
作者: 周金梅 邢廷文 林妩媚 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 成都610209
介绍了红外图像非均匀性校正的基本方法,并用基于黑体多点线性校正算法对128×128的红外焦平面阵列进行了图像校正,获得了较好的结果.多点线性校正的精度与定标点的选择和其数量有关,所以在得到探测器响应曲线的基础上,对这两个因素的... 详细信息
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国外高变焦比中波红外镜头的研究进展
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红外与激光工程 2015年 第3期44卷 795-802页
作者: 白瑜 邢廷文 李华 蒋亚东 冯成 中国科学院光电技术研究所 四川成都610209 电子科技大学光电信息学院 四川成都610054 中国科学院大学 北京100049 中国南玻集团成都南玻玻璃有限公司 四川成都610200
与红外定焦镜头和红外两档变焦镜头相比,红外连续变焦镜头具有连续可变的视场,可对目标进行连续的跟踪,是未来红外成像技术的发展方向。随着光学冷加工、精密机械加工、镀膜技术等工艺水平的不断进步,以及现代科技的发展要求,红外变焦... 详细信息
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衍射光学元件设计参数对杂散光的影响(英文)
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红外与激光工程 2013年 第11期42卷 3059-3064页
作者: 殷可为 黄智强 林妩媚 邢廷文 中国科学院光电技术研究所 四川成都610209 中国科学院大学 北京100049
衍射光学元件被广泛应用于激光光束整形领域中。然而,在实际测量中常常发现衍射效率实际的测量值与设计值存在较大的偏差,原因之一在于输出的焦斑主瓣以外会产生高级次衍射杂散光。文中从理论上推导了高级次衍射杂散光产生的原因并对具... 详细信息
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基于微反射镜阵列的光刻照明模式变换系统设计
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光学学报 2015年 第11期35卷 94-103页
作者: 邢莎莎 冉英华 江海波 邢廷文 中国科学院光电技术研究所 四川成都610209
光源掩膜协同优化是45 nm节点以下浸没式光刻提高分辨率的重要途径之一,为了重构其优化后输出的像素级光源,提出了一种基于可寻址二维微反射镜阵列的新型照明模式变换系统设计方法。分析了减少重构光源所需微反射镜数量的原理,结合成像... 详细信息
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抑制大噪声的解包算法
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激光与光电子学进展 2011年 第1期48卷 67-72页
作者: 徐富超 邢廷文 中国科学院光电技术研究所 四川成都610209 中国科学院研究生院 北京100049
移相干涉技术是高精度面形检测的主要手段之一,但当图像中含有大噪声和大块无效区域时,解包却是一个难题。将噪声点分为残差点和不连续点,对残差点采用三点邻域的组合对其进行判定,对不连续点在解包前后进行两次标记,并在解包后利用邻... 详细信息
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用于凹非球面的计算全息设计及其误差分析
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激光与光电子学进展 2012年 第11期49卷 67-72页
作者: 冯婕 邓超 邢廷文 中国科学院光电技术研究所应用光学实验室 四川成都610209 中国科学院大学 北京100049
为实现非球面元件表面面形的高精度检测,提出并设计了一种兼具相位补偿、装调计算全息图(CGH)和待测非球面的多功能计算全息图。多功能计算全息图由主全息、对准全息和基准全息3部分组成。介绍了各部分的工作原理及其设计方法,比较了辅... 详细信息
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光学投影曝光微纳加工技术  4
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丛书名: 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著
2006年
作者: 姚汉民 胡松 邢廷文
国家科学技术学术著作出版基金资助:本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景,详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。
来源: 汇雅图书(南通市图书馆... 评论
部分相干成象的模拟计算方法
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光电工程 1996年 第2期23卷 20-27页
作者: 唐波 王效才 邢廷文 中国科学院光电技术研究所
介绍了一种模拟计算部分相干光成象的实用化方法。根据部分相干理论,推导出数值计算模型,并采用各种方法简化,减少了计算量。根据计算公式编制出了部分相干成象模拟计算软件,可模拟数值孔径、波长、相干因子、离焦、波象差、物体的... 详细信息
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EM框架下实现被动测距的状态估计和参数学习
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红外与激光工程 2012年 第7期41卷 1708-1713页
作者: 王万平 廖胜 邢廷文 中国科学院研究生院 北京100049 中国科学院光电技术研究所 四川成都610209
在红外成像跟踪系统中,通常仅能测量目标的角度信息,不能直接测量目标与观测站间的距离。研究了基于红外成像系统的被动测距技术,首先利用状态空间模型的分析方法建立被动测距的状态估计和参数学习的混合估计模型,然后介绍EM的基本原理... 详细信息
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193nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析
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光电工程 2009年 第2期36卷 67-72页
作者: 邢廷文 何国良 舒亮 中国科学院光电技术研究所 成都610209 中国科学院研究生院 北京100039
为了提高移相点衍射干涉仪对193nm投影光刻系统的检测精度,本文对其主要测量误差进行了探讨。在简要介绍了193nm移相点衍射干涉仪的基本结构和测量原理之后,总结了可能对测量结果产生影响的各种误差及其产生的原因。通过理论分析和数值... 详细信息
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