检索结果-南通市图书馆

用两种不同的紫外光照射高纯水和废水降低总有机碳的比较

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电子学报 2007年第5期35卷 801-805页

作者：闻瑞梅葛伟伟邓守权同济大学电子信息学院上海200092

本文研究了用185nm UV和254nm UV照射方法降低高纯水中的TOC和废水中五种有机物的TOC,用185nm UV能有效地将高纯水中的TOC降低到(≤0.3μg/L),满足超大规模集成电路用水的需要.同时研究了用两种不同的紫外线185nmUV和254nmUV,对比照射... 详细信息

本文研究了用185nm UV和254nm UV照射方法降低高纯水中的TOC和废水中五种有机物的TOC,用185nm UV能有效地将高纯水中的TOC降低到(≤0.3μg/L),满足超大规模集成电路用水的需要.同时研究了用两种不同的紫外线185nmUV和254nmUV,对比照射降低水中难生物降解的有毒、有害的五种有机污染物(二苯甲酮、孔雀石绿、对氯苯酚(4-CP)、对硝基苯酚(4-NP)和罗丹明B(Rh B)的TOC,结果表明185nmUV,比254nmUV,降低有机物的TOC好得多.有利于环境保护.

关键词： 185nmUV 254nmUV 总有机碳(TOC) 高纯水废水

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用185nm UV降低水中总有机碳的研究

工业水处理 2005年第12期25卷 18-21页

作者：邓守权闻瑞梅同济大学环境科学与工程学院上海200092 同济大学电子信息学院上海200092

研究了用185nmUV降解水中有机物的机理,185nmUV首先光解高纯水,并通过实验测出所形成的H2O2,证实了185nmUV照射水时,可以产生活性中间体HO·等。185nmUV应用到高纯水制备系统中,能有效地将高纯水中的总有机碳(TOC)降低到≤0.3μg/L,满... 详细信息

研究了用185nmUV降解水中有机物的机理,185nmUV首先光解高纯水,并通过实验测出所形成的H2O2,证实了185nmUV照射水时,可以产生活性中间体HO·等。185nmUV应用到高纯水制备系统中,能有效地将高纯水中的总有机碳(TOC)降低到≤0.3μg/L,满足超大规模集成电路用水的需要。同时185nmUV对废水中的有机物也有较好降解作用,是一种降解水中难生物降解的有毒有害的有机污染物的新方法,有利于丰富高级氧化技术以及环境保护。

关键词： 185 nm UV 总有机碳高纯水

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用紫外光和双氧水降低工业废水色度的研究

电子学报 2005年第8期33卷 1353-1355页

作者：闻瑞梅邓守权葛伟伟同济大学电子信息工程学院上海200092 同济大学环境科学与工程学院上海200092

本文研究185nmUV加H2O2去除工业废水中的色度.实验结果表明:185nmUV能使水发生均裂反应,产生·OH、·H和eaq(水合电子)等活性中间体,对废水的色度有一定的去除作用;对185nmUV加H2O2对废水的色度有很好的去除效果,而且H2O2在紫外线的作... 详细信息

本文研究185nmUV加H2O2去除工业废水中的色度.实验结果表明:185nmUV能使水发生均裂反应,产生·OH、·H和eaq(水合电子)等活性中间体,对废水的色度有一定的去除作用;对185nmUV加H2O2对废水的色度有很好的去除效果,而且H2O2在紫外线的作用下也可以生成·OH,与单独使用185nmUV相比,降解速率可以提高10～20倍.因此脱色效果好,脱色速度快,适合多种色料,处理后结果色度均能达到国家一级以上的排放标准.本文研究的185nmUV+H2O2方法,工艺简单、操作方便、脱色快捷效果好,可广泛应用于各种场合的各种色度的脱除.

关键词： 185nmUV H2O2 废水色度

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电去离子过程中膜堆电阻的研究

膜科学与技术 2004年第5期24卷 22-24,28页

作者：闻瑞梅张亚峰邓守权范伟同济大学环境科学系

研究了电去离子(EDI)过程膜堆电阻的组成,考察了电压、进水电导率及进水流量等因素对膜堆电阻的影响,探讨了EDI膜堆电阻的表达式.

关键词：电去离子膜堆电阻电压进水电导率进水流量高纯水

185nm UV降解水中4-CP、4-NP和RhB的研究

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感光科学与光化学 2007年第1期25卷 1-11页

作者：闻瑞梅邓守权同济大学电子信息工程学院上海200092

本文以对氯苯酚(4-CP)、对硝基苯酚(4-NP)和罗丹明B(Rh B)为模型有机物(以4-CP和4-NP为小分子模型有机物,以Rh B为大分子模型有机物),分别研究了185 nm UV对水中这3种模型有机物的降解规律、性能和效果.研究结果表明,185 nm UV直接对水... 详细信息

本文以对氯苯酚(4-CP)、对硝基苯酚(4-NP)和罗丹明B(Rh B)为模型有机物(以4-CP和4-NP为小分子模型有机物,以Rh B为大分子模型有机物),分别研究了185 nm UV对水中这3种模型有机物的降解规律、性能和效果.研究结果表明,185 nm UV直接对水中4-CP、4-NP和Rh B有很好的降解效果.研究内容包括:185 nm UV降解模型有机物的浓度、TOC(Total organic carbon)浓度、185 nm UV降解模型有机物过程中溶液pH及电导率变化、以及降解模型有机物过程中产生的无机离子等几个方面.

关键词：废水对氯苯酚对硝基苯酚罗丹明B 降解总有机碳 185 nmUV

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半导体工艺用高纯水中硅、硼的去除

电子学报 2005年第2期33卷 197-199页

作者：闻瑞梅邓守权张亚峰葛伟伟上海同济大学电子信息工程学院上海200092

本文主要研究了EDI(Electrodeionization)对高纯水中硅、硼的脱除方法 .通过对电压、进水电导率 (淡室、浓室 )、流量 (淡室、浓室、极室 )、pH值等因素的研究 ,得出EDI最佳脱硅、硼条件 .EDI进水SiO_2 浓度为 10 0 0 μg/L ,最佳出水硅... 详细信息

本文主要研究了EDI(Electrodeionization)对高纯水中硅、硼的脱除方法 .通过对电压、进水电导率 (淡室、浓室 )、流量 (淡室、浓室、极室 )、pH值等因素的研究 ,得出EDI最佳脱硅、硼条件 .EDI进水SiO_2 浓度为 10 0 0 μg/L ,最佳出水硅为 2 .6 6 μg/L ,为目前国内最好水平 .EDI进水硼浓度为 5 0 μg/L ,最佳出水中硼含量为 <1μg/L .满足了大规模集成电路用水中硅、硼的要求 (对于兆位电路硅要求 <3μg/L ,硼要求 <1μg/L) .

关键词：电脱盐 EDI(Electrodeioniation)硅硼高纯水

半导体生产排放的废气和废水中砷、磷、硫的分析方法研究

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重庆环境科学 2003年第12期25卷 1-3页

作者：闻瑞梅邓守权张亚峰范伟同济大学上海200092

研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原 -气相色谱分析方法 [1 - 2 ] ,,并自行设计了高温还原系统 (还原炉、六通阀等 ) ,测定半导体生产排放废气和废水中的砷、磷、硫及其化合物 ,样品不需预处理 ,使气相色谱仪能直接测定固、液、气... 详细信息

研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原 -气相色谱分析方法 [1 - 2 ] ,,并自行设计了高温还原系统 (还原炉、六通阀等 ) ,测定半导体生产排放废气和废水中的砷、磷、硫及其化合物 ,样品不需预处理 ,使气相色谱仪能直接测定固、液、气相样品中砷、磷、硫及其化合物的含量。砷、磷、硫的检测限分别为 0 .0 1 mg/ L、0 .0 0 3mg/ L、0 .0 2 mg/ L ;相对标准偏差分别为 6.2 %、8.6%和 0 .3% ,与经典方法进行对比 ,结果基本一致。从分析方法的误差统计角度 ,也说明该方法准确、可靠。

关键词：高温氢还原-气相色谱砷磷硫分析方法

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用电去离子方法去除高纯水中硅的研究

工业水处理 2004年第10期24卷 27-29页

作者：闻瑞梅张亚峰邓守权范伟同济大学环境科学与工程学院上海200092 华东建筑设计研究院有限公司上海200002 北京钢铁设计总院北京100053

研究了电压、pH、流量等因素对EDI去除高纯水中硅的影响,探讨了EDI装置对高纯水中硅的去除机理,并对传统工艺与EDI的除硅效果进行了对比。实验结果表明:在pH、流量等因素不变的情况下,电压的增加有利于EDI对硅的脱除;在电压、流量等因... 详细信息

研究了电压、pH、流量等因素对EDI去除高纯水中硅的影响,探讨了EDI装置对高纯水中硅的去除机理,并对传统工艺与EDI的除硅效果进行了对比。实验结果表明:在pH、流量等因素不变的情况下,电压的增加有利于EDI对硅的脱除;在电压、流量等因素不变的情况下,EDI对硅的脱除率随着pH的增加先增加,然后有所下降;在电压、pH等因素不变的情况下,流量的增加不利于EDI对硅的脱除。

关键词：电去离子硅高纯水

PBTCA与铜、锌、镉、镍离子间的配位化学研究

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工业水处理 2002年第1期22卷 23-25页

作者：朱志良邓守权倪亚明同济大学化学系上海200092

采用电位滴定方法 ,运用先进的配位常数计算程序 ,通过恰当配位化学模型的建立 ,研究了水溶液中 2-膦基丁烷 - 1,2 ,4 -三羧酸 (PBTCA)自身的解离以及与Cu2 + 、Zn2 + 、Cd2 + 、Ni2 + 离子间的配位化学作用 ,测定了相应的解离常数和配... 详细信息

采用电位滴定方法 ,运用先进的配位常数计算程序 ,通过恰当配位化学模型的建立 ,研究了水溶液中 2-膦基丁烷 - 1,2 ,4 -三羧酸 (PBTCA)自身的解离以及与Cu2 + 、Zn2 + 、Cd2 + 、Ni2 + 离子间的配位化学作用 ,测定了相应的解离常数和配合物稳定常数 ,并得到了各配合物物种在不同 pH值条件下的形态分布。

关键词： PBTCA 电位滴定配位化学铜离子锌离子镍离子镉离子循环冷却水阻垢剂水处理