检索结果-南通市图书馆

氧气分压和热处理温度对制备玻璃基二氧化钛薄膜的表面形貌和光学性能的影响

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稀有金属材料与工程 2004年第3期33卷 309-312页

作者：赵青南李春领赵修建武汉理工大学湖北武汉430070

用直流反应磁控溅射法制备了玻璃基TiO2薄膜。溅射过程中,Ar气的分压保持在0.85Pa不变,而O2 的分压在0.10Pa^0.65Pa之间变化;镀膜试样在400℃～550℃之间进行热处理。用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的表面... 详细信息

用直流反应磁控溅射法制备了玻璃基TiO2薄膜。溅射过程中,Ar气的分压保持在0.85Pa不变,而O2 的分压在0.10Pa^0.65Pa之间变化;镀膜试样在400℃～550℃之间进行热处理。用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的表面形貌、薄膜沉积速率和光学带隙宽度。结果表明,随着氧气分压从0.10Pa增加到0.65Pa,薄膜沉积速率从4.4nm/min下降到2.2nm/min,光学带隙从3.67eV下降到3.59eV,薄膜表面呈现出均匀的纳米晶粒和纳米孔;550℃热处理有助于较致密薄膜形成纳米晶粒和纳米孔,并降低带隙宽度。

关键词：玻璃基二氧化钛薄膜纳米晶粒纳米孔氧气分压磁控溅射法热处理温度表面形貌光学性能

TiO_2纳米薄膜的溶胶-凝胶工艺制备和表征

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物理化学学报 2000年第9期16卷 792-797页

作者：余家国赵修建赵青南武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室武汉430070

通过sol-gel工艺在普通钠钙玻璃表面制备了均匀透明的锐钛矿型TiO2纳米薄膜.TiO2薄膜的X射线衍射分析表明，当薄膜的厚度小于0.46μm时,薄膜中未出现锐钛矿的衍射峰.随着镀膜次数或薄膜厚度的增加，薄膜中TiO2纳米微晶的平均晶粒大小逐... 详细信息

通过sol-gel工艺在普通钠钙玻璃表面制备了均匀透明的锐钛矿型TiO2纳米薄膜.TiO2薄膜的X射线衍射分析表明，当薄膜的厚度小于0.46μm时,薄膜中未出现锐钛矿的衍射峰.随着镀膜次数或薄膜厚度的增加，薄膜中TiO2纳米微晶的平均晶粒大小逐渐增大，TiO2薄膜的透光率略有减小，其吸收阈值发生了明显的红移.XPS实验结果表明：薄膜中除含有Ti、O元素外，还有一定量来自有机前驱物中未完全燃烧的碳和少量从玻璃表面扩散到薄膜中的Na和Ca元素.

关键词：溶胶-凝胶纳米薄膜制备表征二氧化钛

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半水石膏与复水半水石膏的性能及工业意义

非金属矿 1995年第5期18卷 32-34页

作者：赵青南武汉工业大学

利用Ｘ射线衍射、电导率仪研究了半水石膏（ＨＨ）与复水半水石膏（ＨＨ＇）的物相组成和水化特性．探讨了ＨＨ与ＨＨ＇相的物理性能．结果表明，ＨＨ与ＨＨ＇均为半水石膏相，水化特性曲线符合溶解－过饱和－析晶机理；在物理性能方面... 详细信息

利用Ｘ射线衍射、电导率仪研究了半水石膏（ＨＨ）与复水半水石膏（ＨＨ＇）的物相组成和水化特性．探讨了ＨＨ与ＨＨ＇相的物理性能．结果表明，ＨＨ与ＨＨ＇均为半水石膏相，水化特性曲线符合溶解－过饱和－析晶机理；在物理性能方面，ＨＨ＇相优于ＨＨ相．这一研究．对熟石膏粉的生产具有一定的指导意义．

关键词：石膏半水石膏水化特性

溅射气氛中O_2/Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO_2薄膜结构与亲水性的影响

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稀有金属材料与工程 2003年第5期32卷 339-343页

作者：赵青南刘保顺赵修建 A.W.Sleight 武汉理工大学湖北武汉430070 Oregon State University

在工作气压为0.80Pa的氧氩气混合气氛下,改变氧与氩的流量比(O2/Ar:0.10,0.20,0.30),在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D.C.)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电... 详细信息

在工作气压为0.80Pa的氧氩气混合气氛下,改变氧与氩的流量比(O2/Ar:0.10,0.20,0.30),在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D.C.)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射仪(XRD)分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物相组成,用接触角分析仪测试了试样在紫外光(UV)照射后的水润湿角。

关键词：玻璃基TiO2薄膜亲水性直流反应磁控溅射氧气和氩气流量比

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影响熟石膏粉性能的因素浅析

非金属矿 1994年第4期17卷 28-30页

作者：赵青南武汉工业大学

本文探讨了β型过烧石膏粉相组成对它的流变性能和力学性能的影响，以及熟石膏粉在陈化过程中温度、料层堆放厚度和环境湿度与Ⅲ型石膏（ＡⅢ）向半水石膏（ＨＨ）转化的关系．结果表明．在一定的炒制工艺条件下．使熟石膏粉中生成一定... 详细信息

本文探讨了β型过烧石膏粉相组成对它的流变性能和力学性能的影响，以及熟石膏粉在陈化过程中温度、料层堆放厚度和环境湿度与Ⅲ型石膏（ＡⅢ）向半水石膏（ＨＨ）转化的关系．结果表明．在一定的炒制工艺条件下．使熟石膏粉中生成一定性的ＡⅢ，通过选择适当的陈化措施，可大辐度地改善熟石膏粉的流度性能和力学性能．

关键词：熟石膏粉过烧陈化硫酸盐矿物

基片温度对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO_2薄膜结构与亲水性的影响

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硅酸盐学报 2003年第7期31卷 678-681页

作者：赵青南刘保顺赵修建 SLEIGHT A W 武汉理工大学美国俄勒冈州立大学化学系新材料研究中心

在工作气压为 2 .0Pa的氧气氛下 ,通过改变基片温度 (室温 ,2 80℃ ,42 0℃ ) ,在预先镀 10nm左右SiO2 的普通玻璃基片上用直流磁控溅射法制备了 30 0nm左右的TiO2 薄膜试样。用X射线光电子能谱和X射线衍射仪分别研究了试样的表面元素... 详细信息

在工作气压为 2 .0Pa的氧气氛下 ,通过改变基片温度 (室温 ,2 80℃ ,42 0℃ ) ,在预先镀 10nm左右SiO2 的普通玻璃基片上用直流磁控溅射法制备了 30 0nm左右的TiO2 薄膜试样。用X射线光电子能谱和X射线衍射仪分别研究了试样的表面元素组成、离子状态和物相组成 ,用接触角分析仪测试了试样在紫外光照射后的水润湿角。结果表明 :试样表面的钛离子都以 +4价的形式存在 ,氧化钛表面易吸附OH-和CO32 - ,氧化钛中n (O)∶n (Ti) =1.90～ 1.97;基片不加热时 ,试样是非晶态 ,升高基片温度 ,薄膜结晶逐渐完善 ,并以锐钛矿形式存在。在相同时间的紫外线照射下 ,非晶TiO2 膜的润湿角从 34°降低到 2 2° ,而结晶完好的试样的润湿角从 18°～ 2 4°降低到

关键词：二氧化钛薄膜亲水性直流磁控溅射基片温度

镀SiO_2膜玻璃基片上SnO_2∶Sb薄膜的溶胶-凝胶法制备及表征

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硅酸盐学报 2005年第5期33卷 553-558页

作者：张君赵青南陈甲林赵修建武汉理工大学

用溶胶凝胶法在已镀SiO2膜的钠钙硅玻璃和没有镀SiO2的钠钙硅玻璃基片上镀制了锑掺杂摩尔分数为8.0%的二氧化锡薄膜。对不同热处理温度下薄膜样品的结构和性能进行了表征。结果表明:在673～823K范围内热处理60min时,薄膜以四方相金红石... 详细信息

用溶胶凝胶法在已镀SiO2膜的钠钙硅玻璃和没有镀SiO2的钠钙硅玻璃基片上镀制了锑掺杂摩尔分数为8.0%的二氧化锡薄膜。对不同热处理温度下薄膜样品的结构和性能进行了表征。结果表明:在673～823K范围内热处理60min时,薄膜以四方相金红石结构存在;随着热处理温度的提高,晶面衍射峰由宽化趋向尖锐,结晶逐渐完善;薄膜中的Sn以+4价的形式存在,掺杂的Sb以+5和+3价形式存在;当温度为673K和723K时,凝胶中的C没有完全燃尽,以C—O和CO形式存在于薄膜中。镀膜样品的可见光平均透过率随热处理温度的升高而增大;在热处理温度相同时,预先镀有SiO2膜的玻璃基片上制备的锑掺杂二氧化锡(ATO)薄膜的方块电阻较没有镀SiO2的小。

关键词：锑掺杂二氧化锡薄膜钠钙硅玻璃基片热处理温度溶胶-凝胶

镀SiO_2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO_2:Sb薄膜

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硅酸盐学报 2007年第5期35卷 600-605页

作者：周祥赵青南王鹏赵修建武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室武汉430070

采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-dopedtinoxide,ATO)薄膜。研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响。用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见... 详细信息

采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-dopedtinoxide,ATO)薄膜。研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响。用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征。结果表明:沉积温度为490℃以上时,薄膜主要以四方相金红石结构存在。随着基板输送速度的提高,薄膜择优取向由(110)转变为(200)。薄膜中掺杂的Sb以Sb5+的形式存在;当基板温度为530℃时,薄膜表面的C没有完全燃尽,以C-O形式存在于薄膜中。薄膜的可见光透过率随基板温度的升高而增大。具有(110)择优取向的薄膜的红外反射性能较好。

关键词：锑掺杂氧化锡薄膜化学气相沉积基板温度基板输送速度择优取向

热处理对TiO_2溅射薄膜结构和光谱性能的影响

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稀有金属材料与工程 2005年第9期34卷 1451-1454页

作者：刘保顺何鑫赵修建赵青南武汉理工大学湖北武汉430070

用直流反应磁控溅射法制备了TiO2薄膜,并对热处理前后试样的紫外可见光谱(UV-Visspectrum)和荧光发射光谱(PLSpectrunm)做了研究。发现热处理后试样的紫外可见光谱在496nm处出现了一个较为明显的吸收峰,荧光发射光谱496.5nm处出现一个... 详细信息

用直流反应磁控溅射法制备了TiO2薄膜,并对热处理前后试样的紫外可见光谱(UV-Visspectrum)和荧光发射光谱(PLSpectrunm)做了研究。发现热处理后试样的紫外可见光谱在496nm处出现了一个较为明显的吸收峰,荧光发射光谱496.5nm处出现一个荧光发射带肩。X射线光电子能谱(XPS)的分析结果表明,热处理可使薄膜中晶格氧扩散出去,生成Ti3+离子和氧空位。结合XPS的分析结果和理论计算,可推断热处理后出现的位于496nm处的吸收峰和496.5nm处的荧光带肩可被指认为薄膜中Ti3+离子的d电子跃迁产生。

关键词：热处理二氧化钛紫外可见光谱荧光光谱