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抛光盘、抛光头转速比对化学机械抛光效果的影响分析
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电子工业专用设备 2011年 第5期40卷 9-14页
作者： 高慧莹 费玖海 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京101601
针对化学机械抛光(CMP)过程中,抛光盘、抛光头转速比不同,其晶片的抛光效果不同的现象,从运动学角度详细分析了CMP过程中晶片上任一点的去除速度和运动轨迹,并通过Matlab进行仿真,找出转速比与去除速度和运动轨迹的函数关系。
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化学机械抛光(CMP)过程中抛光盘温度控制的分析研究
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电子工业专用设备 2011年 第8期40卷 5-8页
作者： 孙振杰 刘涛 费玖海 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京101601
在化学机械抛光(CMP)过程中,温度是影响晶片最终抛光效果的主要因素之一,采用合理的温度控制方法,把温度控制在一定的范围内才能满足化学机械抛光的工艺要求。通过化学机械抛光机理分析阐述了抛光过程中热量产生的根源,介绍了一种温度... 详细信息
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蓝宝石抛光去除率试验的正交设计方法
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电子工业专用设备 2012年 第4期41卷 29-32,58页
作者： 孙振杰 费玖海 刘涛 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京065201
影响蓝宝石抛光去除率的因子有很多,为了得到最佳工艺流程和工艺参数组合,实际工作中需要在诸多影响因素中找出对去除率影响最显著的因子,并以拟合方程的形式来建立数学模型。探讨了运用正交试验的方法,通过MINITAB软件对试验数据进行分... 详细信息
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PG-510型单面抛光机的研制
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电子工业专用设备 2010年 第8期39卷 11-15,19页
作者： 刘涛 高慧莹 罗杨 费玖海 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京东燕郊101601
介绍了针对蓝宝石衬底表面纳米级抛光工艺而研制的PG-510单面抛光机的主要结构及其性能特点,简要论述了抛光过程中各工艺参数的控制方案,并通过实验验证了设备的主要性能指标,能够满足蓝宝石衬底表面纳米级抛光的工艺要求。
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集成电路工艺中减薄与抛光设备的现状及发展
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电子工业专用设备 2014年 第2期43卷 6-10页
作者： 费玖海 杨师 周志奇 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京101601
晶圆加工是单晶硅衬底和集成电路制造中的关键技术之一,为了得到更稳定的硅片,提高其平整度和表面洁净度,国内外技术人员越来越注重减薄与抛光设备的研究与改进。介绍了针对硅片平坦化工艺的减薄设备及现阶段加工过程中防止碎片的技术方... 详细信息
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太阳能晶硅电池片印刷工艺及工艺物化初步研究
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电子工业专用设备 2012年 第10期41卷 15-20页
作者： 赵立华 易辉 费玖海 吕磊 张建亮 任晓庆 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京100176
对丝网印刷工作原理、工艺过程和产品质量检测等进行了分析,同时也对设备工艺物化和具体技术进行了简要阐述。
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半导体制造设备排气通风设计及仿真
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电子工业专用设备 2021年 第1期50卷 63-66页
作者： 史霄 杨师 杨元元 费玖海 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京100176
从设计标准、性能标准、测试方法等方面介绍了SEMI S6标准,并以CMP后清洗设备为例介绍了排气通风设计中的一些注意事项。以CMP后清洗设备中的清洗槽为例,介绍了利用流体仿真软件对排气通风设计的有效性进行验证的方法,对设备排气通风的... 详细信息
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用于晶圆刷洗的同心卡接机构设计
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电子工业专用设备 2017年 第1期46卷 53-55页
作者： 陶利权 熊朋 蒲继祖 李嘉浪 费玖海 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京100176
在CMP后清洗工艺过程中,往往需要对机刷进行快速更换。针对以上需求,设计了一种用于晶圆刷洗的同心卡接机构,很好地解决了机刷更换过程同心度存在偏差及更换不便的问题,改善了晶圆表面清洗的效果。
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封育对蒿类荒漠草地土壤微生物碳源利用特征的影响
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草业学报 2025年 第1期 29-40页
作者： 阿斯太肯·居力海提 孙宗玖 于冰洁 迪达尔·比苏力旦 李美莎 敬一胜 新疆农业大学草业学院 新疆草地资源与生态自治区重点实验室 西部干旱荒漠区草地资源与生态教育部重点实验室
为探究蒿类荒漠草地土壤微生物碳源利用特征对封育的响应规律，以新疆昌吉回族自治州呼图壁县和玛纳斯县蒿类荒漠草地为对象，采取野外实地调查及室内分析相结合的方法，对封育内外土壤微生物碳源利用特征进行测定，并结合植被特征、土... 详细信息
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阿来诗艺探索的跨文类呈现
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当代文坛 2025年 第1期 180-186页
作者： 宋铸海 香港珠海学院 中国
从诗歌发轫创作的阿来,内心持有连绵丰沛的诗意,强烈的自觉意识让他将内心诗意化为一股灵气、伟力,深深点染了其他文体的创作,从主旨雕刻、灵魂塑造,再到行文布局、叙事策略、语言艺术,他在不同文体中为诗意寻找落脚点,使得诸多作品都... 详细信息
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