检索结果-南通市图书馆

金属热处理 2003年第5期28卷 45-47页

作者：段国炎谢仕芳江西省科学院江西南昌330029

以气门的离子轰击热处理为研究对象 ,通过对装炉形式、处理温度及工艺方法等试验 ,探讨了尺寸精度要求较高的细长杆件的离子热处理工艺。结果表明 ,采用吊挂式及双重加热离子热处理 ,具有最佳处理效果。

关键词：高精度细长杆件离子轰击热处理

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双重加热离子渗氮炉

金属热处理 1994年第3期19卷 36-39页

作者：余由海段国炎谢仕芳陈洪民江西省科学院南昌330029

针对旧式离子渗氮炉所存在的问题，在新炉子的研制中作了大量结构改进工作。所研制的双重加热离子渗氮炉可消除工件由油污引起的弧光，提高了工件的温度均匀性，具有省电、节水、生产效率高的特点。用该炉进行气门的离子渗氮，其硬度、... 详细信息

针对旧式离子渗氮炉所存在的问题，在新炉子的研制中作了大量结构改进工作。所研制的双重加热离子渗氮炉可消除工件由油污引起的弧光，提高了工件的温度均匀性，具有省电、节水、生产效率高的特点。用该炉进行气门的离子渗氮，其硬度、表面质量和尺寸精度均能达到产品的技术要求。

关键词：双重加热离子渗氮炉

Sn3.0Ag0.5Cu0.05Cr/Cu焊点界面IMC层热时效形貌及生长行为研究

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稀有金属材料与工程 2015年第9期44卷 2234-2239页

作者：谢仕芳韦习成鞠国魁徐可心江西省科学院应用物理研究所江西南昌330029 上海大学上海200072

研究了Sn3.0Ag0.5Cu0.05Cr焊料(SACCr)制成的Cu/Solder/Cu焊点在150℃时效0、168、500及1000 h下界面金属间化合物(IMC)层的形貌及生长行为,并与Sn3.0Ag0.5Cu(SAC)焊料的焊点进行了比较。结果表明,相对于SAC的焊点,SACCr中弥散或固溶分布的微量Cr延缓了焊点界面IMC层的生长。时效时间越长,Cr的阻抑效果越明显。150℃时效1000 h的Cu/SACCr/Cu焊点界面IMC层的平均厚度是Cu/SAC/Cu的45%,仅为5.13μm。

关键词： SnAgCu 无铅焊料铬金属间化合物热时效

电弧离子镀TiN工艺优化及TiN/TiC多层膜性能

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材料热处理学报 2014年第4期35卷 188-192,207页

作者：谢仕芳张栋孙丽丽王振玉魏仕勇柯培玲汪爱英江西省科学院应用物理研究所江西南昌330029 中科院宁波材料技术与工程研究所海洋新材料与应用技术重点实验室浙江宁波315201

采用电弧离子镀技术制备TiN薄膜,研究了不同氮分压以及基体偏压下薄膜的表面质量、微结构、相组成、硬度以及结合力,优化工艺参数并制备TiN/TiC多层膜,比较了多层膜以及TiC单层膜的硬度以及摩擦性能的差异。结果表明,经过对不同工艺参... 详细信息

采用电弧离子镀技术制备TiN薄膜,研究了不同氮分压以及基体偏压下薄膜的表面质量、微结构、相组成、硬度以及结合力,优化工艺参数并制备TiN/TiC多层膜,比较了多层膜以及TiC单层膜的硬度以及摩擦性能的差异。结果表明,经过对不同工艺参数下薄膜的形貌结构以及性能比较,确定采用0.6 Pa氮分压以及-100 V基体偏压作为TiN优化工艺参数,在该工艺基础上制备的TiN/TiC多层膜与单层TiC薄膜相比具有更高的硬度以及更低的摩擦系数。

关键词：电弧离子镀 TiN TiN/TiC多层膜

刻蚀工艺对四面体非晶碳膜生长及其性能的影响

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表面技术 2017年第4期46卷 143-149页

作者：郭婷左潇郭鹏李晓伟吴晓春谢仕芳汪爱英上海大学材料科学与工程学院上海200072 中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江宁波315201 中国科学院宁波材料技术与工程研究所浙江省海洋材料与防护技术重点实验室浙江宁波315201 江西省科学院应用物理研究所南昌330029

目的研究不同等离子体刻蚀工艺对基体和四面体非晶碳膜(ta-C)的影响,并进一步考察不同电弧等离子体刻蚀时间对ta-C薄膜结构的影响。方法采用自主设计研制的45°单弯曲磁过滤阴极真空电弧镀膜设备,进行不同等离子体刻蚀以及ta-C薄膜的沉... 详细信息

目的研究不同等离子体刻蚀工艺对基体和四面体非晶碳膜(ta-C)的影响,并进一步考察不同电弧等离子体刻蚀时间对ta-C薄膜结构的影响。方法采用自主设计研制的45°单弯曲磁过滤阴极真空电弧镀膜设备,进行不同等离子体刻蚀以及ta-C薄膜的沉积。使用等离子体发射光谱仪表征离子种类及其密度,使用椭偏仪表征薄膜厚度,原子力显微镜表征刻蚀后的基体粗糙度,拉曼光谱仪和XPS表征薄膜结构,TEM分析薄膜的膜基界面结构。结果辉光刻蚀工艺中,作用的等离子体离子以低密度的Ar离子为主;而电弧刻蚀时,作用的等离子体离子为高密度的Ar离子和少量的C离子,并且能够在基体表面形成约15 nm的界面层,并实现非晶碳膜(a-C)的预沉积。随电弧等离子体刻蚀时间增加,ta-C薄膜的sp3含量有所降低。结论相比于辉光刻蚀,电弧刻蚀利于制备较厚的ta-C薄膜。这主要是因为电弧刻蚀时,基体表面形成良好的界面混合层,并预沉积了非晶碳膜,形成a-C/ta-C的梯度结构,有助于增强膜基结合力。

关键词：四面体非晶碳膜辉光刻蚀电弧刻蚀刻蚀时间结构

离子束辅助磁控溅射沉积CrN_x薄膜结构以及力学性能研究

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真空科学与技术学报 2013年第12期33卷 1237-1241页

作者：张栋孙丽丽王振玉柯培玲汪爱英谢仕芳中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋新材料与应用技术重点实验室宁波315201 江西省科学院应用物理研究所南昌330029

采用离子束辅助磁控溅射工艺制备CrNx薄膜,研究了不同氮气流量下薄膜微观形貌,组织结构以及力学性能的变化。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪测试薄膜的表面形貌特征以及组织结构,采用纳米... 详细信息

采用离子束辅助磁控溅射工艺制备CrNx薄膜,研究了不同氮气流量下薄膜微观形貌,组织结构以及力学性能的变化。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪测试薄膜的表面形貌特征以及组织结构,采用纳米压痕仪测试薄膜的硬度以及弹性模量。实验结果表明,随氮气流量增加,薄膜沉积速率先降低后保持稳定,粗糙度先减小后增加,相组成由Cr2N相转变为CrN相,硬度、弹性模量先增加后降低。由于Ar离子束的辅助轰击以及N离子的高反应活性,在氮气流量为10 ml/min时,获得了结构致密,表面光滑,晶粒细小,相组成为Cr2N的力学性能优异的薄膜。

关键词：磁控溅射 CrNx 离子束辅助力学性能

低银Sn-Ag-Cu-Bi-Er焊料及其焊点的拉伸性能研究

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稀有金属材料与工程 2012年第S2期41卷 744-748页

作者：毕文珍林飞鞠国魁谢仕芳韦习成上海大学上海200072 江西省科学院应用物理研究所江西南昌330029

采用差热分析、润湿性和力学性能试验研究了自主研发的一种新型低银无铅焊料Sn-XAg-0.3Cu-3Bi-0.05Er(SACBE)(X=1.0,1.5,2.0)及其焊点的拉伸性能。结果显示,与Sn-3.0Ag-0.5Cu(SAC)焊料相比,SACBE焊料具有较低的起始熔化温度(204～206℃... 详细信息

采用差热分析、润湿性和力学性能试验研究了自主研发的一种新型低银无铅焊料Sn-XAg-0.3Cu-3Bi-0.05Er(SACBE)(X=1.0,1.5,2.0)及其焊点的拉伸性能。结果显示,与Sn-3.0Ag-0.5Cu(SAC)焊料相比,SACBE焊料具有较低的起始熔化温度(204～206℃)和较好的润湿性。Cu/SACBE/Cu焊点的拉伸强度与Cu/SAC/Cu焊点相当,但是其韧性显著改善。表明新型低银SACBE焊料,在保持SAC焊料优良物理力学性能基础上所具有的成本优势。

关键词：低银 SACBE SAC 熔点润湿性