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作者

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  • 48 篇 中文
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L波段1500W GaN功率放大器
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半导体技术 2023年 第3期48卷 218-223页
作者: 史强 要志宏 蒙燕强 曹欢欢 中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄050051
基于0.5μm GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺对GaN芯片结构进行了改进。通过优化场板参数提高击穿电压,通过优化接地孔分布方式降低管芯热阻,设计了单指栅宽1500μm、总栅宽120 mm的改进型GaN HEMT。该芯片具有高击穿电压305 V、低热阻... 详细信息
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小型化恒温压控振荡器设计
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半导体情报 2000年 第3期37卷 58-61页
作者: 申永进 要志宏 电子十三所 石家庄050051
采用附加恒温电路对振荡器进行温度补偿 ,进而实现了低温漂。在结构设计上摒弃了传统的复杂恒温槽结构 ,改为对管壳封装的集成 VCO进行局部恒温 ,讨论了对温度漂移有影响的关键因素。通过合理设计 ,达到了要求的技术指标 ,实现了小型化。
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集成化故障检测电路设计
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半导体情报 2001年 第5期38卷 33-35页
作者: 王占奎 要志宏 电子十三所 河北石家庄050051
讨论了高频 (微波 )通讯系统中故障检测电路设计的一般方法及设计中应注意的问题 。
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基于SFCR新型介质的X波段压控振荡器的研制
基于SFCR新型介质的X波段压控振荡器的研制
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2009年全国微波毫米波会议
作者: 陈君涛 要志宏 中国电子科技集团第十三研究所
本文提出了一种基于DLI公司SFCR新型介质谐振器的压控振荡器(VCDO)的设计方法。此方法摒弃了传统的在介质谐振器旁边直接并联变容二极管来调谐振荡器输出频率的做法,采用调谐振荡器负阻电路部分的工作状态来实现频率的调谐。利用此方... 详细信息
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X波段GaN MMIC低噪声放大器设计
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半导体技术 2015年 第5期40卷 358-363页
作者: 刘飞飞 要志宏 宋学峰 刘帅 中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄050051
采用Si C衬底0.25μm Al Ga N/Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺,研制了一款X波段Ga N单片微波集成电路(MMIC)低噪声放大器(LNA)。放大器采用三级级联拓扑,第一级采用源极电感匹配,在确保良好的输入回波损耗的同时优化放大器噪... 详细信息
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S波段平衡式限幅MMIC低噪声放大器设计
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半导体技术 2015年 第10期40卷 749-753页
作者: 孔令甲 要志宏 高长征 陈书宾 中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄050051
结合混合微波集成电路(HMIC)工艺和砷化镓单片微波集成电路(MMIC)工艺各自优势,设计制作了一款小型化大功率S波段平衡式限幅MMIC低噪声放大器。采用平衡式结构,提高了限幅功率容量和可靠性。由于金丝键合线的等效电感具有更高Q值,... 详细信息
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胡萝卜粉中提取类胡萝卜素的工艺研究
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中国调味品 2017年 第7期42卷 152-155页
作者: 要志宏 李波 张琛 胡舰 范文奇 扬州大学旅游烹饪学院 江苏扬州225127
利用有机溶液浸提的方法,将胡萝卜粉中含有的类胡萝卜素浸提测量,实验过程中经过对实验时间、实验温度、实验料液比、提取次数的控制,探究各个因素对浸提实验的作用程度的大小,从而获得最优的浸提单因素,之后经过正交实验,获得类胡萝卜... 详细信息
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基于三维集成技术的Ku波段四通道T/R模块
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半导体技术 2021年 第4期46卷 286-289,329页
作者: 张鸣一 朱春雨 刘文豹 要志宏 中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄050051
基于三维集成技术研制了一款适用于表面贴装技术的Ku波段四通道T/R模块。模块内部设计成两层层叠结构,层间使用球栅阵列实现互连,仿真分析模块微波垂直互连结构、腔体谐振和散热模型,实现模块的小型化。模块集成了数控移相、数控衰减和... 详细信息
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悬置带线超宽带高通滤波器的设计
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半导体技术 2010年 第10期35卷 1035-1038页
作者: 白银超 要志宏 李宏军 赵梁博 中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄050051 天津工业大学信息与通信工程学院 天津300160
介绍了一种悬置带线超宽带高通滤波器。该滤波器采用了悬置带线结构,可以提供很高的Q值,减小了滤波器的插入损耗,具有极好的矩形度。这种结构还提供了双面电路,制作成宽边耦合线,可以解决微带线的边缘耦合量不够的问题。从高通滤波器的... 详细信息
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0.2~30GHz GaAs FET开关模型的提取与验证
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半导体技术 2012年 第5期37卷 347-350页
作者: 刘帅 要志宏 赵瑞华 宋学峰 中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄050051
在GaAs单片微波集成电路(MMIC)设计中,准确的器件模型对于提高电路设计成功率和缩短电路研发周期起着重要作用。首先采用标准的GaAs MMIC工艺制造出不同栅指数和单位栅宽的开关PHEMT器件,然后对加工的开关电路在"开"态(Vgs=0 V)和"关"态... 详细信息
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