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主题

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  • 53 篇 北京大学
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作者

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胃癌患者中HER2蛋白的表达和Lauren分型及P53的相关性研究
胃癌患者中HER2蛋白的表达和Lauren分型及P53的相关性研究
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作者: 褚一鸣 浙江大学
学位级别:硕士
背景和目的:人表皮生长因子受体2(HER2)蛋白的表达状态对于胃癌患者来说是非常重要的病理学特征。然而,HER 2蛋白的表达对于胃癌患者的临床意义仍然存在争议。本研究的目的是分析胃癌患者当中HER2蛋白的表达与其临床病理学特征、Lauren... 详细信息
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软土地基预压减沉与路堤防滑集成技术研究
软土地基预压减沉与路堤防滑集成技术研究
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作者: 褚一鸣 浙江理工大学
学位级别:硕士
由于公路线路较长,经过路段地质条件相对复杂,公路建设中路基填料的来源十分有限,都使用优质填料的可能性不大,限于造价,往往就地取材成为必然选择。所以在傍河软土地区采用覆水预压法,对于砂、石、土等材料资源紧张而水资源丰富的东南... 详细信息
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利用能量过滤成像技术对注氮SOI的研究
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Journal of Semiconductors 1990年 第9期11卷 688-693页
作者: 段晓峰 都安彦 褚一鸣 中国科学院北京电子显微镜实验室 中国科学院半导体研究所
本文报道了利用能量过滤成像技术对注氮SOI结构的研究。能量选择狭缝分别置于△E=16eV和△E=25eV,对应于Si和Si_3N_4的等离子能量损失的非弹性散射,电子显微照片可以给出更多的结构信息。顶层单晶硅和上氮化硅层之间的过渡层可以明显地... 详细信息
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纳米硅薄膜的生长动力学与计算机模拟
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物理学报 1996年 第4期45卷 655-660页
作者: 林鸿溢 武旭辉 何宇亮 褚一鸣 北京理工大学电子工程系 北京100081 北京航空航天大学物理系 北京100083 中国科学院电子显微镜实验室 北京100080
氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜由于其具有奇异的结构和独特的性质,而引起广泛的关注.本文在等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统中,以高纯H_2高度稀释SiH_4为反应气体源,在射频和直流双重功率源的激励下制备成功具有纳米结构的nc-Si:H薄膜.... 详细信息
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玻璃分相的电子能量损失谱研究
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电子显微学报 1991年 第4期10卷 443-444页
作者: 陈全庆 褚一鸣 段晓峰 樊先平 中科院半导体所
、引言:玻璃中液-液分相是材料科学工作者很感兴趣的问题。因为分相在很多玻璃形成系统中发生并影响其微观结构与性质。可应用之于制造微晶玻璃,光色玻璃,微孔玻璃等,亦可因之而造成材料的缺陷使材料质量性质下降。在玻璃分相的热力... 详细信息
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科技照亮梦想,钱老流芳百世——观影《钱学森》有感
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作文新天地 2024年 第26期 10-11页
作者: 褚一鸣 浙江省杭州师范大学附属仓前实验中学801班
“如果这是报效祖国的唯方式,我也愿意回国种苹果。”这是电影《钱学森》中钱学森对当时加州理工学院杜布里奇院长关于他归国疑问的坚定回答。钱学森为什么心想要回国?他身上有什么东西让当时的美国政府费尽心机阻止他回国?为什...
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浅谈“小先生”教学法在初中体育教学中的应用
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新课程研究 2023年 第19期 18-20页
作者: 褚一鸣 上海外国语大学附属奉贤实验中学
随着素质教育的进步发展,体育运动在初中教学中将发挥更大的作用。陶行知先生提出:“小孩子最好的先生,不是我,也不是你,是小孩子队伍里最进步的小孩子。”这也间接提出了以学生为主体的教育理念。每个学生都应该成为知识和信息... 详细信息
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纳米硅薄膜界面结构的微观特征
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Journal of Semiconductors 1994年 第1期15卷 71-73,T001,2页
作者: 何宇亮 褚一鸣 王中怀 刘湘娜 白春礼 北京航空航天大学非晶态物理研究室 中国科学院北京电子显微镜开放实验室中国科学院化学研究所STM实验室南京大学物理系及固体微结构实验室
对使用等离子体增强化学汽相沉积法(PECVD)制备的纳米硅薄膜(nc-Si:H),使用HREM及STM技术观测了其显微结构,给出大量的界面结构图象.首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况.使我们认识到nc-Si:H... 详细信息
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LEC掺In-GaAs单晶中的种新型缺陷
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Journal of Semiconductors 1986年 第4期 341-345+453-455页
作者: 何晖 褚一鸣 林兰英 中国科学院半导体研究所
在LEC掺In-GaAs单晶中发现种沿方向的局部富In的位错密集区.用多种电子显微技术(SEM-CL、EPMA、CTEM和HREM)并结合X射线形貌术(XRT)对这种缺陷的晶体学和化学性质进行了研究.对其成因提出了种初步的解释:这种缺陷的形成与组分... 详细信息
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Ge_xSi_(1-x)/Si应变层超晶格X-射线双晶衍射的运动学研究
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Journal of Semiconductors 1992年 第1期13卷 14-21页
作者: 段晓峰 冯国光 王玉田 褚一鸣 刘学锋 盛篪 周国良 中国科学院北京电子显微镜实验室 北京100080 中国科学院半导体研究所 北京100083 上海复旦大学表面物理实验室 上海200433
本文利用X射线双晶衍射对应变层超晶格进行了研究.我们从超晶格的台阶模型出发,运用运动学理论,推导出了X射线衍射强度的表达式,清楚地揭示了合金成分x,应变,层厚比与迴摆曲线强度分布的关系.对Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格双晶X射线衍射强度... 详细信息
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