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金属热处理 2008年第8期33卷 93-95页

作者：金凡亚王珂赵嘉学沈丽如陈庆川童洪辉核工业西南物理研究院四川成都610041

介绍了一种新型等离子体增强化学气相沉积内表面复合处理系统。利用此系统沉积TiN涂层的结果表明,100mm×1000mm316不锈钢管内表面沉积涂层相对均匀,且具有较好的表面特性和机械特性。

关键词：等离子体增强化学气相沉积管状样品内表面

核工业西南物理研究院的等离子体源离子注入技术研究

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中国核科技报告 1997年第S1期 9-9页

作者：尚振魁耿漫童洪辉核工业西南物理研究院成都核工业西南物理研究院

介绍了等离子体源离子注入装置PSII-EX原型机和PSII-IM工业样机,并对其功能、主要技术指标及特点作了简述。等离子体源离子注入处理后,一些材料表面机械性能(如显微硬度、耐磨性、摩擦因数及生物相容性等)的改善情况、改性层的微观分析... 详细信息

介绍了等离子体源离子注入装置PSII-EX原型机和PSII-IM工业样机,并对其功能、主要技术指标及特点作了简述。等离子体源离子注入处理后,一些材料表面机械性能(如显微硬度、耐磨性、摩擦因数及生物相容性等)的改善情况、改性层的微观分析及计算机

关键词：等离子体源离子注入离子掺杂 PSII

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直流辉光等离子体的边缘效应

金属热处理 2016年第8期41卷 89-93页

作者：冯军陈美艳金凡亚但敏聂军伟沈丽如童洪辉赖新春核工业西南物理研究院四川成都610041 南华大学电气工程学院湖南衡阳421001 四川材料与工艺研究所四川江油621700

结合辉光渗氮试验结果,对直流辉光等离子体材料处理中的边缘效应进行了研究,根据相关鞘层理论,对工件边角处及其附近的鞘层厚度S、电场强度E及离子密度n进行了定性分析。结果表明:在边缘效应范围d内,当远离边角时,S将变大、E及n变小。... 详细信息

结合辉光渗氮试验结果,对直流辉光等离子体材料处理中的边缘效应进行了研究,根据相关鞘层理论,对工件边角处及其附近的鞘层厚度S、电场强度E及离子密度n进行了定性分析。结果表明:在边缘效应范围d内,当远离边角时,S将变大、E及n变小。主等离子体密度n0的减少将使边缘效应的影响范围d变大,因此降低工作气压p及电流I可减弱边缘效应。采用改进措施渗氮后,工件边缘效应得到抑制,且渗氮效果较好。

关键词：边缘效应直流辉光鞘层理论辉光渗氮

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Na3PO4复合电解液制备的Zr-4合金陶瓷膜的防护性能

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Na3PO4复合电解液制备的Zr-4合金陶瓷膜的防护性能

真空热处理对316L不锈钢镀Al层结构及性能的影响

2011中国材料研讨会

作者：但敏童洪辉沈丽如核工业西南物理研究院2所

＜正＞选择磷酸盐为主要成分的复合电解液体系,用微弧氧化方法在Zr-4合金进行表面处理,以改善其抗溶液腐蚀性能。分别用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射等探讨了Zr-4合金中组织形貌、化学组成和相组成,并借助电化学极化曲线测试评价

关键词：

来源： cnki会议评论

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金属热处理 2015年第8期40卷 138-141页

作者：冯军沈丽如金凡亚但敏陈美艳童洪辉赖新春核工业西南物理研究院四川成都610041 南华大学电气工程学院湖南衡阳421001 四川材料与工艺研究所四川江油621700

对316L不锈钢的镀铝层进行了热处理,并利用XRD、SEM、EDS分别对膜层进行了相结构、表面形貌、化学成分等分析,并测试了膜基结合力、抗热震性能。结果表明,热处理后膜层分为三层,中间层为Fe Al相,并呈现梯度特征;膜基结合力有较大提高,Fe... 详细信息

对316L不锈钢的镀铝层进行了热处理,并利用XRD、SEM、EDS分别对膜层进行了相结构、表面形貌、化学成分等分析,并测试了膜基结合力、抗热震性能。结果表明,热处理后膜层分为三层,中间层为Fe Al相,并呈现梯度特征;膜基结合力有较大提高,Fe Al层、Al层间的厚度越接近,膜基结合力越大;抗热震性能有较大改善,由于Fe Al具有较好的物理、力学性能,其结晶度越高,抗热震性能越好。

关键词： 316L不锈钢热处理 Fe Al相膜基结合力抗热震性能

PSⅡ工业样机用平面磁控溅射靶设计及工艺实验

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中国核科技报告 1998年第S3期 106-108页

作者：穆莉兰童洪辉霍延峰

根据全方位等离子体源离子注入(PSII)工业样机实验和应用的需要,用等效电流磁场计算法获得的数据结果,设计了一种子面磁控溅射靶。并利用此平面磁控靶在一定的Ar、N气体分压及不同电流、电压条件下,成功地制备出金黄色氮化钛薄膜,并利... 详细信息

根据全方位等离子体源离子注入(PSII)工业样机实验和应用的需要,用等效电流磁场计算法获得的数据结果,设计了一种子面磁控溅射靶。并利用此平面磁控靶在一定的Ar、N气体分压及不同电流、电压条件下,成功地制备出金黄色氮化钛薄膜,并利用台阶轮廓仪测量了TiN薄膜的沉积速率,这表明该靶的沉积速率能满足增强沉积TiN涂层的需要。在现代工业的许多领域中,已认识到提高材料的耐磨损、耐腐蚀的必要性和迫切性,而对材料表面进行改性是提高材料性能的最有效和经济的手段。离子注入技术作为金属材料表面性能改善的有效手段,愈来愈受到人们的关注。特别是近年来发展的全

关键词： PSII工业样机平面磁控溅射靶沉积速率

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新一代全方位离子注入及增强沉积工业机

真空 2002年第2期 48-52页

作者：童洪辉陈庆川霍岩峰王珂穆莉兰冯铁民赵军严冰耿漫核工业西南物理研究院核工业西南物理研究院四川成都610041

本文报告了核工业西南物理研究院最近研制开发的新一代全方位离子注入及增强沉积工业机。该机直径 90 0 m m,高 10 5 0 m m,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了 PL C控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。气体和金属等离子... 详细信息

本文报告了核工业西南物理研究院最近研制开发的新一代全方位离子注入及增强沉积工业机。该机直径 90 0 m m,高 10 5 0 m m,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了 PL C控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。气体和金属等离子体可分别由热阴极放和三个高效磁过滤式金属等离子体源产生。真空室顶部预留了法兰口并配有冷却靶台。该机的负高压脉冲幅值为 10～ 80 k V,重复频率为 5 0～ 5 0 0 Hz,脉冲上升沿小于 2 μs,并且可根据需要产生脉冲串。一般地等离子体密度为 10 8～ 10 1 0 cm- 3,膜沉积速率为0 .1～ 0 .5 nm/s。文中亦报道了一些实验结果

关键词：离子注入增强沉积等离子体源

The Properties of the Rectangular Arc Ion Plating with Magnetic Filtering Shutter

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Plasma Science and Technology 2004年第6期6卷 2581-2584页

作者：石中兵童洪辉刘小波熊涛李勇严复秀赵燕杨作贵 Southwestern Institute of Physics Chengdu 610041 China

A major obstacle to the broad application of cathodic arc plasma deposition is the presence of macroparticles. In this paper, the properties of the large rectangular arc ion plating with a magnetic filtering shutter system to filter macroparticles are studied. It is proposed that the macroparticles in the plasma beam are effectively removed with the magnetic filtering shutter system, and the quality of the deposited films is improved.

关键词： magnetic filtering shutter cathodic vacuum arc macroparticles removal plasma

A study of temperature effect on Ta+N ion-implanted hardalloy

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Plasma Science and Technology 2001年第4期3卷 897-902页

作者：赵青赵峰童洪辉耿漫郑永真 Southwestern Institute of Physics Chengdu 610041 China West China Medical Center of SiChuan University Chengdu 610064 China

Hard alloy were implanted with a dudl-ion of nitrogen and tatalum at temperature of 100℃ and 400℃ at a dose of 8×1017 ions cm-2 .Auger electron spectroscopy (AES) was used to determine the nitrogen and tantalum concentration profiles. Microhardness measurements were performed to evaluate the improvements in surface property. The thickness of implanted layers increased by about an order of magnitude when the temperature was elevated from 100℃ to 400 ℃. A higher surface hardness was also obtained in the higher temperature implantation. Scanning electron microscopy (SEM) image showed distinct microstructural changes, and X-ray diffiaction (XRD) analysis showed the presence of nitrides of tantalum and tungsten on the surface implanted.

关键词： A study of temperature effect on Ta+N ion-implanted hardalloy Ta

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感应耦合等离子体矩的二维数值模拟研究

感应耦合等离子体矩的二维数值模拟研究