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中国生物医学工程学报 1995年第1期14卷 22-27页

作者：孙多先王海千天津大学应用化学系

本文采用色彩分析技术对环氧乙烷灭菌化学指示器的化学变色速率进行了研究。结果表明：其速率方程与微生物杀灭速率方程相似，同属对数方程，且其变色速率远远小于微生物杀灭速率，因而为其用于表征灭菌终点提供了可靠的科学依据。

关键词：环氧乙烷灭菌化学指示器变色速率

Co-SiO2 颗粒膜中颗粒相互作用的温度和尺寸依赖关系(英文)

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低温物理学报 2002年第4期24卷 254-259页

作者：赵志军王兵王海千合肥230026 中国科学技术大学结构分析中心中国科学技术大学结构分析中心安徽

我们在真空离子束溅射设备中制备了Co SiO2 颗粒膜 .其结构和磁性分别利用透射电子显微术 (TEM)和铁磁共振 (FMR)来研究 .TEM分析表明Co纳米颗粒相互独立地分布在SiO2介质中 ,且尺寸分布非常窄 .室温转角FMR实验显示薄膜具有单轴各向异... 详细信息

我们在真空离子束溅射设备中制备了Co SiO2 颗粒膜 .其结构和磁性分别利用透射电子显微术 (TEM)和铁磁共振 (FMR)来研究 .TEM分析表明Co纳米颗粒相互独立地分布在SiO2介质中 ,且尺寸分布非常窄 .室温转角FMR实验显示薄膜具有单轴各向异性 .变温FMR实验被用来研究在 10 0～ 30 0K温度范围内的颗粒间相互作用强度随温度变化的关系 (我们利用一理论模型计算了颗粒集合体中的铁磁部分所占比例和超顺磁部分所占比例 ) .我们发现颗粒间相互作用强度除了与温度有关之外 ,还与Co颗粒的尺寸直接相关

关键词：颗粒膜 Co-SiO2 SiO

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Ni纳米颗粒膜输运性质的尺寸效应

中国科学技术大学学报 2003年第2期33卷 171-177页

作者：林罡王海千王晓平中国科学技术大学理化中心

采用离子束溅射方法制备了不同名义厚度的非连续Ni金属膜 .用原位的直流电导和交流介电谱方法研究了其活化能与薄膜名义厚度的关系 ;通过原子力显微镜测量了颗粒直径和颗粒间距 ,估算出薄膜的充电能 .比较表明 ,薄膜的活化能和充电能近... 详细信息

采用离子束溅射方法制备了不同名义厚度的非连续Ni金属膜 .用原位的直流电导和交流介电谱方法研究了其活化能与薄膜名义厚度的关系 ;通过原子力显微镜测量了颗粒直径和颗粒间距 ,估算出薄膜的充电能 .比较表明 ,薄膜的活化能和充电能近似相等 ,与薄膜名义厚度的关系也很相近 ,符合Sheng

关键词： Ni纳米颗粒膜电子输运性质尺寸效应活化能充电能颗粒直径颗粒间距

反应磁控溅射制备SiOx渐变折射率红外梳状滤光片

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中国激光 2009年第8期36卷 2144-2149页

作者：宋秋明黄烽李明谢斌王海千姜友松宋亦周中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室 USTC-SHINCRON先进薄膜工艺材料联合实验室安徽合肥230026 SHINCRON株式会社品川东京114-0011日本中国科学院深圳先进技术研究院中国科学院香港中文大学深圳先进集成技术研究所广东深圳518055

梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiO_x(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的Si... 详细信息

梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiO_x(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiO_x渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层,成功地设计并制备了具有较好光学性能的SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件。使用单一的硅溅射靶材,通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法,为特殊光学薄膜器件的制备提供了一种经济实用的工艺路线。

关键词：薄膜渐变折射率梳状滤光片反应磁控溅射 SiOx

Bi1.9Sb0.1Sr2Ca2Cu2+xOy 的超导特性（x=0,0.4,0.8,1.0,1.2,1.6）

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低温物理学报 1990年第5期 321-324页

作者：周玲,陈兆甲,毛志强,王海千,曹烈兆中国科技大学物理系中国科技大学物理系中国科技大学物理系中国科技大学物理系中国科技大学物理系合肥 230026 合肥 230026 合肥 230026 合肥 230026 合肥 230026

文中报道了 Bi1.9Sb0.1Sr2Ca2Cu2+xOy,系列的交流磁化率测量及 X 射线衍射结果,发现超导转变温度对于 Cu 的组份非常敏感,当 x=0.4时,样品在136.5K 出现抗磁性,其 X 射线衍射图中新相衍射峰较85K 超导相的峰更强,因此 Cu 的价态和配位... 详细信息

文中报道了 Bi1.9Sb0.1Sr2Ca2Cu2+xOy,系列的交流磁化率测量及 X 射线衍射结果,发现超导转变温度对于 Cu 的组份非常敏感,当 x=0.4时,样品在136.5K 出现抗磁性,其 X 射线衍射图中新相衍射峰较85K 超导相的峰更强,因此 Cu 的价态和配位数在形成高和 Tc超导相中起着至关重要的作用.

关键词：交流磁化率衍射峰超导特性超导相 x)O_y x 超导转变温度超导临界温度 Cu Bi Sb Ca

固体氧化物燃料电池阳极材料的流延制备和电池性能研究

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功能材料 2007年第A4期38卷 1470-1472页

作者：张尚权林彬陶泽天藉伟杰王海千刘卫中国科学技术大学材料科学与工程系安徽合肥230026

利用流延法制备NiO-YSZ阳极，采用磁控溅射、多层流延法制备YSZ电解质薄膜，丝网印刷制备BSCF-YSZ阴极，制备出Ni-YSZ／YSZ／BSCF-YSZ单电池。阳极制备中探索了浆料配比对生坯性能的影响；研究了不同造孔剂得到的流延阳极的微结构形貌... 详细信息

利用流延法制备NiO-YSZ阳极，采用磁控溅射、多层流延法制备YSZ电解质薄膜，丝网印刷制备BSCF-YSZ阴极，制备出Ni-YSZ／YSZ／BSCF-YSZ单电池。阳极制备中探索了浆料配比对生坯性能的影响；研究了不同造孔剂得到的流延阳极的微结构形貌差异。考察了双层流延、磁控溅射制备YSZ薄膜的微观结构，并测试评价了电池性能。

关键词： SOFC 流延磁控溅射 YSZ 阳极

C_(60)-Ag薄膜高、低温粗糙表面的标度行为和粗糙化机理的实验研究

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中国科学（A辑） 1998年第7期28卷 656-661页

作者：侯建国王衍朱晓光王海千夏锐吴自勤中国科学技术大学结构研究开放实验室中国科学技术大学高等研究院合肥230026 中国科学技术大学高等研究院中国科学院固体物理研究所合肥230031

利用原子力显微镜和透射电子显微镜对沉积在NaCl衬底上的C60 Ag复合薄膜的表面形貌和微结构进行了研究 .结果表明薄膜表面的粗糙度依赖于衬底的温度 ,当衬底温度从 - 80℃上升到 1 2 0℃ ,薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程 .... 详细信息

利用原子力显微镜和透射电子显微镜对沉积在NaCl衬底上的C60 Ag复合薄膜的表面形貌和微结构进行了研究 .结果表明薄膜表面的粗糙度依赖于衬底的温度 ,当衬底温度从 - 80℃上升到 1 2 0℃ ,薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程 .由于高温和低温条件下 ,薄膜表面的粗糙化机理不同 .高低温的表面虽然具有类似的rms粗糙度 ,但却具有不同的分形标度行为 .同时探讨了标度行为。

关键词：薄膜表面粗糙度标度性质粗糙化机理

Structures and optical properties of tungsten oxide thin films deposited by magnetron sputtering of WO_3 bulk:Effects of annealing temperatures

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Chinese Physics B 2014年第9期23卷 509-514页

作者：张锋王海千王松汪竟阳钟志成金叶 School of Optoelectronic Information Chongqing University of Technology Hefei National Laboratory for Physical Sciences at Microscale University of Science and Technology of China Hubei Key Laboratory of Low Dimensional Optoelectronic Material and Devices

Tungsten oxide thin films were deposited on glass substrates by the magnetron sputtering of WO3 bulk at room temperature. The deposited films were annealed at different temperatures in air. The structural measurements indicate that the films annealed below 300℃ were amorphous, while the films annealed at 400 ℃ were mixed crystalline with hexagonal and triclinic phases of WO3. It was observed that the crystallization of the annealed films becomes more and more distinct with an increase in the annealing temperature. At 400 ℃, nanorod-like structures were observed on the film surface when the annealing time was increased from 60 min to 180 min. The presence of W=O stretching, W-O-W stretching, W-O-W bending and various lattice vibration modes were observed in Raman measurements. The optical absorption behaviors of the films in the range of 450-800 nm are very different with changing annealing temperatures from the room temperature to 400 ℃. After annealing at 400 ℃, the film becomes almost transparent. Increasing annealing time at 400 ℃ can lead to a small blue shift of the optical gap of the film.

关键词： tungsten oxide film magnetron sputtering structure optical property

Experimental study of scaling properties and roughing mechanisms in C_(60)- Ag thin films

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Science China Mathematics 1998年第9期41卷 995-1001页

作者：侯建国王衍朱晓光王海千夏锐 1. Structure Research Laboratory and Advanced Research Institute University of Science and Technology of China 230026 Hefei China 2. Hefei Solid State Institute Chinese Academy of Sciences 230031 Hefei China

Surface morphologies and microstructures of C 60 /Ag composite films were studied by atomic force microscope (AFM) and transmission electron microscope (TEM). The surface roughness depended on the substrate temperature, and the transition of surface morphology of rough→smooth→rough was observed when the substrate temperature increased from -50 to 120℃. Although the rms values are similar, the scaling properties of the thermal roughing and the kinetic roughing surfaces are quite different. The relations between the scaling properties, microstructures and roughing mechanisms are discussed based on the AFM and TEM results.

关键词： thin film surface roughness scaling property.

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具有稳定开关特性的单电子晶体管

科技开发动态 2004年第10期 45-46页

作者：鲁山卢威王兵王海千中国科学技术大学 230026