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检索条件"作者=汤玉生"
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MOS沟道和衬底电流的二维分布理论建模
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电子学报 1999年 第7期27卷 72-75页
作者: 汤玉生 郝跃 上海交通大学 西安电子科技大学
小尺寸MOS器件参量具有很强的分布效应,需要二维模型描述.本文从y截面流函数方程求解获得了MOS器件中的沟道电流和衬底电流二维分布解析模型.模型是横向场Ey(y)和纵向场Ex(y)的函数.二维分布模型载有较充分的物理... 详细信息
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栅控T_c的高温氧化物超导体场效应晶体管
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电子学报 1995年 第8期23卷 15-19页
作者: 蒋建飞 汤玉生 蔡琪 上海交通大学微电子学研究所
本文提出了栅控超导临界温度T_c的高温氧化物超导体场效应晶体管(HTOSs-MOSuFET)的原理。建立了场控T_c的方程,估算和分析了器件特性,对发展和研究HTOSs-MOSuFET的器件和电路有积极的指导意义。
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超导磁通流晶体管的研究进展
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固体电子学研究与进展 1995年 第3期15卷 261-268页
作者: 汤玉生 蔡琪 蒋建飞 上海交通大学微电子技术所
对超导磁通流晶体管的结构、原理、特性及与高Tc材料的适应性和应用状况作了简要的评述。
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MOS器件热载流子效应的测试方法
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西安电子科技大学学报 1997年 第4期24卷 509-514页
作者: 张卫东 汤玉生 郝跃 西安电子科技大学微电子所 上海交通大学
对当前MOS器件中应用广泛的两种热载流子效应测试方法及其应用进行了详细论述.
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超导场效应器件的统一Y参数和小信号等效电路
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电子学报 1996年 第8期24卷 6-9页
作者: 蒋建飞 蔡琪 周正利 汤玉生 上海交通大学微电子技术研究所
本文基于超导场效应的小信号传输线模型的电流电压方程,建立了各种电路组态的本征的统一Y参数和小信号等效电路,提出了频变电阻、频变电感和频变电容的概念,为研究各类超导场效应器件和电路的高频特性和动力学提供了有力的基础.
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钟控神经MOS晶体管的建模及其电路仿真
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固体电子学研究与进展 2003年 第1期23卷 89-95页
作者: 曹亚明 汤玉生 上海交通大学微电子技术研究所 200030
神经 MOS晶体管 (简称 Neu MOS)是最近才发明出来的一种高功能度的多输入多阈值的新型 MOS器件。在其十年的发展历程中 ,一些新型结构又被陆续提出 ,以期获得更加优越的性能。文中建立了一种新型Neu MOS即钟控 Neu MOS晶体管的 PSPICE... 详细信息
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一种基于亚阈值区特性的CMOS四象限模拟乘法器
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微电子学 1998年 第6期28卷 421-425页
作者: 管慧 汤玉生 上海交通大学微电子技术研究所
讨论了基于MOS晶体管亚阈值区特性的CMOS四象限模拟乘法器的设计。分析了四种乘法器核的直流传输特性,给出的PSPICE模拟结果验证了理论分析。模拟结果表明,对于电源电压为1.5V(或±1.5V),当输入电压范围限于... 详细信息
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一种新型的开关共点耦合神经MOS晶体管
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固体电子学研究与进展 2003年 第1期23卷 23-26,34页
作者: 曹亚明 汤玉生 上海交通大学微电子技术研究所 200030
神经 MOS晶体管 (简称 Neu MOS)是一种多输入多阈值的高功能度新型 MOS器件。作者在其改进结构钟控神经 MOS晶体管的启发之下 ,提出了一种新型的开关共点耦合神经 MOS晶体管结构。在这种新的结构中 ,控制信号通道经传输门在一点接入浮... 详细信息
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一种亚微米垂直硅墙的刻蚀方法
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Journal of Semiconductors 1989年 第2期10卷 158-160页
作者: 汤玉生 蒋建飞 上海交通大学LSI微细加工研究所
亚微米垂直硅墙的制备是垂直硅薄膜耦合约瑟夫逊结的关键工艺.本文作者在普通光刻设备基础上,开发了一种在〈100〉硅片上制备亚微米硅墙的刻蚀方法:首先用普通光刻手段刻出较宽的墙区;其次,对非墙区进行迭加注入掺杂;第三,杂质高温横向... 详细信息
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动态应力下MOSFET的热载流子效应与可靠性
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固体电子学研究与进展 1998年 第4期18卷 399-407页
作者: 张卫东 汤玉生 郝跃 西安电子科技大学 微电子研究所710071 上海交通大学 微电子研究所200030
叙述了动态应力下MOS器件和电路的热载流子效应及可靠性研究进展。对当前MOS电路中的动态应力热载流子退化现象及其物理机制进行了详细论述,为动态应力下CMOS电路热载流子可靠性研究奠定了基础。还对动态应力热载流子可靠性的准静态表... 详细信息
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