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检索条件"作者=杨曜源"
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肿瘤治疗相关心脏毒性的危险因素和预测指标研究进展
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中国医药 2024年 第1期19卷 123-127页
作者: 杨曜源 李蒙 张立晶 刘畅 蔡新瑶 邢雁伟 北京中医药大学东直门医院心内科 北京100700 北京中医药大学 北京100029 中国中医科学院广安门医院心内科 北京100053
恶性肿瘤和心血管疾病是威胁人类生命健康的两个最重要的疾病,肿瘤患者合并心血管疾病更是临床中的一大难题。目前临床上许多肿瘤治疗方案具有潜在心脏毒性,随着诊疗技术不断发展,肿瘤患者生存期逐渐延长,肿瘤患者患心血管疾病的风险也... 详细信息
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科技进步对我国经济发展的贡献率分析
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现代商业 2019年 第3期 118-119页
作者: 杨曜源 长沙县第一中学 湖南长沙410138
当前我国经济转型的脚步越来越快,科技进步的重要性愈加凸显。本文立足于1978——2017年40年间的各种经济数据,通过实证分析得出了我国不同地区的资本贡献率、劳动贡献率和科技进步贡献率,进一步分析得知资金投入对我国经济发展仍有重... 详细信息
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关于学校教务管理工作的思考
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科教文汇 2009年 第34期 58-58,88页
作者: 杨曜源 北京邮电大学民族教育学院 北京102209
教务管理是教学管理的核心。本文探讨了教务管理工作的基础内容、根本作用和基本内涵,指出教务管理工作具有原则性、重复性与创新性并存的特点。要提高学校的教务管理工作水平,一方面要加强教务管理队伍建设,努力提高教务管理人员的素质... 详细信息
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低压化学气相沉积法制备ZnSe多晶及其性能研究
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稀有金属材料与工程 2005年 第2期34卷 306-308页
作者: 周育先 方珍意 潘伟 杨曜源 张力强 王向阳 肖红涛 中非人工晶体研究院 北京100018 清华大学 北京100084
以单质 Zn,Se 和 H2为原料,采用低压化学气相沉积方法在温度为 630℃~750℃,压力为 300 Pa~1 000 Pa条件下制备出了性能优异的 ZnSe 多晶材料。性能测试表明,制备出的 CVD ZnSe 多晶材料在 0.55 μm^22 μm, 及 8 μm^14 μm 波段的... 详细信息
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化学气相沉积法生长透明硒化锌多晶
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硅酸盐学报 2004年 第8期32卷 946-949页
作者: 杨曜源 方珍意 蔡以超 王向阳 张力强 肖红涛 田鸿昌 东艳萍 李卫 郝永亮 人工晶体研究院 北京100018
采用化学气相沉积 (CVD)法 ,在ZnSeH2 -Ar体系中生长了用于红外光学窗口的ZnSe透明多晶体。测定了ZnSe样品的XRD谱和红外透过光谱 ,用光学显微镜观察了样品的显微形貌 ;讨论了CVD工艺中生长参数对ZnSe晶体质量的影响。研究结果表明 :通... 详细信息
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硒化锌单晶的应用及制备技术
硒化锌单晶的应用及制备技术
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中国硅酸盐学会2003年学术年会
作者: 李卫 杨曜源 丁进 刘莹沙 方珍意 中非人工晶体研究院
目前用于蓝光LED的ZnSe宽带隙光发射器件的寿命远未达到实用化标准。研究认为,该器件快速退化的主要原因是Ⅱ-Ⅵ族ZnSe与现用基底材料Ⅲ-Ⅴ族GaAs界面的结构缺陷。目前大多数Znse基Ⅱ-Ⅵ化合物半导体是通过在GaAs基底上进行分子束外延(M...
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金刚石薄膜与CVD硫化锌复合技术的研究
金刚石薄膜与CVD硫化锌复合技术的研究
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中国硅酸盐学会2003年学术年会
作者: 李卫 刘莹沙 丁进 杨曜源 方珍意 中非人工晶体研究院
CVD硫化锌是在航空光学系统,特别是8~12μm波段(大气的第3个红外窗口)经常使用的红外材料,但该材料很软,在雨天和沙尘天气中容易受损。而金刚石薄膜红外透过波段宽,且有着高硬度、高热导率、良好的耐磨性、耐腐蚀性及化学稳定性等优良...
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CVD方法生长平面和曲面块状多晶硫化锌
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人工晶体学报 2000年 第1期29卷 30-33页
作者: 王和明 蔡以超 杨曜源 东燕萍 王永杰 闫泽武 人工晶体研究所 北京100018
采用化学气相沉积方法成功地生长出硫化锌多晶红外光学材料。加工后的成品多晶硫化锌尺寸为直径 150mm ,厚度为 6mm ;既有曲面的整流罩 ,又有平面窗口 ,蒸镀多层防反膜。由于采用了自制的活性硫化氢为原料 ,以及较好的工艺生长条件 ,生... 详细信息
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ZnS晶体的化学气相沉积生长
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人工晶体学报 2004年 第1期33卷 92-95页
作者: 杨曜源 李卫 张力强 蔡以超 王向阳 肖红涛 田鸿昌 东艳萍 方珍意 郝永亮 人工晶体研究院 北京100018
本文报道了用化学气相沉积(CVD)法生长ZnS透明多晶体的实验结果,对生长的晶体的物理化学性能进行了测试,讨论了化学气相沉积工艺中影响ZnS晶体质量的因素。结果表明:选用固体硫作原料,用化学气相沉积方法,可以沉积出透明ZnS多晶体;它的... 详细信息
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工艺参数对CVD ZnS沉积速率的影响
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人工晶体学报 2004年 第2期33卷 238-240页
作者: 杨曜源 蔡以超 东艳苹 张力强 王向阳 肖红涛 田鸿昌 李卫 郝永亮 方珍意 中非人工晶体研究院 100018
本文报道了CVD法制备ZnS晶体的制备工艺,系统地研究了气体流量、工作气压、基板温度等主要工艺参数对沉积速率的影响规律。实验表明,随着H2S(s)/Zn摩尔流量比的增加,沉积速率逐渐增大;基板温度升高,沉积速率加快;工作气压增大,沉积速率... 详细信息
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