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李艳秋著名先进光学制造技术专家

航空制造技术 2009年第14期52卷 32-33页

作者：李艳秋小颖北京理工大学

您从事物理学、光学领域教学和科研工作已有27年，期间完成了多个国内外项目，请您介绍一下取得的研究成果。

关键词：光学制造技术专家科研工作研究成果物理学国内外

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国家美术档案·李艳秋

环球市场信息导报（理论） 2013年第3期 I0012-I0013页

作者：李艳秋沈阳人陕西省书法家协会

李艳秋，满族，沈阳人。陕西省书法家协会常务副主席毕业于西安美术学院中国画专业及西安交通大学书法史论硕士研究生课程研究班。

关键词：西安美术学院李艳档案国家西安交通大学硕士研究生中国画专业课程研究

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李艳秋作品欣赏

中国监察 2010年第17期 F0004-F0004页

作者：李艳秋中国书法家协会陕西省书法家协会

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初中语文阅读与写作结合的教学策略浅谈

学周刊 2025年第03期 116-118页

作者：李艳秋河北省清河县第二中学

初中语文阅读与写作的结合，不仅能够培养学生良好的阅读习惯，助力其语言表达能力的逐渐提升，还能推动语文教学的改革和发展。文章分析了初中语文阅读与写作结合的重要性，并提出了科学合理地选择阅读材料、创新阅读教学的方法、开展... 详细信息

初中语文阅读与写作的结合，不仅能够培养学生良好的阅读习惯，助力其语言表达能力的逐渐提升，还能推动语文教学的改革和发展。文章分析了初中语文阅读与写作结合的重要性，并提出了科学合理地选择阅读材料、创新阅读教学的方法、开展写作实践活动、落实教学评价等具体教学策略，旨在更好地指导阅读与写作教学活动的开展，确保教学活动取得良好的效果。

关键词：初中语文阅读与写作结合策略

50nm分辨力极端紫外光刻物镜光学性能研究

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光学学报 2004年第7期24卷 865-868页

作者：李艳秋中国科学院电工研究所北京100080

极端紫外光刻 (EUVL)作为实现 10 0～ 32nm特征尺寸微细加工的优选技术 ,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODEV对 6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析 ,其分辨力可以实现 5 0nm ,曝光... 详细信息

极端紫外光刻 (EUVL)作为实现 10 0～ 32nm特征尺寸微细加工的优选技术 ,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODEV对 6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析 ,其分辨力可以实现 5 0nm ,曝光面积为 2 6mm× 1mm。结果表明 ,光学性能对曝光场点的依赖关系。在全曝光场中进行了光学性能分析 ,其最大畸变为 3.77nm ,最大波面差为 0 .0 31λ(均方根值 ) 。

关键词：应用光学光学设计极端紫外光刻下一代光刻

宽视场角1/4波片装调和加工误差对偏振检测的影响

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光学学报 2013年第6期33卷 122-130页

作者：董娟李艳秋北京理工大学光电学院北京100081

波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径(NA)成像系统,待测光不再平行于系统光轴,而是与系统光轴有较大夹角的圆锥形光束,所以在高NA的成像系统中使用的波片不是传统的两片式零级1/4波片,而是正负晶体组合的... 详细信息

波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径(NA)成像系统,待测光不再平行于系统光轴,而是与系统光轴有较大夹角的圆锥形光束,所以在高NA的成像系统中使用的波片不是传统的两片式零级1/4波片,而是正负晶体组合的四片式宽视场角(WVA)1/4波片。分析了WVA 1/4波片的装调角度误差(绕成像系统光轴的旋转误差和垂直于系统光轴的倾斜误差)、晶体的厚度和光轴加工误差所引起的附加相位差。分析结果显示,在NA为1.35的光刻系统中,当四片式WVA 1/4波片的装调角度误差和单片晶体光轴加工误差均为±2°时,后者比前者所引起的附加相位差大10倍以上。分析了WVA 1/4波片装调和加工误差引起的最大附加相位差对高NA光刻系统掩模面光偏振度(DOP)的影响。当WVA 1/4波片的附加相位差在±10°以内时,DOP的偏差可以控制在0.1%的范围内。

关键词：测量波片相位延迟误差光刻机偏振检测技术

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双液体层消色差氩氟浸没干涉光刻性能分析

中国激光 2010年第12期37卷 3007-3012页

作者：周远李艳秋长沙学院电子与通信工程系湖南长沙410003 北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室(筹) 北京100081

氩氟(ArF)浸没干涉光刻系统可产生高分辨周期图形,是研究高数值孔径ArF浸没光刻的有力工具。消色差ArF浸没干涉光刻系统能降低系统对曝光光源的相干性要求,实现高分辨率成像。提出了一种双液体层消色差浸没干涉光刻系统,由衍射理论和几... 详细信息

氩氟(ArF)浸没干涉光刻系统可产生高分辨周期图形,是研究高数值孔径ArF浸没光刻的有力工具。消色差ArF浸没干涉光刻系统能降低系统对曝光光源的相干性要求,实现高分辨率成像。提出了一种双液体层消色差浸没干涉光刻系统,由衍射理论和几何光学理论分析了系统的消色差原理和成像机制。对比传统的单液体层系统分析了其成像性能并分析其优点。结果表明,该系统的成像焦深和可分辨像场宽度较大且不依赖于激光光源的带宽;系统性能对外界环境不敏感,成像稳定性得到改善;该系统以简单的对称结构解决了干涉光刻成像中ArF准分子激光光源相干性差的问题,并保证了系统成像性能的稳定。

关键词：成像系统浸没干涉光刻消色差相干性焦深

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16～22nm极紫外光刻物镜工程化设计

光学学报 2013年第9期33卷 249-256页

作者：曹振李艳秋刘菲北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081

极紫外光刻是16～22nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26mm×1.5mm的极紫外光刻... 详细信息

极紫外光刻是16～22nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26mm×1.5mm的极紫外光刻投影物镜。详细分析和比较了两套物镜的光学性能和可制造性。结果表明,两套物镜结合分辨率增强技术可分别满足22nm和16nm光刻技术节点的性能要求。

关键词：光学设计投影物镜反射系统极紫外光刻

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降低乙烯装置能耗的技术措施

现代化工 2015年第5期35卷 137-139,141页

作者：李艳秋中国石油大庆石化公司黑龙江大庆163714

根据某新建60万t/a乙烯装置开工初期的能耗数据来分析乙烯能耗高的原因,分析总结出裂解原料、装置负荷、操作水平、能源损失是影响能耗的主要因素,采用优化裂解原料、提高装置负荷、精细操作、降低能源消耗等一系列节能技术和流程改造,... 详细信息

根据某新建60万t/a乙烯装置开工初期的能耗数据来分析乙烯能耗高的原因,分析总结出裂解原料、装置负荷、操作水平、能源损失是影响能耗的主要因素,采用优化裂解原料、提高装置负荷、精细操作、降低能源消耗等一系列节能技术和流程改造,最终实现了降低乙烯能耗的目的。

关键词：乙烯装置能耗分析降低能耗技术措施