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PLD制备的Cu掺杂SnS薄膜的结构和光学特性

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发光学报 2015年第11期36卷 1311-1319页

作者：刘磊余亮李学留汪壮兵梁齐合肥工业大学电子科学与应用物理学院安徽合肥230009

利用脉冲激光沉积(PLD)在玻璃衬底上制备了Cu掺杂SnS薄膜。靶材是由SnS和Cu2S粉末混合压制而成(Cu和Sn的量比分别为0%、2.5%、5%、7.5%和10%)。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见-近红外分光光度计(... 详细信息

利用脉冲激光沉积(PLD)在玻璃衬底上制备了Cu掺杂SnS薄膜。靶材是由SnS和Cu2S粉末混合压制而成(Cu和Sn的量比分别为0%、2.5%、5%、7.5%和10%)。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)、Keithley4200-SCS半导体参数分析仪研究了Cu掺杂量对SnS薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性质和电学性能的影响。结果表明:所制备的SnS薄膜样品沿(111)晶面择优取向生长,SnS∶5%Cu薄膜的结晶质量最好且具有SnS特征拉曼峰。随着Cu掺杂量的增大,平均颗粒尺寸逐渐增大。不同Cu掺杂量的薄膜在可见光范围内的吸收系数均为105cm-1数量级。SnS∶5%Cu薄膜的禁带宽度Eg为2.23eV,光暗电导率比值为2.59。同时,在玻璃衬底上制备了p-SnS∶Cu/n-ZnS异质结器件,器件在暗态及光照的条件下均有良好的整流特性,并具有较弱的光伏特性。

关键词： SnS薄膜脉冲激光沉积 Cu掺杂异质结器件

射频磁控溅射法制备SnS薄膜及其结构和光学特性

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发光学报 2016年第9期37卷 1114-1123页

作者：刘丹丹李学留李琳史成武梁齐合肥工业大学电子科学与应用物理学院安徽合肥230009 合肥工业大学化学与化工学院安徽合肥230009

利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积SnS薄膜并对其进行快速退火处理,利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、X射线能量色散谱(EDS)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外(UV-Vis-NIR)分光光度计研究了不同溅射功率(60~120 W)条件下制... 详细信息

利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积SnS薄膜并对其进行快速退火处理,利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、X射线能量色散谱(EDS)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外(UV-Vis-NIR)分光光度计研究了不同溅射功率(60~120 W)条件下制备的SnS薄膜的晶体结构、物相组成、化学组分、表面形貌以及有关光学特性。结果表明:经快速退火的薄膜均已结晶,提高溅射功率有利于改善薄膜的结晶质量、生长择优取向程度和化学配比,薄膜的平均颗粒尺寸呈增大趋势;溅射功率为100 W的薄膜样品的结晶质量和择优取向度高,薄膜应变最小,且为纯相SnS薄膜,Sn/S组分的量比为1∶1.09,吸收系数达10~5cm^(-1)量级,直接禁带宽度为1.54 eV。

关键词： SnS薄膜射频磁控溅射快速退火晶体结构光学特性

射频磁控溅射法制备SnS_2薄膜结构和光学特性的研究

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发光学报 2016年第12期37卷 1521-1531页

作者：李学留刘丹丹梁齐史成武于永强合肥工业大学电子科学与应用物理学院安徽合肥230009 合肥工业大学化学与化工学院安徽合肥230009

采用射频磁控溅射法溅射SnS_2靶,在玻璃基片上以不同射频功率和氩气压强制备一系列薄膜样品,研究了不同工艺条件对薄膜特性的影响。利用X射线衍射(XRD)和拉曼光谱(Raman)对薄膜样品的晶体结构和物相进行表征分析。利用X射线能量色散谱(E... 详细信息

采用射频磁控溅射法溅射SnS_2靶,在玻璃基片上以不同射频功率和氩气压强制备一系列薄膜样品,研究了不同工艺条件对薄膜特性的影响。利用X射线衍射(XRD)和拉曼光谱(Raman)对薄膜样品的晶体结构和物相进行表征分析。利用X射线能量色散谱(EDS)、紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)对SnS_2薄膜的化学组分、光学特性等进行测试,计算或分析了SnS_2薄膜样品的组分原子比、光学常数和光学带隙。结果表明:制备SnS_2薄膜的最佳工艺条件为射频功率60 W、氩气压强0.5 Pa。在该条件下,所制备的SnS_2薄膜沿(001)晶面择优取向生长,可见光透过率和折射率较高,消光系数较小,直接带隙为2.81 e V。在此基础上,进一步制备了n-SnS_2/p-Si异质结器件。器件具有良好的整流特性及弱光伏特性,反向光电流随光照强度的增加而增大。器件的光电导机制是由SnS_2禁带中陷阱中心的指数分布所控制。

关键词： SnS2薄膜射频磁控溅射光学特性异质结器件

射频磁控溅射法制备Cu_2SnS_3薄膜结构和光学特性的研究

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真空科学与技术学报 2017年第4期37卷 400-408页

作者：李学留刘丹丹史成武梁齐合肥工业大学电子科学与应用物理学院合肥230009 合肥工业大学化学与化工学院合肥230009

利用射频磁控溅射法并经快速退火处理制备Cu_2SnS_3薄膜,研究了使用SnS_2、Cu_2S混合靶(摩尔比分别为1∶1、1∶1.5、1∶2)及在不同溅射功率(40和80W)条件下所制备Cu_2SnS_3薄膜的晶体结构、物相组成、化学组分、表面形貌和光学特性。结... 详细信息

利用射频磁控溅射法并经快速退火处理制备Cu_2SnS_3薄膜,研究了使用SnS_2、Cu_2S混合靶(摩尔比分别为1∶1、1∶1.5、1∶2)及在不同溅射功率(40和80W)条件下所制备Cu_2SnS_3薄膜的晶体结构、物相组成、化学组分、表面形貌和光学特性。结果表明:混合靶的SnS_2、Cu_2S最佳摩尔比为1∶1.5,利用该靶所制备薄膜均结晶;在溅射功率为80 W条件下,所制备薄膜结晶质量和择优取向度高,应变最小,Cu∶Sn∶S摩尔比为1.89∶1∶2.77,平均颗粒直径和平均粗糙度分别为332和0.742 nm,吸收系数达到10~4cm^(-1),禁带宽度为1.32 eV。制备了n-Si/p-CTS异质结器件,器件具有良好的整流特性和光电流响应特性。

关键词： Cu2SnS3薄膜射频磁控溅射快速退火晶体结构光学特性

脉冲激光沉积结合快速退火制备SnS薄膜及其表征

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真空科学与技术学报 2016年第1期36卷 72-79页

作者：马明杰刘磊李学留陈士荣郭慧尔余亮梁齐合肥工业大学电子科学与应用物理学院合肥230009

利用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上生长、并经Ar保护下快速退火制备SnS薄膜。利用X射线衍射、拉曼光谱、X射线能量色散谱、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计等表征手段,对不同条件(脉冲激光能量:90和140 rnJ;退火温度:100~400℃... 详细信息

利用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上生长、并经Ar保护下快速退火制备SnS薄膜。利用X射线衍射、拉曼光谱、X射线能量色散谱、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计等表征手段,对不同条件(脉冲激光能量:90和140 rnJ;退火温度:100~400℃)下制备SnS薄膜的晶体结构、化学组分、表面形貌、光学特性等进行表征分析。结果表明:脉冲激光能量为140mJ、退火温度为300℃时所制备的SnS薄膜结晶质量良好、择优取向生长良好、成分接近理想配比(Sn:S=1:1.03)、光吸收系数为10~5 cm^(-1)量级。

关键词： SnS薄膜脉冲激光沉积快速退火光学特性

能量密度和重复频率对PLD法制备ZnS薄膜性质的影响

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电子元件与材料 2016年第8期35卷 27-32页

作者：李学留刘丹丹李琳马明杰文亚南梁齐合肥工业大学电子科学与应用物理学院安徽合肥230009

利用脉冲激光沉积法在玻璃基片上、以不同的能量密度和重复频率制备了一系列ZnS薄膜。利用X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见-近红外分光光度计,对ZnS薄膜的晶体结构、化学组分、光学特性等进行表征。结果表明:所制备ZnS薄膜为富... 详细信息

利用脉冲激光沉积法在玻璃基片上、以不同的能量密度和重复频率制备了一系列ZnS薄膜。利用X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见-近红外分光光度计,对ZnS薄膜的晶体结构、化学组分、光学特性等进行表征。结果表明:所制备ZnS薄膜为富硫贫锌,结晶质量良好,为(002)晶面择优取向生长。能量密度为7.5 J/cm^2、重复频率为2 Hz是生长高质量ZnS薄膜的条件,其所制备的ZnS薄膜为纤锌矿结构,结晶程度最高,择优取向度最高(189.2),Zn/S摩尔比值接近化学计量比,堆积密度最大(0.967),可见光透过率高,禁带宽度为3.55 eV。

关键词： ZnS薄膜脉冲激光沉积能量密度重复频率择优取向透过率

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提高学术期刊作者友好性

河南大学学报(社会科学版) 2025年第1期 143-147+156页

作者：李学成辽宁社会科学院

多年来，学术期刊是国内学者科研成果交流和传播的重要平台，也是青年学者科研工作起步的摇篮。学术期刊的高质量发展依存于优秀的作者队伍，它作为学术公器必须遵循公用的原则。故此，学术期刊不是为高端作者狭义的学术小圈子服务，而...

多年来，学术期刊是国内学者科研成果交流和传播的重要平台，也是青年学者科研工作起步的摇篮。学术期刊的高质量发展依存于优秀的作者队伍，它作为学术公器必须遵循公用的原则。故此，学术期刊不是为高端作者狭义的学术小圈子服务，而是要充分体现学术期刊对所有作者的友好性。学术期刊越来越重视工作流程的透明化，倡导友善办刊，其目的就是提高对作者的友好度。何云峰先生将期刊对作者的友好性归纳为“高透明度”“采稿公平”等四个方面。（1）

关键词：

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荧光法用于体液中微量氯离子检测研究进展

分析科学学报 2025年

作者：陈文博赵留创张雪芳胡乐乾河南工业大学化学化工学院

人体体液中微量氯离子的定量检测对于疾病预防和诊断具有重要意义。荧光分析法具有高灵敏度、高选择性和良好的时空分辨率等优势,在体液中氯离子检测方面有广阔的应用前景。本文基于荧光分子发光机理,将近十年用于氯离子检测的荧光分析... 详细信息

人体体液中微量氯离子的定量检测对于疾病预防和诊断具有重要意义。荧光分析法具有高灵敏度、高选择性和良好的时空分辨率等优势,在体液中氯离子检测方面有广阔的应用前景。本文基于荧光分子发光机理,将近十年用于氯离子检测的荧光分析方法总结为四类:碰撞猝灭、氢键作用、配体位移和荧光分子分解。详细阐述了各种荧光分析方法对氯离子定量检测的原理,讨论了它们的优缺点和适用范围。

关键词：氯离子人体体液荧光探针检测指标

外源脱落酸对镉胁迫下烟草抗氧化特性及镉积累的影响

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云南农业大学学报(自然科学) 2025年

作者：张留双韩佳祺谢徽杨金清何怡保志娟云南农业大学烟草学院红云红河集团红河卷烟厂

【目的】探究重金属镉(Cd)胁迫下，外源脱落酸(abscisic acid,ABA)对烟草抗氧化性和Cd积累的影响。【方法】以烟草K326为试验材料，分别对60 mg/kg Cd胁迫烟株喷施0、50、100和150 mg/L ABA溶液，测定烟叶抗氧化酶和抗坏血酸(ascorbic a... 详细信息

【目的】探究重金属镉(Cd)胁迫下，外源脱落酸(abscisic acid,ABA)对烟草抗氧化性和Cd积累的影响。【方法】以烟草K326为试验材料，分别对60 mg/kg Cd胁迫烟株喷施0、50、100和150 mg/L ABA溶液，测定烟叶抗氧化酶和抗坏血酸(ascorbic acid,AsA)—谷胱甘肽(glutathione,GSH)循环关键酶活性及烟株Cd含量。【结果】Cd胁迫下，烟叶丙二醛(malondialdehyde,MDA)、AsA和GSH含量以及超氧化物歧化酶(superoxide dismutase,SOD)、过氧化物酶(peroxidase,POD)、谷胱甘肽还原酶(glutathione reductase,GR)和抗坏血酸过氧化物酶(ascorbate peroxidase,APX)活性增加；烟株地上部和地下部Cd含量分别增加了54.5倍和31.5倍，转运系数显著提高了69.23%。喷施ABA后，烟叶MDA含量和SOD、POD活性较单一Cd胁迫显著降低，GSH含量和APX、GR活性随ABA质量浓度的增加呈先升高后下降的趋势；ABA处理24 h内，AsA含量在6～12 h剧烈上升，GSH含量在1～6 h剧烈上升，12 h后二者含量均逐渐下降或趋于稳定；烟株Cd含量随ABA质量浓度的增加而逐渐降低，Cd富集系数和转运系数显著小于单一Cd胁迫。【结论】外源喷施ABA可在一定程度上缓解Cd对烟草的氧化损伤，减少烟株Cd富集及向地上部转运。本研究中，150 mg/L ABA处理能最大程度降低烟株Cd积累。

关键词：脱落酸烟草镉胁迫抗氧化镉积累