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光学学报 1999年第3期19卷 398-401页

作者：易葵邵建达范正修袁利祥中国科学院上海光学精密机械研究所

介绍了软Ｘ射线多层膜分束镜的制备，采用腐蚀基底法和氯化钠脱膜分离法制备且获得了大面积的Ｍｏ／Ｓｉ多层膜分束镜．

关键词：软X射线多层膜分束镜腐蚀脱膜激光器

Study on high-reflective coatings of dif ferent designs at 532 nm

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Chinese Optics Letters 2014年第8期12卷 93-95页

作者：刘杰张伟丽崔辉孙建李豪易葵朱美萍 Key Laboratory of Materials for High Power Laser Shanghai Institute of Optics and Fine MechanicsChinese Academy of Sciences University of Chinese Academy of Sciences

Conventional HfO2/SiO2 and Al2O3/HfO2/SiO2 double stack high reflective （HR） coatings at 532 nm are deposited by electron beam evaporation onto BK7 substrates. The laser-induced damage threshold （LIDT） of two kinds of HR coatings is tested, showing that the laser damage resistance of the double stack HR coatings （16 J/cm2） is better than that of the conventional HR coatings （12.8 J/cm2）. Besides, the optical properties, surface conditions, and damage morphologies of each group samples are characterized. The results show that laser damage resistance of conventional HR coatings is determined by absorptive defect, while nodular defect is responsible for the LIDT of double stack HR coatings.

关键词： Aluminum coatings Hafnium oxides Laser damage Optical properties

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电子束蒸发镀膜速率控制

中国激光 2008年第10期35卷 1591-1594页

作者：王善成方明易葵邵淑英范正修中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 中国科学院研究生院北京100039

介绍了电子束蒸发镀膜速率控制的基本原理和方法,选取实际生产中大量使用且蒸发特性较难控制的SiO_2和HfO_2,对两者的电子束蒸发速率控制分别进行了实验研究。采用比例积分微分(PID)闭环反馈控制,通过Ziegler-Nichols工程经验公式进行... 详细信息

介绍了电子束蒸发镀膜速率控制的基本原理和方法,选取实际生产中大量使用且蒸发特性较难控制的SiO_2和HfO_2,对两者的电子束蒸发速率控制分别进行了实验研究。采用比例积分微分(PID)闭环反馈控制,通过Ziegler-Nichols工程经验公式进行原始参量整定,并在实验的基础上对控制器的原始参量进行调整以及对积分作用和微分作用进行分区处理,速率控制的实验结果表明,采用该参量整定方法并结合工艺流程的改进,能获得良好的速率控制。针对速率控制中存在的难点问题进行了分析,并提出改进措施:将速率控制和电子枪扫描控制相结合能进一步改善速率控制。

关键词：薄膜薄膜工艺速率控制比列积分微分控制

用于脉冲压缩光栅的宽带高分辨率光谱测量技术

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光学学报 2013年第10期33卷 21-26页

作者：何凯刘世杰侯永强李煦晋云霞易葵中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室上海201800 中国科学院大学北京100049

以多层介质膜或金属膜为基底的脉冲压缩光栅在利特罗角附近使用，具有衍射效率高、衍射光谱带宽等特点，需要对其衍射光谱进行高分辨率的准确测量，以便为其制作工艺的改进提供可靠依据。根据双光路测量原理，建立了衍射光栅高分辨率光... 详细信息

以多层介质膜或金属膜为基底的脉冲压缩光栅在利特罗角附近使用，具有衍射效率高、衍射光谱带宽等特点，需要对其衍射光谱进行高分辨率的准确测量，以便为其制作工艺的改进提供可靠依据。根据双光路测量原理，建立了衍射光栅高分辨率光谱测量技术和实验装置。重点阐述了双束光路设计消除光源波动和杂散光对衍射效率测试结果影响的原理，通过光路改进解决了衍射光斑过大，且不能被光探测器完全收集的技术难点以及衍射光与入射光共路导致的探测器挡光问题。该装置可以测量宽带脉冲压缩光栅各级次的反射衍射光谱和透射衍射光谱，也可以测量在固定波长处的衍射角谱分布。目前的衍射光谱测试分辨率为1nm，角谱分辨率为0．2°。采用该装置测量了脉冲压缩光栅样品的光谱与角谱，在衍射效率超过90％的770～870nm的衍射带内，多次测量的平均相对偏差小于1．0％，可能的测量误差小于2．2％。

关键词：光栅光谱学衍射效率宽带高分辨率

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离子束溅射沉积不同厚度铜膜的光学常数研究

光学学报 2006年第6期26卷 943-947页

作者：范平邵建达易葵齐红基范正修深圳大学理学院深圳518060 中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800

利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表明,在同一波长情况下,膜厚小于100 nm的纳米Cu膜光学常数随膜... 详细信息

利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表明,在同一波长情况下,膜厚小于100 nm的纳米Cu膜光学常数随膜厚变化明显;膜厚大于100 nm后,Cu膜的光学常数趋于一定值。Cu膜不连续时的光学常数与连续膜时的光学常数随波长变化规律不同;不同厚度的连续膜的光学常数随波长变化规律相同,但大小随膜厚变化而变化。

关键词：薄膜光学光学常数铜膜离子束溅射

Cu膜的光学特性尺寸效应及最小连续膜厚研究

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光子学报 2006年第10期35卷 1542-1546页

作者：范平邵建达易葵齐红基范正修深圳大学理学院应用物理系广东深圳518060 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心上海201800

采用离子束溅射在K9玻璃基底上沉积了不同厚度的Cu膜,利用Lambda-900分光光度计,测量了波长为310nm到1300nm范围内Cu膜的反射率和透射率.选定波长为310、350、400、430、550、632、800、1200nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚... 详细信息

采用离子束溅射在K9玻璃基底上沉积了不同厚度的Cu膜,利用Lambda-900分光光度计,测量了波长为310nm到1300nm范围内Cu膜的反射率和透射率.选定波长为310、350、400、430、550、632、800、1200nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行研究.同时,对Cu膜的光学常量也进行了讨论.结果显示,Cu膜的光学特性都有明显的尺寸效应.将波长为550nm时的反射率和透射率随Cu膜厚度变化关系的交点对应厚度作为特征厚度,该厚度可认为是金属Cu膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚.根据这一特征判据,离子束溅射沉积Cu膜样品的最小连续膜厚为33nm.利用原子力显微镜观测了膜厚在特征厚度附近时Cu膜的表面形貌.

关键词：薄膜物理学光学特性尺寸效应 Cu膜最小连续膜厚

基底亚表面裂纹对减反射膜激光损伤阈值的影响

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中国激光 2012年第8期39卷 148-153页

作者：杨明红赵元安苏涵韩单海洋易葵邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室上海201800 中国科学院研究生院北京100049

利用化学沥滤技术,分析了亚表面裂纹对基底表面和减反射膜激光损伤阈值(LIDT)的影响。通过去除或保留研磨裂纹,获得了亚表面裂纹数密度有明显区别的两类基底。为了凸出亚表面裂纹层的作用,基底采用化学沥滤去除另外一种可能的影响因素,... 详细信息

利用化学沥滤技术,分析了亚表面裂纹对基底表面和减反射膜激光损伤阈值(LIDT)的影响。通过去除或保留研磨裂纹,获得了亚表面裂纹数密度有明显区别的两类基底。为了凸出亚表面裂纹层的作用,基底采用化学沥滤去除另外一种可能的影响因素,即再沉积层中的抛光杂质。然后采用电子束蒸发镀制HfO2/SiO2减反射膜。355nm激光损伤阈值测试结果和损伤形貌分析证实了基底亚表面裂纹对减反射膜抗激光损伤能力的负面影响。根据熔石英基底抛光表面的烘烤现象,提出了亚表面缺陷影响膜层激光损伤的耦合模型。

关键词：薄膜激光损伤化学沥滤减反射膜亚表面缺陷研磨裂纹

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溅射粒子能量对金属Mo薄膜表面特性的影响

物理学报 2004年第12期53卷 4398-4404页

作者：齐红基易葵贺洪波邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800

利用原子力显微镜研究了不同溅射离子能量对Mo薄膜表面形貌的影响 .利用特殊设计的夹具 ,在同一真空内完成所有薄膜样品的制备 ,减少了多次沉积过程对薄膜生长特性的影响 .对原子力显微镜测量得到的表面高度数据进行相关运算 ,从统计角... 详细信息

利用原子力显微镜研究了不同溅射离子能量对Mo薄膜表面形貌的影响 .利用特殊设计的夹具 ,在同一真空内完成所有薄膜样品的制备 ,减少了多次沉积过程对薄膜生长特性的影响 .对原子力显微镜测量得到的表面高度数据进行相关运算 ,从统计角度定量地研究了不同沉积能量下Mo薄膜表面特性 .结果表明 ,薄膜表面具有典型的分形特征 ,在相关运算的基础上给出了表面的分形维数、水平相关长度、界面宽度等参数 .其中 ,屏栅电压为 5 0 0V时制备的薄膜样品与 30 0和 70 0V时制备的薄膜样品表面的界面宽度及水平相关长度具有倍数差别 ,但三种溅射电压下薄膜表面的分形维数均接近于 2 分形维数表明Mo薄膜生长过程可以用Mullins扩散模型来描述 .另外 ,采用俄歇测试技术对薄膜深度方向的组分进行了分析 .

关键词：薄膜生长相关长度表面特性相关运算溅射粒子宽度离子能量原子力显微镜测试技术

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几种氟化物薄膜材料的光学特性

光学精密工程 2009年第7期17卷 1507-1512页

作者：薛春荣易葵邵建达范正修中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 常熟理工学院江苏新型功能材料实验室江苏常熟215500 中国科技大学国家同步辐射实验室安徽合肥230019

为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底... 详细信息

为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底温度镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120～300nm的透射光谱曲线,用商用lambda900光谱仪测量了它们190～500nm的透射光谱曲线,两者相结合标定了透射率的准确值。用包络法和模拟退火相结合研究了它们在120～500nm的折射率和消光系数,给出了6种氟化物材料的光谱色散曲线。结果显示,3种高折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.77～1.89,而3种低折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.44～1.48;研究表明,选用折射率相差较大的高、低折射率氟化物薄膜,可在膜系设计中组成高低折射率材料对,用于设计各种实用的薄膜器件。

关键词：真空紫外同步辐射氟化物材料光学特性

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周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率

光子学报 2006年第8期35卷 1191-1193页

作者：秦俊岭易葵邵建达范正修中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院北京100039

由于界面互扩散的存在,实际的超薄多层膜很难具有清晰的界面结构.假设超薄多层膜为具有周期性梯度折射率的多层膜结构,用直线模型和余弦模型模拟了周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率.结果证明,折射率余弦渐变的多层膜虽然不具有清... 详细信息

由于界面互扩散的存在,实际的超薄多层膜很难具有清晰的界面结构.假设超薄多层膜为具有周期性梯度折射率的多层膜结构,用直线模型和余弦模型模拟了周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率.结果证明,折射率余弦渐变的多层膜虽然不具有清晰的界面,但它同样具有很高的反射率.

关键词：余弦模型梯度折射率多层膜软X射线反射率