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电弧喷涂过程中铁基粒子的氧化影响规律
电弧喷涂过程中铁基粒子的氧化影响规律
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作者: 彭怡刚 北京工业大学
学位级别:硕士
喷涂粒子的氧化在电弧喷涂工艺中是十分普遍的现象,而氧化会对喷涂粒子和涂层带来诸多不利的影响。针对这一问题,本文从材料和工艺两方面出发,采用电弧喷涂方法,以Fe基涂层3Cr13为基础合金体系,研究电弧喷涂工艺参数、合金元素B、S... 详细信息
来源: 同方学位论文库 同方学位论文库 评论
AZ31表面电弧喷涂Al-FeAl复合涂层的研究
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热加工工艺 2013年 第18期42卷 112-114,118页
作者: 彭怡刚 吴玉锋 北京工业大学材料科学与工程学院 北京100124 北京工业大学循环经济研究院 北京100124
采用电弧喷涂技术,以纯Al层为喷涂打底层,在AZ31镁合金表面沉积了Al-FeAl复合涂层。采用光学显微镜、SEM、XRD、EDS等方法探测了复合涂层的截面形貌,分析了复合涂层的界面行为。对复合涂层进行了磨粒磨损试验和电化学腐蚀试验。结果表明... 详细信息
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强流氘氚中子源用TiD_(2)靶膜制备技术研究
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原子能科学技术 2022年 第S1期56卷 265-271页
作者: 梁斌斌 巴伟伟 王子默 彭怡刚 高翔 刘超 原子高科股份有限公司 北京102413
基片镀膜是氘/氚靶制备过程的重要工序,靶膜的性能直接影响充氘及中子实验。本文对去除表面污渍和氧化层后的基片采用磁控溅射进行镀膜,研制性能优良的强流氘氚中子源用靶膜。采用扫描电镜观察膜层表面外观形貌,根据称重法用电子天秤测... 详细信息
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大面积氘/氚靶制备及中子产额分析
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核化学与放射化学 2024年 第2期46卷 137-142,I0005页
作者: 梁斌斌 巴伟伟 王子默 彭怡刚 高翔 原子高科股份有限公司 北京102413
大面积氘/氚靶是实现高产额强流中子源的关键部件,是氘、氚中子源广泛应用的前提条件。本工作采用磁控溅射镀膜与多弧离子镀结合的方式,制备以铜或钼为基底、直径大于500 mm的大面积钛膜。针对制备的钛膜,采用自研的氘/氚靶生产系统,经... 详细信息
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85Kr测厚源在锂电池极片面密度测量的应用研究
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同位素 2024年
作者: 白云飞 梁斌斌 彭怡刚 葛铮 开封市测控技术有限公司 原子高科股份有限公司
为满足85Kr测厚源在新能源锂电行业的应用,对测厚源在锂电池极片面密度测量方面开展应用研究。比较分析不同规格的85Kr测厚源的源窗材料、源窗厚度、活性区尺寸以及活度大小对β射线输出量的影响,完成在锂电池极片实际生产过程中,85K... 详细信息
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^(85)Kr测厚源制备及焊接性能分析
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同位素 2022年 第6期35卷 519-524,I0004页
作者: 梁斌斌 彭怡刚 王子默 巴伟伟 高翔 刘超 原子高科股份有限公司 北京102413
为保证^(85)Kr测厚源的密封质量,通过^(85)Kr测厚源结构设计、焊接工艺参数优化,制备合格的^(85)Kr测厚源。铜管与壳体的连接采用真空钎焊工艺,钎焊温度约900℃,时间约30 min;源窗与壳体的连接采用电子束焊工艺,焊接电流7 mA,焊接转速13... 详细信息
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^(85)Kr测厚源的输出性能研究
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同位素 2021年 第2期34卷 127-132页
作者: 彭怡刚 梁斌斌 王子默 巴伟伟 刘超 高翔 原子高科股份有限公司 北京102413
为指导85 Kr测厚源的制备,采用两种材质、两种活性区、两种丰度的85 Kr原料气制备一批同等活度(7.4 GBq)的测厚源,采用自行研制的85 Kr源β输出电压装置对制备的测厚源输出电压进行测量。结果表明,采用钛材质、小活性区、20%丰度原料的... 详细信息
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电弧喷涂过程中的飞行粒子及其氧化问题
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热喷涂技术 2014年 第1期6卷 16-23页
作者: 彭怡刚 贺定勇 周正 张发云 王曾洁 蒋建敏 北京工业大学材料科学与工程学院 北京100124 环保部核与辐射安全中心 北京100088
简述了电弧喷涂过程中粒子的形成、电弧喷涂参数对粒子性质的影响,探讨了粒子的氧化问题和控制方法。
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彭怡平艺术笔记
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2014年
作者: 彭怡
来源: 南通市图书馆图书 评论
基于步态分析技术的三向单足落步荷载曲线试验建模
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土木工程学报 2014年 第3期47卷 79-87页
作者: 陈隽 彭怡 王玲 同济大学 上海200092 香港理工大学
对单人步行荷载模型进行试验建模研究。采用三维动作捕捉技术结合三向(竖向、水平前进和水平横向)测力板,分两阶段开展100人次慢速、正常和快速3种自由行走以及1.5Hz、1.75Hz、2.0Hz及2.25Hz 4种固定行走频率工况的单人行走荷载试验。... 详细信息
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