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液晶面板PI层电荷累积和释放过程分析

液晶与显示 2010年第3期25卷 351-354页

作者：张武勤郑州大学电气工程学院河南郑州450044 郑州师范高等专科学校物理系河南郑州450044

液晶显示器的聚酰亚胺配向层(Polyimide,PI)电荷累积过程属于凝聚态物理的电介质理论范畴,由于电介质物理理论还不够完整,造成液晶显示器PI层电荷累积和释放过程机理不甚清晰。文章应用麦克斯韦方程组分析液晶PI层表面电荷累积过程,应... 详细信息

液晶显示器的聚酰亚胺配向层(Polyimide,PI)电荷累积过程属于凝聚态物理的电介质理论范畴,由于电介质物理理论还不够完整,造成液晶显示器PI层电荷累积和释放过程机理不甚清晰。文章应用麦克斯韦方程组分析液晶PI层表面电荷累积过程,应用可将快慢效应分开的时域谱学理论分析慢电荷的释放过程,得出液晶面板PI层和液晶层接触面电荷累积与两者的介电常数和电导率的关系,以及累积慢电荷的释放时间常数与PI层厚度的关系。

关键词：电荷极化快电荷慢电荷

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类球状微米金刚石聚晶膜场发射的稳定性

发光学报 2009年第6期30卷 872-876页

作者：高金海张武勤张兵临郑州师范高等专科学校物理系河南郑州450044 郑州大学物理工程学院河南郑州450052

在覆盖金属钛层的陶瓷上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶膜。通过二极管结构测试了聚晶膜的场致电子发射特性,利用扫描电子显微镜、拉曼光谱、XRD分析了场发射前后薄膜的结构和表面形貌的变化。发现... 详细信息

在覆盖金属钛层的陶瓷上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶膜。通过二极管结构测试了聚晶膜的场致电子发射特性,利用扫描电子显微镜、拉曼光谱、XRD分析了场发射前后薄膜的结构和表面形貌的变化。发现在高场、大电流密度的场发射中,对类球状微米金刚石聚晶薄膜中的金刚石聚晶颗粒影响很小,而对金刚石聚晶颗粒间的非晶碳层影响很大。对类球状微米金刚石聚晶变化机理进行了研究。

关键词：微波等离子体化学气相沉积场致电子发射金刚石聚晶

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实现多机床同步运行的短暂停留离合器

江苏机械 1983年第3期 28-33页

作者：张武勤

短暂停留离合器在可控超越离合器基础上演变而来。通过周期性脉冲信号控制,可实现50～60毫秒的停留。利用它可实现由普通三相交流异步电机驱动的单机同步运行。运行特点:被控制机(转一转,停一停),清除不同步因素。

关键词：同步运行挡铁超越离合器机床星轮控制轴小钩

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过渡层对类球状微米金刚石聚晶的场发射影响

液晶与显示 2010年第4期25卷 519-522页

作者：张武勤高金海郑州大学电气工程学院河南郑州450044 郑州师范高等专科学校物理系河南郑州450044

在陶瓷衬底上通过磁控溅射方法镀上金属Ti层后,改用CH4为溅射气体制备一层碳化物过渡层,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜。利用扫描电子显微镜、拉曼光谱和x-射线衍射分析了薄膜的结构和表面形貌... 详细信息

在陶瓷衬底上通过磁控溅射方法镀上金属Ti层后,改用CH4为溅射气体制备一层碳化物过渡层,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜。利用扫描电子显微镜、拉曼光谱和x-射线衍射分析了薄膜的结构和表面形貌。测试了类球状微米金刚石聚晶膜的场致电子发射特性,有过渡层制备的类球状微米金刚石聚晶膜的场发射开启电场仅为0.9V/μm,在2.5V/μm的发射电场下电流密度是10.8mA/cm2,而无过渡层制备的类球状微米金刚石聚晶膜的开启电场为1.27V/μm,在2.5V/μm的发射电场下电流密度是0.5mA/cm2。实验结果表明,有碳化物过渡层的类球状微米金刚石聚晶薄膜的场发射特性效果更好。

关键词：微波等离子体化学气相沉积场致电子发射类球状微米金刚石聚晶

一种机械—液压集中驱动的九工位回转工作台式小型组合机床

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组合机床与自动化加工技术 1974年第4期 17-29页

作者：张武勤常州机床厂

我厂与大连组合机床研究所联合设计、我厂试制成功了一种机械—液压集中驱动的回转工作台式小型组合机床(机床型号为CZU—1298、CZU—1299、CZU1302),图1所示为CZU-1302机床外观。这种传动方式的机床主要特点为: 1)使机床和动力头结构... 详细信息

我厂与大连组合机床研究所联合设计、我厂试制成功了一种机械—液压集中驱动的回转工作台式小型组合机床(机床型号为CZU—1298、CZU—1299、CZU1302),图1所示为CZU-1302机床外观。这种传动方式的机床主要特点为: 1)使机床和动力头结构简化、动力头轮廓尺寸小。 2)与纯机械传动的集中驱动多工位组合机床相比,动力头便于作复杂的空间布置,提高了机床配置的灵活性。 3)机床的控制系统简单,使用的电气、液压元件少,减少了控制系统的故障,提高了机床工作的可靠性。

关键词：动力头死挡铁集中驱动滑套油缸活塞压力油组合机床工位安全阀弹簧传动系统

沉积时间对球状微米金刚石聚晶结构的生长及其场发射特性影响

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光子学报 2011年第8期40卷 1253-1256页

作者：高金海李桢张武勤张兵临郑州师范学院物理系郑州450044 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室郑州450052

利用微波等离子体化学气相沉积法,在覆盖金属钛层的陶瓷衬底上,通过改变沉积时间制备出不同结构的类球状微米金刚石聚晶碳膜.通过扫描电子显微镜、喇曼光谱、X射线衍射谱对碳膜进行了分析测试,并研究了不同沉积时间下沉积的类球状微米... 详细信息

利用微波等离子体化学气相沉积法,在覆盖金属钛层的陶瓷衬底上,通过改变沉积时间制备出不同结构的类球状微米金刚石聚晶碳膜.通过扫描电子显微镜、喇曼光谱、X射线衍射谱对碳膜进行了分析测试,并研究了不同沉积时间下沉积的类球状微米金刚石聚晶薄膜的场致电子发射特性.结果显示:不同的沉积时间所制备的碳膜形貌有很大变化,场致电子发射的效果也有很大不同,从而得出了场增强因子的降低和导电通道的增长是场发射效果变差的主要原因.

关键词：微波等离子体化学气相沉积场致电子发射类球状微米金刚石聚晶

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玻璃上低温沉积碳纳米管薄膜及其场发射研究

功能材料与器件学报 2013年第2期19卷 69-72页

作者：高金海李桢张武勤张兵临郑州师范学院物理系河南郑州450044 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室河南郑州450052

本文从事的研究是碳纳米管(CNT)薄膜的制备及场发射效果分析。在普通玻璃衬底上用磁控溅射方法镀上金属钛层,用含铁杂质的碳化硅微粒对钛层进行抛光。利用微波等离子体化学气相沉积法,在小于500℃衬底温度下快速制备出CNT膜。通过扫描... 详细信息

本文从事的研究是碳纳米管(CNT)薄膜的制备及场发射效果分析。在普通玻璃衬底上用磁控溅射方法镀上金属钛层,用含铁杂质的碳化硅微粒对钛层进行抛光。利用微波等离子体化学气相沉积法,在小于500℃衬底温度下快速制备出CNT膜。通过扫描电子显微镜、拉曼光谱,分析了薄膜的表面形貌和结构特性。通过二级管结构测试了聚晶膜的场致电子发射特性,对于制备的碳膜,在电场?时,最大场发射电流密度达?。并对其发射机理进行了研究。

关键词：微波等离子体化学气相沉积碳纳米管场致电子发射

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金刚石薄膜的形成及其场发射特性研究

半导体光电 2018年第6期39卷 828-831页

作者：高金海张武勤李桢张兵临郑州师范学院物理系郑州450044 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室郑州450052

研究了金刚石聚晶碳膜的生长过程,以及不同生长阶段碳膜的场发射性能。通过磁控溅射法在陶瓷上镀一层金属钛作为制备碳膜的衬底,将衬底放入微波等离子体化学气相沉积腔中,经过不同的沉积时间制备出一系列的碳膜。利用SEM、Raman光谱仪、... 详细信息

研究了金刚石聚晶碳膜的生长过程,以及不同生长阶段碳膜的场发射性能。通过磁控溅射法在陶瓷上镀一层金属钛作为制备碳膜的衬底,将衬底放入微波等离子体化学气相沉积腔中,经过不同的沉积时间制备出一系列的碳膜。利用SEM、Raman光谱仪、X射线衍射仪等仪器,对碳膜进行了形貌与成分分析,最后利用二极结构场发射装置,测试了碳膜的场发射性能。着重讨论了金刚石聚晶碳膜生长过程中的变化,并且对金刚石聚晶碳膜的场发射机理进行了深入研究。

关键词：微波等离子体化学气相沉积场致电子发射金刚石聚晶碳膜

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液晶面板极化电荷缓慢释放的分析

信息系统工程 2010年第4期23卷 73-74页

作者：张武勤郑州大学电气工程学院郑州师范高等专科学校物理系河南郑州450044

运用电介质极化效应理论对液晶面板PI层上的极化电荷缓慢释放过程进行分析,得出了液晶面板PI层上聚集电荷缓慢释放的时间和液晶分子层厚度或液晶盒厚度成正比的结论。

关键词：液晶 PI层极化电荷