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作者：张晶心山东大学

学位级别：硕士

随着经济时代的快速发展和我国新股发行市场化改革的推进,IPO成为越来越多的公司倾向选择的融资渠道之一。然而相比于西方发达国家,我国证券市场中的信息不对称现象更为明显,使得IPO抑价率居高不下,其影响因素可以从市场不同参与者的角... 详细信息

随着经济时代的快速发展和我国新股发行市场化改革的推进,IPO成为越来越多的公司倾向选择的融资渠道之一。然而相比于西方发达国家,我国证券市场中的信息不对称现象更为明显,使得IPO抑价率居高不下,其影响因素可以从市场不同参与者的角度进行考虑。从发行人角度来看,高新技术类发行公司需要持续投入资本进行研究开发,其研发投入份额虽然是构成核心竞争力的基础,但却由于具有高风险性、长期性、价值不确定性以及披露不完全的特性成为加深证券市场各方主体之间信息不对称现象的根源之一,进而成为影响IPO抑价现象的因素之一。从中介机构角度来看,承销商作为证券市场中主要的中介机构,其职责是对发行人进行尽职调查,并将调查所得结果以出具发行文件的方式向投资者传递相关信息,因此起到了调节证券市场中不同主体之间信息不对称的桥梁作用。而承销商的声誉是承销商历次承销水平的市场综合评价,声誉越高的承销商,由于能够获得投资者的更多信赖和认可,也就更加被发行人尤其是高质量发行人所青睐,从而成为调节证券市场各方信息不对称现象的关键一环,因此承销商声誉成为影响IPO抑价现象以及调节研发投入与IPO抑价之间关系的因素。本文基于信息不对称理论、承销商声誉理论以及市场反馈理论,将现有的从研发投入、承销商声誉角度解释IPO抑价的相关文献进行梳理和总结,分别分析了研发投入和承销商声誉对IPO抑价的影响作用以及承销商声誉对研发投入与IPO抑价现象的调节作用,并相应提出假设,设计变量并构建模型;之后选用所有在2010年到2018年之间上市且披露了研发投入信息的577家A股高新技术类企业作为样本进行假设的验证和回归结果的分析;继而对研发投入的滞后效应,IPO停摆的影响,是否在创业板上市的影响以及总承销费用高低的影响进行了一系列探究形成进一步分析;最后根据上述分析及验证结果得出结论。本文主要取得以下结论。第一,拟上市公司的研发投入对IPO抑价有正向影响作用。第二,拟上市公司所选择的承销商的声誉对IPO抑价有负向影响作用。第三,承销商声誉对研发投入导致的IPO抑价水平产生负向调节作用。第四,暂停IPO进行证券市场严格整顿有助于推动证券市场的有效运行。第五,创业板以及为创业板服务的承销商对高新技术企业的容纳性和鉴别风险能力更强。第六,总承销费用既是承销商声誉发挥作用的一种催化剂,同时也是识别上市公司研发投入效率和IPO合理定价的一种代价。最后,本文根据六个结论分别从拟上市公司信息披露制度改善,承销商专业化能力提升,投资者教育,证券市场监管,上市板块清晰定位和承销费用制定六个方面给出政策性建议,并进行局限性分析和展望提出。

关键词：研发投入承销商声誉 IPO抑价信息不对称

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薄膜微结构的光波位相调制特性研究

薄膜微结构的光波位相调制特性研究

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作者：张晶心西安工业大学

学位级别：硕士

氮化硅微金字塔结构化薄膜具有宽波段的减反射效果,基于微机电系统的传统制备方法只能获取底面角度为直角的微金字塔结构。本文发挥单点金刚石切削制备微金字塔结构的优势,通过对切削方向的调整,实现了对微金字塔结构阵列底面角度的0°... 详细信息

氮化硅微金字塔结构化薄膜具有宽波段的减反射效果,基于微机电系统的传统制备方法只能获取底面角度为直角的微金字塔结构。本文发挥单点金刚石切削制备微金字塔结构的优势,通过对切削方向的调整,实现了对微金字塔结构阵列底面角度的0°～90°的控制。通过对底面角度可变的氮化硅微金字塔结构化薄膜的近场光场调制特性的仿真分析与实验研究,证明了薄膜光学微金字塔结构化薄膜可以实现对光束传播方向与能量分布进行调制,改变微金字塔结构的底面角度,可以让光波按照底角的设计传播,这一现象为为光电系统的光路设计提供了更广的自由度。针对氮化硅微金字塔结构化薄膜的近场光场调制特性进行仿真分析。通过时域有限差分的方法,仿真计算可见光波段,不同波长下,薄膜光学微金字塔结构阵列的位相调制结果。揭示了入射电磁波经微结构的调制,位相分布的规律。仿真结果表明在可见光波段,随着波长的增加,位相变化呈周期性分布,从而导致不同波长的电磁波自微结构透射呈现波长从大到小的规律性分布,这与几何光学的理论分析结果一致。基于射线追踪方法,并结合有限元的数值计算理论,分析金字塔结构对光线传播方向的调制结果。仿真结果表明,光波通过金字塔微结构阵列,被调制成四束光波往不同的方向传播,且每束光波携带了自身微结构阵列的波前相位特征信息。基于仿真结果本文将单点金刚石切削技术与传统微机电系统制备技术相结合,发挥单点金刚石切削制备微金字塔结构的优势,通过对切削方向的调整,实现了氮化硅微金字塔结构化薄膜底面角度0°～90°的控制。利用PECVD技术制备了厚度达4μm的氮化硅薄型特点的纳米热压印技术来制备薄膜微金字塔结构的方法操作简单,成本低、分辨率高。实验结果表明纳米压印技术制备微结构能够保留金字塔微结构的完整性,达到接近于1:1的图形转移。利用ICP刻蚀技术分别在氮化硅薄膜和环氧树脂进行刻蚀实验,实验得到最优参数为:SF6:45sccm、ICP功率:430w、RF功率:12w、压强:12 mTorr时,氮化硅薄膜的刻蚀速率为16.98nm/s,环氧树脂压印胶的刻蚀速率为23.55nm/s,氧化硅薄膜和压印胶的刻蚀速率比为1:1.39。针对制备得到的不同底面角度的薄膜微金字塔结构进行透射率及透射光场分布检测。在1000～2500nm波段,Si基底的平均透过率为55%,SiNx薄膜的透过在55%与70%之间正弦型振荡,微结构的透过率消除了薄膜的振荡效应,且底角为45°的微棱锥结构具有最高的透过率。近红外透射率增强的位置受到薄膜微金字塔结构的深宽比的影响。透射光场的分布与微结构的底面角度具有一致性,与仿真计算的结果相符。通过对微结构的尺寸以及底面角度的设计,可以实现对散射光的强弱、方向的控制。

关键词：薄膜微光学单点金刚石技术纳米压印技术金字塔结构

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